技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提出了一種測量套刻誤差的裝置和方法，在裝置中增加能夠?qū)y量光調(diào)整為關(guān)于顯微物鏡光軸中心對(duì)稱的測量光調(diào)整組件，使得測量光經(jīng)過該套裝置后經(jīng)過套刻測量標(biāo)記形成正負(fù)級(jí)次衍射光，并最終在探測器上顯示正負(fù)級(jí)次衍射光的衍射光譜，并且衍射光譜上正級(jí)次衍射光和負(fù)級(jí)次衍射光的光譜互相錯(cuò)開，由控制系統(tǒng)根據(jù)該衍射光譜計(jì)算套刻誤差，這樣在光源選擇時(shí)就可以使用寬波段光源，因此，這種裝置和方法測量光波長范圍更寬廣且可使用任何光斑形狀光源，這樣獲取的測量信號(hào)更加豐富，提高了測量精度，光能的利用率較高，對(duì)于小尺寸的套刻測量標(biāo)記也能接收到測量光，因此也適應(yīng)小尺寸的被測對(duì)象，使其更適應(yīng)于精細(xì)化的半導(dǎo)體產(chǎn)品。

技術(shù)研發(fā)人員：彭博方;陸海亮;王帆
受保護(hù)的技術(shù)使用者：上海微電子裝備（集團(tuán)）股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2016.02.29
技術(shù)公布日：2017.11.10