技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
為了提供一種具有高耐光性和在寬波段內(nèi)保持低反射的抗反射膜、一種光學(xué)組件、一種光學(xué)設(shè)備和一種制造抗反射膜的方法。根據(jù)本發(fā)明的抗反射膜由可見光區(qū)域中透明的無機(jī)材料制成，無機(jī)材料具有包括凸部和凹部的精細(xì)的凹凸結(jié)構(gòu)，每個(gè)凸部和凹部具有等于或小于可見光的波長的寬度，并且凹部具有1.5或更大的縱橫比。

技術(shù)研發(fā)人員：竹內(nèi)太一;佐藤真
受保護(hù)的技術(shù)使用者：索尼公司
技術(shù)研發(fā)日：2015.12.16
技術(shù)公布日：2017.09.26