1.一種顯影均勻性檢測方法，包括以下步驟：
S101.曝光模式預設：根據承印晶圓的規(guī)格，在光刻機上進行多個曝光陣列位置的設定，所述曝光陣列由多個曝光單元格整齊排列而成，多個曝光陣列均采用相同的曝光能量設定進行曝光；
S102.承印晶圓涂膠、曝光并顯影：將承印晶圓涂覆光刻膠后，置于光刻機內，采用預設的曝光模式進行曝光后進行顯影處理；
S103.顯影均勻性判定：觀察顯影后承印晶圓上曝光陣列中的曝光單元格，其中，曝光單元格呈黑色代表有大量光刻膠殘留；曝光單元格呈彩色代表有少量光刻膠殘留；曝光單元格呈白色代表顯影干凈，沒有光刻膠殘留；根據每個曝光陣列中白色曝光單元格的數量，計算每個曝光陣列的中間顯影能力值，中間顯影能力值等于白色曝光單元格對應的曝光能量值的平均值，比對不同位置曝光陣列的中間顯影能力值，即可完成顯影均勻性判斷。
2.如權利要求1所述的顯影均勻性檢測方法，其特征在于，所述步驟S101.曝光模式預設中，多個曝光陣列均勻的設定在承印晶圓表面。
3.如權利要求1所述的顯影均勻性檢測方法，其特征在于，所述步驟S101.曝光模式預設中，所述曝光單元格為正方形結構，其邊長為1.2-1.8mm。
4.如權利要求1-3任一項所述的顯影均勻性檢測方法，其特征在于，所述步驟S101.曝光模式預設中，曝光能量設定為：在曝光陣列的行向或列向上，曝光能量值在曝光陣列中按能量梯度遞增或遞減。
5.如權利要求4所述的顯影均勻性檢測方法，其特征在于，所述步驟S101.曝光模式預設中，曝光能量設定為：在曝光陣列的行向或列向上，曝光能量值在曝光陣列中按相同能量梯度遞增或遞減。
6.如權利要求4所述的顯影均勻性檢測方法，其特征在于，所述步驟S101.曝光模式預設中，曝光能量設定為：在曝光陣列的行向上，曝光陣列的中間一列曝光單元格的曝光能量值為門柵光強，其右側的每列曝光單元格的曝光能量值按能量梯度遞增，其左側每列曝光單元格的曝光能量值按能量梯度遞減。