1.一種光壓印樹(shù)脂組合物,包括:
酚醛樹(shù)脂,具有500至50000的重均分子量;
具有壓克力基團(tuán)的單體、具有壓克力基團(tuán)的聚合物或所述具有壓克力基團(tuán)的單體與所述具有壓克力基團(tuán)的聚合物的混合物;以及
自由基型光聚合起始劑,
其中所述酚醛樹(shù)脂不與所述具有壓克力基團(tuán)的單體以及所述具有壓克力基團(tuán)的聚合物發(fā)生反應(yīng)。
2.如權(quán)利要求1所述的光壓印樹(shù)脂組合物,其中所述酚醛樹(shù)脂包括至少一個(gè)由式1表示的重復(fù)單元,
其中R為氫原子或甲基。
3.如權(quán)利要求2所述的光壓印樹(shù)脂組合物,其中所述酚醛樹(shù)脂包括由式2表示的結(jié)構(gòu),
其中R為氫原子或甲基,且n為4至400的整數(shù)。
4.如權(quán)利要求1所述的光壓印樹(shù)脂組合物,其中以100重量份的所述酚醛樹(shù)脂計(jì),所述具有壓克力基團(tuán)的單體、所述具有壓克力基團(tuán)的聚合物或所述具有壓克力基團(tuán)的單體與所述具有壓克力基團(tuán)的聚合物的混合物的含量為10重量份至1000重量份。
5.如權(quán)利要求1所述的光壓印樹(shù)脂組合物,其中以100重量份的所述酚醛樹(shù)脂計(jì),所述自由基型光聚合起始劑的含量為1重量份至80重量份。
6.如權(quán)利要求1所述的光壓印樹(shù)脂組合物,其中所述自由基型光聚合起始劑包括苯乙酮系化合物、酰基氧化膦系化合物、肟酯系化合物或其組合。
7.如權(quán)利要求1所述的光壓印樹(shù)脂組合物,其中所述具有壓克力基團(tuán)的 單體包括異冰片丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸芐酯、(甲基)丙烯酸苯乙酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸1-萘酯或(甲基)丙烯酸2-萘酯、(甲基)丙烯酸1-萘基甲酯或(甲基)丙烯酸2-萘基甲酯、(甲基)丙烯酸1-萘基乙酯或者(甲基)丙烯酸2-萘基乙酯、(甲基)丙烯酸1-萘氧基乙酯或者(甲基)丙烯酸2-萘氧基乙酯、二甘醇單乙醚(甲基)丙烯酸酯、二羥甲基二環(huán)戊烷二(甲基)丙烯酸酯、二(甲基)丙烯酸化異三聚氰酸酯、1,3-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、烯丙氧基聚乙二醇丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、改性雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、雙酚F二(甲基)丙烯酸酯、六氫鄰苯二甲酸二丙烯酸酯、羥基特戊酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、己內(nèi)酯改性的羥基特戊酸酯新戊二醇二丙烯酸酯、硬脂酸改性季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、鄰苯二甲酸二(甲基)丙烯酸酯、聚(乙二醇-四亞甲基二醇)二(甲基)丙烯酸酯、聚(丙二醇-四亞甲基二醇)二(甲基)丙烯酸酯、聚酯二丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、硅酮二(甲基)丙烯酸酯、三甘醇二(甲基)丙烯酸酯、四甘醇二(甲基)丙烯酸酯、二羥甲基三環(huán)癸烷二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇改性三羥甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、二縮三丙二醇二丙烯酸酯、二縮三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙三醇二(甲基)丙烯酸酯、一縮二丙二醇二丙烯酸酯、一縮二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、鄰苯二甲基二(甲基)丙烯酸酯、間苯二甲基二(甲基)丙烯酸酯、對(duì)苯二甲基二(甲基)丙烯酸酯、三環(huán)癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯或二異戊四醇六丙烯酸酯或其組合。
8.如權(quán)利要求1所述的光壓印樹(shù)脂組合物,其中所述具有壓克力基團(tuán)的聚合物包括聚酯丙烯酸酯、環(huán)氧丙烯酸酯、聚醚丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯、聚芴丙烯酸酯或其組合。
9.如權(quán)利要求1所述的光壓印樹(shù)脂組合物,更包括溶劑。
10.如權(quán)利要求9所述的光壓印樹(shù)脂組合物,其中以100重量份的所述酚醛樹(shù)脂計(jì),所述溶劑的含量為50重量份至5000重量份。
11.如權(quán)利要求9所述的光壓印樹(shù)脂組合物,其中所述溶劑包括丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇甲醚、苯甲醚、碳酸丙烯酯或其組合。
12.一種圖案化制程,包括:
將如權(quán)利要求1至10中任一項(xiàng)所述的光壓印樹(shù)脂組合物涂布于基材上;
使用模具對(duì)所述光壓印樹(shù)脂組合物進(jìn)行壓印制程,以形成圖案化的光壓印樹(shù)脂膜;
對(duì)所述圖案化的光壓印樹(shù)脂膜進(jìn)行固化處理;
移除所述模具;以及
以固化的所述圖案化的光壓印樹(shù)脂膜為遮罩,對(duì)所述基材進(jìn)行蝕刻處理。
13.如權(quán)利要求12所述的圖案化制程,其中所述壓印制程包括常溫壓印或升溫壓印。
14.如權(quán)利要求12所述的圖案化制程,其中所述固化處理包括照光固化處理。
15.一種光壓印樹(shù)脂膜,包括如權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的光壓印樹(shù)脂組合物。