技術(shù)編號：11826660
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體領(lǐng)域，特別是，涉及一種顯影均勻性檢測方法。背景技術(shù)在集成電路生產(chǎn)中，光刻工藝中線寬的均勻性對產(chǎn)品的電性參數(shù)和良率有極大的影響。因此，控制光刻線寬均勻性是是非常重要的，而顯影均勻性是影響線寬均勻性的一項重要參數(shù)。在一般的集成電路生產(chǎn)中，顯影均勻性主要通過電子顯微鏡對顯影后晶圓不同位置進行線寬量測，根據(jù)量測所得的數(shù)據(jù)判斷顯影均勻性是否在規(guī)范之內(nèi)。當設(shè)備發(fā)生異?；蝻@影程序發(fā)生變動后，通常需要多次的線寬量測和設(shè)備調(diào)整后才能將顯影均勻性調(diào)整至規(guī)范之內(nèi)。對于6英寸或8英寸晶圓，一般一片晶...
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