1.一種評估方法，通過用預測公式獲得投影光學系統(tǒng)的光學特性相對于經由所述投影光學系統(tǒng)對基板的曝光時段的波動量的預測值來評估所述光學特性，其特征在于，所述方法包括：
通過使用專用圖案來確定預測公式，在所述專用圖案中，多個標記按矩陣被布置在所述投影光學系統(tǒng)的物平面上，
其中，所述確定包括：
從所述多個標記中選擇位于將在對所述基板進行曝光時在物平面上形成的照明區(qū)域中的至少兩個標記，以及
基于所述至少兩個標記在所述投影光學系統(tǒng)的像平面上形成的像的位置來獲得所述預測公式。
2.根據(jù)權利要求1所述的方法，其中，在所述確定中，通過使用其中形成有所述專用圖案的原件來確定所述預測公式。
3.根據(jù)權利要求1所述的方法，其中，在所述獲得中，基于根據(jù)所述至少兩個標記的像的位置獲得的所述光學特性的實際測量值來獲得所述預定公式中包括的系數(shù)。
4.根據(jù)權利要求1所述的方法，其中，在所述專用圖案中，不少于100個的標記位于所述物平面上的最大可照明區(qū)域中。
5.根據(jù)權利要求1所述的方法，其中，在所述專用圖案中，所述標記分別在縱向方向和短邊方向上以短于所述區(qū)域的尺寸的十分之一的節(jié)距位于所述物平面上的最大可照明區(qū)域中。
6.根據(jù)權利要求1所述的方法，其中，在所述選擇中，所述至少兩個標記基于如下信息而被選擇：所述信息針對所述光學特性的相應項指示將在所述照明區(qū)域中選擇的標記的位置和數(shù)量。
7.根據(jù)權利要求6所述的方法，其中，所述光學特性的項包括以下中的至少一個：投影倍率、畸變、焦點、像場彎曲、以及縱向倍率和橫向倍率之間的差異。
8.根據(jù)權利要求1所述的方法，其中，所述照明區(qū)域基于指示要曝光的所述基板上的投射區(qū)域的大小的信息而被確定。
9.一種對基板進行曝光的曝光裝置，其特征在于，所述裝置包括：
投影光學系統(tǒng)，被配置為將原件的圖案投影到所述基板上；
改變單元，被配置為改變所述投影光學系統(tǒng)的光學特性；以及
控制單元，被配置為通過使用其中多個標記按矩陣被布置在所述投影光學系統(tǒng)的物平面上的專用圖案來確定用于預測所述光學特性相對于曝光時段的波動量的預測值的預測公式，并且基于通過所述預測公式獲得的預測值來控制所述改變單元，
其中，所述控制單元
從所述多個標記中選擇位于將在對所述基板進行曝光時在物平面上形成的照明區(qū)域中的至少兩個標記，并且
基于所述至少兩個標記在所述投影光學系統(tǒng)的像平面上形成的像的位置來獲得所述預測公式。
10.一種經由光學投影系統(tǒng)對基板進行曝光的曝光方法，其特征在于，所述方法包括：
通過預測公式獲得所述投影光學系統(tǒng)的光學特性相對于曝光時段的波動量的預測值；以及
通過基于所獲得的預測值調整所述投影光學系統(tǒng)的光學特性來經由所述投影光學系統(tǒng)對所述基板進行曝光，
其中，所述獲得包括通過使用其中多個標記按矩陣被布置在所述投影光學系統(tǒng)的物平面上的專用圖案來確定所述預測公式，并且
其中，所述確定包括：
從所述多個標記中選擇位于將在對所述基板進行曝光時在物平面上形成的照明區(qū)域中的至少兩個標記，并且
基于所述至少兩個標記在所述投影光學系統(tǒng)的像平面上形成的像的位置來獲得所述預測公式。
11.一種制造物品的方法，其特征在于，所述方法包括：
使用經由投影光學系統(tǒng)對基板進行曝光的曝光方法來對基板進行曝光；
對曝光的基板進行顯影；以及
對經顯影的基板進行處理以制造所述物品，
其中，所述曝光方法包括：
通過預測公式獲得所述投影光學系統(tǒng)的光學特性相對于曝光時段的波動量的預測值；以及
通過基于所獲得的預測值調整所述投影光學系統(tǒng)的光學特性來經由所述投影光學系統(tǒng)對所述基板進行曝光，
其中，所述獲得包括通過使用其中多個標記按矩陣被布置在所述投影光學系統(tǒng)的物平面上的專用圖案來確定所述預測公式，并且
其中，所述確定包括：
從所述多個標記中選擇位于將在對所述基板進行曝光時在物平面上形成的照明區(qū)域中的至少兩個標記，并且
基于所述至少兩個標記在所述投影光學系統(tǒng)的像平面上形成的像的位置來獲得所述預測公式。