技術(shù)編號：12116348
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及薄膜制備技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種曝光設(shè)備及曝光方法。背景技術(shù)顯示產(chǎn)品的高世代線生產(chǎn)線是用于生產(chǎn)32英寸以上的大尺寸產(chǎn)品，曝光工藝中采用的掩膜板尺寸較大，在曝光過程中掩膜板在其自身重力作用下會發(fā)生下垂，導(dǎo)致掩膜板與待曝光基板之間的曝光間隙不一致，從而影響曝光均一性。目前業(yè)內(nèi)多采用在掩膜板的上部形成負壓方式，使掩膜板下部的壓力高于掩膜板上部的壓力，通過壓力差來支撐掩膜板，達到減輕掩膜板的下垂量，從而改善曝光均一性效果，但效果并不理想。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明提供一種曝光設(shè)備及曝光方法，用以解決掩膜板...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。