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靜電潛像顯影用調(diào)色劑及其制造方法與流程

文檔序號:11948025閱讀:來源:國知局

技術(shù)特征:

1.一種靜電潛像顯影用調(diào)色劑,含有多個調(diào)色劑顆粒,所述調(diào)色劑顆粒具有調(diào)色劑核和包覆所述調(diào)色劑核的表面的殼層,

所述殼層含有多個第一殼顆粒和多個第二殼顆粒,

所述第一殼顆粒對所述調(diào)色劑核進(jìn)行包覆,

所述第二殼顆粒對所述第一殼顆粒包覆的所述調(diào)色劑核進(jìn)一步進(jìn)行包覆,

所述第一殼顆粒的包覆率(CF)滿足以下的式(1),

所述第二殼顆粒的包覆率(CS)滿足以下的式(2),

所述調(diào)色劑核的溶解度參數(shù)(SPT)、所述第一殼顆粒的溶解度參數(shù)(SPF)和所述第二殼顆粒的溶解度參數(shù)(SPS)滿足以下的式(3),

25%≤CF≤50% ···(1)

5%≤CS≤30% ···(2)

SPT>SPF>SPS ···(3)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的靜電潛像顯影用調(diào)色劑,其特征在于,

所述第一殼顆粒的數(shù)均粒徑小于所述第二殼顆粒的數(shù)均粒徑,

所述第一殼顆粒和所述第二殼顆粒的數(shù)均粒徑是所述調(diào)色劑核的數(shù)均粒徑的0.005倍以上0.04倍以下。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或者2所述的靜電潛像顯影用調(diào)色劑,其特征在于,

所述第一殼顆粒的數(shù)均粒徑是30nm以上90nm以下,

所述第二殼顆粒的數(shù)均粒徑是70nm以上300nm以下。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或者2所述的靜電潛像顯影用調(diào)色劑,其特征在于,

所述SPT、所述SPF和所述SPS滿足以下的式(4)和式(5),

|SPT-SPF|≤1.0 ···(4)

|SPF-SPS|≤1.0 ···(5)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或者2所述的靜電潛像顯影用調(diào)色劑,其特征在于,

所述調(diào)色劑核含有作為粘結(jié)樹脂的聚酯樹脂,

所述第一殼顆粒含有苯乙烯-丙烯酸類樹脂,

所述第二殼顆粒含有交聯(lián)后的苯乙烯-丙烯酸類樹脂。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或者2所述的靜電潛像顯影用調(diào)色劑,其特征在于,

所述調(diào)色劑核的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度是25℃以上45℃以下,

所述調(diào)色劑核具有陰離子性。

7.根據(jù)權(quán)利要求1或者2所述的靜電潛像顯影用調(diào)色劑,其特征在于,

所述第一殼顆粒的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度是60℃以上120℃以下,

所述第一殼顆粒的軟化點是120℃以上210℃以下,

所述第一殼顆粒具有陽離子性。

8.根據(jù)權(quán)利要求1或者2所述的靜電潛像顯影用調(diào)色劑,其特征在于,

所述調(diào)色劑顆粒還含有外部添加劑。

9.一種靜電潛像顯影用調(diào)色劑的制造方法,

所述靜電潛像顯影用調(diào)色劑是權(quán)利要求1或者2所述的靜電潛像顯影用調(diào)色劑,

所述制造方法包括在所述調(diào)色劑核的表面上形成所述殼層的處理,

形成所述殼層的處理包括:

以滿足所述式(1)的方式,使所述第一殼顆粒附著在所述調(diào)色劑核的表面上;以及

以滿足所述式(2)的方式,通過干式混合所述第一殼顆粒已附著的所述調(diào)色劑核和所述第二殼顆粒,使所述第二殼顆粒附著在所述第一殼顆粒已附著的 所述調(diào)色劑核的表面上。

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