技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種顯影均勻性檢測方法，包括以下步驟：曝光模式預(yù)設(shè)：根據(jù)承印晶圓的規(guī)格，在光刻機上進行多個曝光陣列位置的設(shè)定，所述曝光陣列由多個曝光單元格整齊排列而成，多個曝光陣列均采用相同的曝光能量設(shè)定進行曝光；承印晶圓涂膠、曝光并顯影：將承印晶圓涂覆光刻膠后，置于光刻機內(nèi)，采用預(yù)設(shè)的曝光模式進行曝光后進行顯影處理；顯影均勻性判定：根據(jù)每個曝光陣列中白色曝光單元格的數(shù)量，計算每個曝光陣列的中間顯影能力值，中間顯影能力值等于白色曝光單元格對應(yīng)的曝光能量值的平均值，比對不同位置曝光陣列的中間顯影能力值，即可完成顯影均勻性判斷。本發(fā)明操作簡單，有效提高了顯影均勻性檢測的效率。

技術(shù)研發(fā)人員：周兵兵
受保護的技術(shù)使用者：蘇州同冠微電子有限公司
文檔號碼：201610764846
技術(shù)研發(fā)日：2016.08.30
技術(shù)公布日：2016.11.23