1.一種薄膜圖形化方法，其特征在于，包括：
提供一基板，所述基板包括薄膜堆積區(qū)域以及非薄膜堆積區(qū)域；
在所述非薄膜堆積區(qū)域上形成一可剝膠層；
對所述可剝膠層進行固化處理；
在所述可剝膠層以及所述薄膜堆積區(qū)域上形成一薄膜；
去除所述可剝膠層以及位于所述可剝膠層上的所述薄膜，以形成圖形化薄膜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜圖形化方法，其特征在于，可采用網(wǎng)印、噴涂以及涂布的方式在所述非薄膜區(qū)域上形成一可剝膠層。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的薄膜圖形化方法，其特征在于，所述在所述非薄膜堆積區(qū)域上形成一可剝膠層的步驟，包括：
在所述薄膜堆積區(qū)域上貼合掩膜板；
在所述非薄膜堆積區(qū)域上形成一所述可剝膠層；
移除所述掩膜板。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的薄膜圖形化方法，其特征在于，所述移除掩膜板的步驟后，可對所述薄膜堆積區(qū)域進行檢查，如果在所述薄膜區(qū)域上覆蓋所述可剝膠層，則去除所述薄膜區(qū)域上的所述可剝膠層。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜圖形化方法，其特征在于，所述可剝膠層的厚度介于1-30微米之間。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜圖形化方法，其特征在于，可采用加熱的方式對所述可剝膠層進行固化處理。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜圖形化方法，其特征在于，可采用紫外線照射的方式對所述可剝膠層進行固化處理。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜圖形化方法，其特征在于，在所述非薄膜堆積區(qū)域上形成可剝膠的步驟前，對所述基板進行清潔工序。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜圖形化方法，其特征在于，可采用機械剝離的方式去除所述可剝膠層以及位于所述可剝膠層上的所述薄膜。
10.根據(jù)權(quán)利要去1所述的薄膜圖形化方法，其特征在于，可采用手工剝離的方式去除所述可剝膠層以及位于所述可剝膠層上的所述薄膜。