本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種蛾眼微結(jié)構(gòu)的制備方法、抗反射基板及電子產(chǎn)品。

背景技術(shù)：

隨著電子信息技術(shù)的發(fā)展，人們生活中所使用的電子設(shè)備也越來越多，如手機、平板電腦、手提電腦、液晶電視等。通常，人們在高亮環(huán)境中使用這些電子設(shè)備時，其顯示設(shè)備會因強光刺激產(chǎn)生眩光、反射光或者鬼影現(xiàn)象，進而對人們的閱讀造成困擾?，F(xiàn)有技術(shù)中常通過在顯示設(shè)備蓋板上進行抗?？狗瓷涮幚韥砀纳七@一問題，其中在蓋板表面制備蛾眼微結(jié)構(gòu)可以有效降低蓋板表面反射率，提高可讀性。

本申請的發(fā)明人在長期的研發(fā)中發(fā)現(xiàn)，現(xiàn)有蓋板一般有玻璃蓋板和藍寶石蓋板，藍寶石蓋板比玻璃蓋板更加堅硬，耐刮傷，耐久性和觸控識別率也較高，逐漸被應(yīng)用在顯示設(shè)備中。但是因為藍寶石本身材質(zhì)比較堅硬，在其表面進行蛾眼微結(jié)構(gòu)制備時對工藝要求較為苛刻，并且藍寶石蓋板的蝕刻選擇比也不高，不利于制備出高深寬比的蛾眼微結(jié)構(gòu)，使藍寶石蓋板的應(yīng)用受到限制。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明主要解決的技術(shù)問題是提供一種蛾眼微結(jié)構(gòu)的制備方法、抗反射基板及電子產(chǎn)品，能夠制備出高深寬比的蛾眼微結(jié)構(gòu)。

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的一個技術(shù)方案是：提供一種蛾眼抗反射微結(jié)構(gòu)的制備方法，該方法包括：提供基層；在基層上形成金屬膜層；對金屬膜層進行蝕刻，以得到蛾眼抗反射微結(jié)構(gòu)圖案；對金屬膜層進行氧化，進而在基層上形成蛾眼抗反射微結(jié)構(gòu)。

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的另一個技術(shù)方案是：提供一種抗反射基板，該抗反射基板包括：層疊且材料一致的基層和抗反射層；抗反射層具有蛾眼抗反射微結(jié)構(gòu)圖案，且通過化學(xué)反應(yīng)而得到。

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的另一個技術(shù)方案是：提供一種電子產(chǎn)品，該電子產(chǎn)品包括上述的抗反射基板。

本發(fā)明的有益效果是：區(qū)別于現(xiàn)有技術(shù)的情況，本發(fā)明通過在基層上形成一層金屬膜層，在金屬膜層上蝕刻得到蛾眼抗反射微結(jié)構(gòu)圖案；因為金屬膜層相對較軟，蝕刻選擇性較大，易蝕刻到理想的微結(jié)構(gòu)形貌和深寬比，制備出高深寬比的蛾眼微結(jié)構(gòu)。

附圖說明

圖1是本發(fā)明蛾眼抗反射微結(jié)構(gòu)的制備方法一實施方式的流程示意圖；

圖2是本發(fā)明蛾眼抗反射微結(jié)構(gòu)的制備方法一實施方式的流程示意圖；

圖3是本發(fā)明抗反射基板一實施方式的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4是本發(fā)明抗反射基板一實施方式的平面結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5是本發(fā)明電子產(chǎn)品一實施方式的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實施方式

為使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案及效果更加清楚、明確，以下參照附圖并舉實施例對本發(fā)明進一步詳細說明。

請參閱圖1，圖1是本發(fā)明蛾眼抗反射微結(jié)構(gòu)的制備方法一實施方式的流程示意圖。

s101：提供基層。

其中，根據(jù)光學(xué)元件的材質(zhì)不同，基層為藍寶石基層或其他材質(zhì)的基層。

s102：在基層上形成金屬膜層。

其中，金屬膜層能夠氧化得到與基層材質(zhì)相同或相似的金屬氧化物?？蛇x地，可以利用蒸鍍成膜法或磁控濺射法形成金屬膜層。

s103：對金屬膜層進行蝕刻，以得到蛾眼抗反射微結(jié)構(gòu)圖案。

可選地，可以利用感應(yīng)耦合等離子蝕刻法或反應(yīng)離子蝕刻法對金屬膜層進行蝕刻。

s104：對金屬膜層進行氧化，進而在基層上形成蛾眼抗反射微結(jié)構(gòu)。

可選地，可以通過煅燒工藝對金屬膜層進行氧化；其中，金屬膜層能夠氧化得到與基層材質(zhì)相同或相似的金屬氧化物；使所形成的蛾眼抗反射微結(jié)構(gòu)的材質(zhì)與基層材質(zhì)相同或相似，進一步地，氧化后所得金屬氧化物的質(zhì)地較為剛硬，使形成的微結(jié)構(gòu)具有較好的耐摩擦性能。

該實施方式中通過在基層上形成一層金屬膜層，利用金屬膜層相對較軟、蝕刻選擇性較大的特性，在金屬膜層上蝕刻得到理想的微結(jié)構(gòu)形貌和深寬比；制備出高深寬比的蛾眼微結(jié)構(gòu)。

請參閱圖2，圖2是本發(fā)明蛾眼抗反射微結(jié)構(gòu)的制備方法一實施方式的流程示意圖。該實施方式中，基層為藍寶石基層，金屬膜層為鋁膜層；在其他實施方式中，也可以是其他材質(zhì)的基層以及與其對應(yīng)得金屬膜層。

在洗凈的基層201表面形成一層金屬膜層202。其中，金屬膜層202選用與基層201材質(zhì)相近的金屬，不僅能夠增強金屬膜層202與基層201的結(jié)合力不易脫落，還能夠在被氧化后形成與基層201材質(zhì)相同或相近的金屬氧化物，進而形成與基層201材質(zhì)相同或相近的蛾眼抗反射微結(jié)構(gòu)。

其中，金屬膜層202的膜厚度為微米級別，具體地可以是200～500微米，例如：200微米、300微米、400微米、500微米等。所形成的金屬膜層202表面應(yīng)較為平整，可選地，可以利用蒸鍍成膜法或磁控濺射法形成金屬膜層；在其他實施方式中，也可以利用其他方法形成金屬膜層。

在金屬膜層202表面形成一層壓印膠層203?？蛇x地，壓印膠層203為含氟類的有機物，例如含氟硅烷類材料等，能夠避免在脫模的過程中產(chǎn)生黏膠的現(xiàn)象。

用壓印模204在壓印膠203表面壓印并脫模得出相應(yīng)的圖案205，如圖(d)所示結(jié)構(gòu)；以壓印膠203為掩膜進行納米尺度加工，對金屬膜層202表面進行蝕刻，清洗除去壓印殘膠，得到如圖(e)所示蛾眼微結(jié)構(gòu)206。因為金屬膜層202相對較軟，蝕刻選擇性較大，易蝕刻到理想的微結(jié)構(gòu)形貌和深寬比。可選地，利用感應(yīng)耦合等離子刻蝕法(inductivelycoupledplasma，icp)或反應(yīng)離子刻蝕法(reactiveionetching，rie)對金屬膜層202進行刻蝕；在其他實施方式中，也可以利用其他方法對金屬膜層進行刻蝕。

對金屬膜層202進行氧化，進而在基層201上形成蛾眼抗反射微結(jié)構(gòu)207；具體地，將金屬材質(zhì)的蛾眼微結(jié)構(gòu)206氧化為金屬氧化物材質(zhì)的蛾眼微結(jié)構(gòu)207，使蛾眼微結(jié)構(gòu)207的材質(zhì)與基層201的材質(zhì)相同或相近，且氧化后所得金屬氧化物的質(zhì)地較為剛硬，使所形成的微結(jié)構(gòu)具有較好的耐摩擦性能。可選地，可以通過煅燒工藝對金屬膜層202進行氧化；在其他實施方式中，也可以利用其他方法對金屬膜層進行氧化。

具體地，通過煅燒工藝對金屬膜層202進行氧化的過程分為預(yù)加熱步驟和高溫加熱步驟。先將金屬材質(zhì)的蛾眼微結(jié)構(gòu)206進行預(yù)加熱，預(yù)加熱溫度為400-600℃，例如400℃、450℃、500℃、550℃、600℃等；預(yù)加熱時間為20-30h，例如20h、23h、25h、28h、30h等。通過預(yù)加熱過程能夠使金屬逐漸氧化為金屬氧化物，緩慢氧化有利于微結(jié)構(gòu)形成致密結(jié)構(gòu)，且通過低溫氧化反應(yīng)易使微結(jié)構(gòu)內(nèi)部充分氧化而形成致密結(jié)構(gòu)。在其他實施方式中，也可以根據(jù)不同的金屬選擇不同的預(yù)加熱溫度和預(yù)加熱時間。

預(yù)加熱之后進行高溫快速加熱反應(yīng)，加熱溫度為1000-1200℃，例如1000℃、1050℃、1100℃、1150℃、1200℃等；加熱時間為1-2h，例如1h、1.2h、1.5h、1.8h、2h等。通過高溫快速加熱反應(yīng)可以使微結(jié)構(gòu)充分反應(yīng)，減小微結(jié)構(gòu)表面和內(nèi)部的缺陷結(jié)構(gòu)，形成形狀規(guī)則且致密的抗反射微結(jié)構(gòu)。在其他實施方式中，也可以根據(jù)不同的金屬選擇不同的高溫加熱溫度和高溫加熱時間。

通過上述方式所得蛾眼微結(jié)構(gòu)207的深寬比為0.1～1.2，例如0.1、0.3、0.5、0.8、1.0、1.2等。相較于傳統(tǒng)工藝，通過上述方式在基層上制備蛾眼微結(jié)構(gòu)，蝕刻時間短，易蝕刻出規(guī)整的蛾眼微結(jié)構(gòu)，且所得蛾眼微結(jié)構(gòu)具有較高的深寬比。

請參閱圖3和圖4，圖3是本發(fā)明抗反射基板一實施方式的結(jié)構(gòu)示意圖；圖4是本發(fā)明抗反射基板一實施方式的平面結(jié)構(gòu)示意圖。本發(fā)明提供一種抗反射基板，該抗反射基板包括層疊且材料一致的基層301和抗反射層302；抗反射層302具有蛾眼抗反射微結(jié)構(gòu)圖案401，且通過化學(xué)反應(yīng)而得到。該抗反射基板中的蛾眼抗反射微結(jié)構(gòu)圖案規(guī)整，深寬比高，且制備工藝簡單。

其中，化學(xué)反應(yīng)是氧化反應(yīng)，基層301是藍寶石基層，抗反射層302是鋁層氧化而得到的三氧化二鋁層；抗反射層302的膜厚度為200～500微米；蛾眼抗反射微結(jié)構(gòu)的深寬比為0.1～1.2，具體地制備工藝方法過程請參見上述實施例中的相關(guān)描述，在此不在贅述。

請參閱圖5，圖5是本發(fā)明電子產(chǎn)品一實施方式的結(jié)構(gòu)示意圖。本發(fā)明提供一種電子產(chǎn)品，該電子產(chǎn)品包括抗反射基板501，抗反射基板501上具有蛾眼抗反射微結(jié)構(gòu)圖案502，具體地請參見上述實施例中的相關(guān)描述，在此不在贅述。

綜上所述，本發(fā)明通過在基層上形成一層金屬膜層，在金屬膜層上蝕刻得到蛾眼抗反射微結(jié)構(gòu)圖案；因為金屬膜層相對較軟，蝕刻選擇性較大，易蝕刻到理想的微結(jié)構(gòu)形貌和深寬比，制備出高深寬比的蛾眼微結(jié)構(gòu)。

以上所述僅為本發(fā)明的實施方式，并非因此限制本發(fā)明的專利范圍，凡是利用本發(fā)明說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本發(fā)明的專利保護范圍內(nèi)。