相關(guān)申請的交叉引用本申請依據(jù)35u.s.c.§119要求2015年4月2日提交的美國臨時申請系列號62/142114、2014年12月31日提交的美國臨時申請系列號62/098836、2014年12月31日提交的美國臨時申請系列號62/098819、2014年7月23日提交的美國臨時申請系列號62/028014、2014年6月10日提交的美國臨時申請系列號62/010092以及2014年5月12日提交的美國臨時申請系列號61/991656的優(yōu)先權(quán)，本申請以這些文獻(xiàn)的內(nèi)容為基礎(chǔ)，且通過引用將它們?nèi)募{入本文。背景本發(fā)明涉及具有耐久性和耐劃痕性的防反射制品及其制造方法，更具體而言，涉及具有多層式防反射涂層的制品，所述防反射涂層具有耐磨性、耐劃痕性、低反射性以及無色透射和/或反射。人們經(jīng)常使用蓋板制品來保護(hù)電子產(chǎn)品內(nèi)部的關(guān)鍵器件，以提供用于輸入和/或顯示的用戶界面，以及/或者提供許多其他的功能。這些產(chǎn)品包括移動設(shè)備，例如智能手機(jī)、mp3播放機(jī)和平板電腦。蓋板制品還包括建筑制品、運(yùn)輸制品(例如用于汽車應(yīng)用、火車、飛機(jī)、船舶等中的制品)、家電制品或任何需要一定程度的透明度、耐劃痕性、耐磨性或以上性質(zhì)的組合的制品。這些應(yīng)用常常需要耐劃痕性和強(qiáng)光學(xué)性能特征，即最大透光率和最小反射率。另外，一些蓋板應(yīng)用要求在反射和/或透射中顯示或看到的顏色不隨視角的改變而顯著變化。這是因?yàn)椋陲@示器應(yīng)用中，如果顏色在反射或透射中隨著視角的變化而發(fā)生可感知程度的變化，則產(chǎn)品的使用者會感覺到顯示器的顏色或亮度發(fā)生變化，這會降低顯示器的感官質(zhì)量。在其它應(yīng)用中，色彩的變化會對美感需求或其它功能需求產(chǎn)生負(fù)面影響。蓋板制品的光學(xué)性能可通過使用各種防反射涂層來改善，但是已知的防反射涂層容易受到損耗或磨損的影響。這種磨損會減弱任何通過防反射涂層所取得的光學(xué)性能的改善。例如，光學(xué)過濾器經(jīng)常由具有不同折射率的多層涂層制得，以及由光學(xué)透明的電介質(zhì)材料(例如氧化物、氮化物和氟化物)制得。用于這種光學(xué)過濾器的典型的氧化物中的大多數(shù)為寬帶隙材料，它們不具有用于移動裝置、建筑制品、運(yùn)輸制品或家電制品中所必需的機(jī)械性質(zhì)，例如硬度。氮化物或類金剛石涂層可展現(xiàn)出高硬度值，但是這些材料不具有所述應(yīng)用所需的透射性。磨損損傷可包括來自相對面物體(例如手指)的往復(fù)滑動接觸。此外，磨損損傷會生熱，這會削弱薄膜材料中的化學(xué)鍵，給防護(hù)玻璃造成剝落及其他類型的損傷。由于磨損損傷通常比造成劃痕的單一事件經(jīng)歷更長的時間，經(jīng)歷了磨損損傷的設(shè)置的涂層材料還會發(fā)生氧化，這進(jìn)一步降低了涂層的耐久性。已知的防反射涂層還容易受到劃痕損傷的影響，且經(jīng)常比下方的設(shè)置有這些涂層的基材更容易受到劃痕損傷。在一些例子中，這些劃痕損傷中的很大一部分包括微延展性(microductile)劃痕，其通常包括材料中具有延伸長度且深度在約100nm～約500nm范圍內(nèi)的單一凹槽。微延展性劃痕可伴隨其它類型的可見損傷一起出現(xiàn)，例如表面下破裂、摩擦破裂、碎片和/或磨耗。有證據(jù)暗示這些劃痕和其它可見損傷中的大部分是由在單一接觸事件中發(fā)生的尖銳接觸導(dǎo)致的。蓋板基材上一旦出現(xiàn)明顯擦痕，產(chǎn)品外觀就會變差，因?yàn)椴梁凼构馍⑸湓鰪?qiáng)，而這會導(dǎo)致顯示圖像的亮度、清晰度和對比度顯著降低。明顯的擦痕還會影響包括觸敏顯示器的制品的精度和可靠性。單一事件劃痕損傷可與磨損損傷形成對比。單一事件劃痕損傷并非由多個接觸事件導(dǎo)致，例如來自于堅(jiān)硬的相對表面物體(例如沙子、礫石和砂紙)的往復(fù)滑動接觸，其通常也不會產(chǎn)生熱量，所述熱量會削弱膜材料中的化學(xué)鍵并導(dǎo)致剝落和其他類型的損傷。另外，單一事件的劃痕通常不會導(dǎo)致氧化或者涉及會導(dǎo)致磨損損傷的相同條件，所以，通常用于預(yù)防磨損損傷的解決方案可能并不能預(yù)防劃痕。而且，已知的劃痕和磨損損傷解決方案還往往會影響光學(xué)性質(zhì)。所以，需要新的防護(hù)制品及其制造方法，它們耐磨損、耐劃痕并且具有改善的光學(xué)性能。發(fā)明概述本文描述了具有耐久性和耐劃痕性的防反射制品的實(shí)施方式。在一種或多種實(shí)施方式中，制品包含基材和設(shè)置在主表面上并形成防反射表面的光學(xué)涂層。在一種或多種實(shí)施方式中，光學(xué)涂層包含防反射涂層。制品通過展現(xiàn)出約12gpa或更大的最大硬度來展現(xiàn)耐劃痕性，所述最大硬度通過本文所述的布氏壓頭硬度測試沿著約50nm或更深(例如約100nm或更深、約50nm～約300nm、約50nm～約400nm、約50nm～約500nm、約50nm～約600nm、約50nm～約1000nm、或者約50nm～約2000nm)的壓痕深度在防反射表面上測得。制品展現(xiàn)出耐磨性，所述耐磨性通過在防反射表面上使用本文所述的泰伯爾測試進(jìn)行500個循環(huán)的磨損來測量。在一種或多種實(shí)施方式中，制品展現(xiàn)出(在防反射表面上測得的)包含約1％或更小的霧度的耐磨性，所述霧度通過使用具有直徑約為8mm的孔的霧度計(jì)來測量。在一種或多種實(shí)施方式中，制品展現(xiàn)出(在防反射表面上測得的)包含約12nm或更小的平均粗糙度ra的耐磨性，所述平均粗糙度ra通過原子力顯微鏡測得。在一種或多種實(shí)施方式中，制品展現(xiàn)出(在防反射表面上測得的)包含在約40度或更小的極散射角之下約為0.05或更小的散射光強(qiáng)度(單位為1/球面度)的耐磨性，所述散射光強(qiáng)度通過使用具有2mm孔的用于散射測量的成像球在600nm的波長處在垂直入射和透射條件下測得。在一些例子中，制品展現(xiàn)出(在防反射表面上測得的)包含在約20度或更小的極散射角之下約為0.1或更小的散射光強(qiáng)度(單位為1/球面度)的耐磨性，所述散射光強(qiáng)度通過使用具有2mm孔的用于散射測量的成像球在600nm的波長處在垂直入射和透射條件下測得。一種或多種實(shí)施方式的制品在透光性和/或反光性方面展現(xiàn)出優(yōu)異的光學(xué)性能。在一種或多種實(shí)施方式中，制品在(例如約400nm～約800nm、或約450nm～約650nm范圍內(nèi)的)光學(xué)波長區(qū)內(nèi)展現(xiàn)出(只在防反射表面上測得的)約92％或更大(例如約98％或更大)的平均透光率。在一些實(shí)施方式中，制品在光學(xué)波長區(qū)內(nèi)展現(xiàn)出(只在防反射表面上測得的)約2％或更小(例如約1％或更小)的平均反光率。制品可在光學(xué)波長區(qū)內(nèi)展現(xiàn)出平均振幅約為1個百分點(diǎn)或更小的平均透光率或平均反光率。在一種或多種實(shí)施方式中，制品在垂直入射下展現(xiàn)出只在防反射表面上測得的約1％或更小的平均適光反射率。在一些實(shí)施方式中，制品展現(xiàn)出只在防反射表面上在垂直入射或近垂直入射(例如0～10度)下測得的小于約10％的單側(cè)平均適光反射率。在一些實(shí)施方式中，單側(cè)平均適光反射率約為9％或更小、約8％或更小、約7％或更小、約6％或更小、約5％或更小、約4％或更小、約3％、或約2％或更小。在一些例子中，當(dāng)使用光源從相對于入射照明角度約2度～約60度范圍內(nèi)的參照照明角對防反射表面進(jìn)行觀察時，制品展現(xiàn)出小于約10(例如為5或更小、4或更小、3或更小、2或更小、或約1或更小)的(如本文所述的)角色偏。示例性的光源包括cief2、cief10、cief11、cief12和cied65中的任一種。在一種或多種實(shí)施方式中，在ciel*,a*,b*色度系統(tǒng)中，制品可在約0～約60度范圍內(nèi)的所有入射照明角度下展現(xiàn)出小于約2的b*值。替代地或附加地，一些實(shí)施方式的制品在垂直入射下展現(xiàn)出相對于參照點(diǎn)的參照點(diǎn)色偏小于約2的如本文所定義的透射色(或透射色坐標(biāo))和/或反射色(或反射色坐標(biāo))，所述透射色(或透射色坐標(biāo))和/或反射色(或反射色坐標(biāo))在防反射表面上測得。在一種或多種實(shí)施方式中，參照點(diǎn)可以是l*a*b*色空間中的原點(diǎn)(0,0)(或色坐標(biāo)a*＝0,b*＝0或a*＝-2,b*＝-2)或基材的透射或反射色坐標(biāo)。本文所述的角色偏、參照點(diǎn)色偏和色坐標(biāo)(a*和/或b*)是在d65和/或f2光源下觀察的。在一些實(shí)施方式中，本文所述的光學(xué)性能是在f2光源下觀察的，已知f2光源因其尖銳的光譜特征而更具挑戰(zhàn)性。在一種或多種實(shí)施方式中，防反射涂層可包含多個層。例如，在一些實(shí)施方式中，防反射涂層包含具有第一低ri層和第二高ri層的周期。所述周期可包含第一低ri層和設(shè)置在該第一低ri層上的第二高ri層，或者相反。在一些實(shí)施方式中，所述周期可包含第三層。防反射涂層可包含多個周期，以使第一低ri層和第二高ri層交替設(shè)置。防反射涂層可包含不超過約10或20個周期。在一些實(shí)施方式中，光學(xué)涂層包含耐劃痕層。在包含耐劃痕層的場合下，這些耐劃痕層可設(shè)置在防反射涂層上。在另一些實(shí)施方式中，耐劃痕涂層設(shè)置在防反射涂層與基材之間。示例性的耐劃痕層可展現(xiàn)出約8gpa～約50gpa范圍內(nèi)的最大硬度，所述最大硬度通過如本文所述的布氏壓頭硬度測試測得。耐劃痕層可設(shè)置在基材與防反射涂層之間。在一些實(shí)施方式中，防反射涂層可包含第一部分和第二部分，以使耐劃痕層設(shè)置在所述第一部分與第二部分之間。耐劃痕層的厚度可在約200納米～約3微米的范圍內(nèi)。在一些實(shí)施方式中，制品可包含折射率大于約1.8的層。可用于該層中的材料包括sinx、sioxny、siualvoxny、alnx、aloxny或它們的組合。在一些例子中，制品可包含附加層，例如易清潔涂層、類金剛石碳(“dlc”)涂層、耐劃痕涂層或它們的組合。這些涂層可設(shè)置在防反射涂層上或防反射涂層的層之間。用于制品的一種或多種實(shí)施方式中的基材可包含無定形基材或晶體基材。無定形基材可包含選自鈉鈣玻璃、堿金屬鋁硅酸鹽玻璃、含堿金屬的硼硅酸鹽玻璃和堿金屬鋁硼硅酸鹽玻璃的玻璃。在一些實(shí)施方式中，玻璃可經(jīng)過強(qiáng)化且可包含壓縮應(yīng)力(cs)層，在經(jīng)過強(qiáng)化的玻璃中，壓縮應(yīng)力(cs)層從經(jīng)過化學(xué)強(qiáng)化的玻璃的表面延伸至至少約10μm的層深度(dol)處，且具有至少250mpa的表面cs。在以下的詳細(xì)描述中給出了本發(fā)明的其他特征和優(yōu)點(diǎn)，其中的部分特征和優(yōu)點(diǎn)對本領(lǐng)域的技術(shù)人員而言，根據(jù)所作描述就容易看出，或者通過實(shí)施包括以下詳細(xì)描述、權(quán)利要求書以及附圖在內(nèi)的本文所述的各種實(shí)施方式而被認(rèn)識。應(yīng)理解，前面的一般性描述和以下的詳細(xì)描述都僅僅是示例性，用來提供理解權(quán)利要求的性質(zhì)和特性的總體評述或框架。所附附圖提供了對本發(fā)明的進(jìn)一步理解，附圖被結(jié)合在本說明書中并構(gòu)成說明書的一部分。附圖說明了本發(fā)明的一個或多個實(shí)施方式，并與說明書一起用來解釋各種實(shí)施方式的原理和操作。附圖的簡要說明圖1是一種或多種實(shí)施方式的制品的側(cè)視圖；圖2是一種或多種特定實(shí)施方式的制品的側(cè)視圖；圖3是一種或多種實(shí)施方式的制品的側(cè)視圖；圖4是一種或多種實(shí)施方式的制品的側(cè)視圖；圖5是一種或多種實(shí)施方式的制品的側(cè)視圖；圖6是一種或多種實(shí)施方式的制品的側(cè)視圖；圖7是一種或多種實(shí)施方式的制品的側(cè)視圖；圖8是實(shí)施例1的制品的側(cè)視圖；圖9是實(shí)施例2的制品的單側(cè)反射譜圖，其顯示入射照明角度從0°變化至約60°時的反射率。圖10是實(shí)施例2的制品的反射色譜圖，其顯示使用10°觀察器在不同光源和不同觀察角度下的反射色；圖11是實(shí)施例3的制品的單側(cè)反射譜圖，其顯示入射照明角度從0°變化至約60°時的反射率。圖12是實(shí)施例3的制品的反射色譜圖，其顯示使用10°觀察器在不同光源和不同觀察角度下的反射色；圖13是模型實(shí)施例8的反射譜圖，其通過使用10°觀察器在不同的觀察角度下只由防反射表面算得。圖14是實(shí)施例8的制品的反射色，其顯示使用10°觀察器在不同光源和不同觀察角度下的反射色；圖15是模型實(shí)施例9的反射譜圖，其通過使用10°觀察器在不同的觀察角度下只由防反射表面算得。圖16是實(shí)施例9的制品的反射色，其顯示使用10°觀察器在不同光源和不同觀察角度下的反射色；圖17是模型實(shí)施例10的反射譜圖，其通過使用10°觀察器在不同的觀察角度下只由防反射表面算得。圖18是實(shí)施例10的制品的反射色，其顯示使用10°觀察器在不同光源和不同觀察角度下的反射色；圖19是模型實(shí)施例11的反射譜圖，其通過使用10°觀察器在不同的觀察角度下只由防反射表面算得。圖20是實(shí)施例11的制品的反射色，其顯示使用10°觀察器在不同光源和不同觀察角度下的反射色；以及圖21是圖示硬度測量值隨壓痕深度和涂層厚度的變化關(guān)系的圖表。發(fā)明詳述下面將詳細(xì)說明各種實(shí)施方式，這些實(shí)施方式的例子在附圖中示出。參考圖1，根據(jù)一種或多種實(shí)施方式的制品100可包含基材110和設(shè)置在該基材上的光學(xué)涂層120?；?10包含相反的主表面112、114和相反的次表面116、118。光學(xué)涂層120在圖1中顯示為設(shè)置于第一相反主表面112上；但是，在光學(xué)涂層120設(shè)置于第一相反主表面112上之以外或者不設(shè)置于第一相反主表面112上的情況中，光學(xué)涂層120也可設(shè)置于第二相反主表面114和/或相反次表面之一或二者之上。光學(xué)涂層120形成防反射表面122。光學(xué)涂層120包含至少一種材料的至少一個層。術(shù)語“層”可包括單一層，或者可包括一個或多個亞層。這些亞層可彼此直接接觸。這些亞層可由相同材料或者兩種或更多種不同材料形成。在一種或多種替代性的實(shí)施方式中，這些亞層之間可設(shè)置有不同材料的居間層。在一種或多種實(shí)施方式中，層可包括一個或多個毗鄰且不間斷的層以及/或者一個或多個不連續(xù)的間斷層(即由彼此相鄰形成的具有不同材料的層)。層或亞層可通過本領(lǐng)域已知的任何方法形成，包括離散沉積(discretedeposition)或連續(xù)沉積法。在一種或多種實(shí)施方式中，層可僅利用連續(xù)沉積法形成，或僅利用離散沉積法來形成。光學(xué)涂層120的厚度可約為1μm或更厚，且仍然能夠提供展現(xiàn)本文所述的光學(xué)性能的制品。在一些例子中，光學(xué)涂層120的厚度可在約1μm～約20μm(例如約1μm～約10μm、或約1μm～約5μm)的范圍內(nèi)。本文所用的術(shù)語“設(shè)置”包括利用本領(lǐng)域已知的任何方法將材料涂覆、沉積和/或形成到表面上。設(shè)置的材料可構(gòu)成本文所定義的層。詞語“設(shè)置在……上”包括以下情形：將材料形成到表面上，以使材料直接接觸表面，還包括以下情形：使材料在表面上形成，在設(shè)置的材料與表面之間有一種或多種居間材料。居間材料可構(gòu)成本文所定義的層。如圖2所示，光學(xué)涂層120包含防反射涂層130，所述防反射涂層130包含多個層(130a、130b)。在一種或多種實(shí)施方式中，防反射涂層130可包含具有兩個或更多個層的周期132。在一種或多種實(shí)施方式中，所述兩個或更多個層的特征可在于互相之間具有不同的折射率。在一種實(shí)施方式中，周期132包含第一低ri層130a和第二高ri層130b。第一低ri層與第二高ri層的折射率差異可約為0.01或更大、0.05或更大、0.1或更大甚至0.2或更大。如圖2所示，防反射涂層130可包含多個周期(132)。單一周期包含第一低ri層130a和第二高ri層130b，以使當(dāng)提供多個周期時，第一低ri層130a(為說明目的而記作“l(fā)”)和第二高ri層130b(為說明目的而記作“h”)以下述層順序交替設(shè)置：l/h/l/h或h/l/h/l，以使第一低ri層和第二高ri層沿著防反射涂層120的物理厚度方向交替出現(xiàn)。在圖2的例子中，防反射涂層130包含三個周期。在一些實(shí)施方式中，防反射涂層130可包含不超過25個周期。例如，防反射涂層130可包含約2～約20個周期、約2～約15個周期、約2～約10個周期、約2～約12個周期、約3～約8個周期、約3～約6個周期。在圖3所示的實(shí)施方式中，防反射涂層130可包含附加的蓋層131，所述附加的蓋層131可包含折射系數(shù)比第二高ri層130b的折射系數(shù)更小的材料。在一些實(shí)施方式中，如圖3所示，周期132可包含一個或多個第三層130c。第三層130c可具有低ri、高ri或中等ri。在一些實(shí)施方式中，第三層130c可具有與第一低ri層130a或第二高ri層130b的ri相同的ri。在另一些實(shí)施方式中，第三層130c可具有介于第一低ri層130a的ri與第二高ri層130b的ri之間的中等ri。或者，第三層130c可具有大于第二高ri層130b的折射率的折射率。第三層可按照以下示例性構(gòu)造提供在防反射涂層120中：l第三層/h/l/h/l；h第三層/l/h/l/h；l/h/l/h/l第三層；h/l/h/l/h第三層；l第三層/h/l/h/l/h第三層；h第三層/l/h/l/h/l第三層；l第三層/l/h/l/h；h第三層/h/l/h/l；h/l/h/l/l第三層；l/h/l/h/h第三層；l第三層/l/h/l/h/h第三層；h第三層/h/l/h/l/l第三層；l/m第三層/h/l/m/h；h/m/l/h/m/l；m/l/h/l/m；以及其他組合。在這些構(gòu)造中，無任何下標(biāo)的“l(fā)”表示第一低ri層，無任何下標(biāo)的“h”表示第二高ri層。標(biāo)記“l(fā)第三層”表示具有低ri的第三層，“h第三層”表示具有高ri的第三層，而“m”表示具有中等ri的第三層，全都相對于第一層和第二層而言。如本文所用，術(shù)語“低ri”、“高ri”和“中等ri”是就ri之間的相對值而言(例如低ri＜中等ri＜高ri)。在一種或多種實(shí)施方式中，就第一低ri層或第三層使用的術(shù)語“低ri”包括約1.3至約1.7或1.75的范圍。在一種或多種實(shí)施方式中，就第二高ri層或第三層使用的術(shù)語“高ri”包括約1.7～約2.5的范圍(例如約1.85或更大)。在一些實(shí)施方式中，就第三層使用的術(shù)語“中等ri”包括約1.55～約1.8的范圍。在一些例子中，低ri、高ri和中等ri的范圍可能重疊；然而，在大多數(shù)例子中，防反射涂層130的各層通常具有以下ri關(guān)系：低ri＜中等ri＜高ri。如圖4所示,第三層130c可提供為獨(dú)立于周期132的單獨(dú)的層，且可設(shè)置在周期或多個周期與蓋層131之間。如圖5所示，第三層還可提供為獨(dú)立于周期132的單獨(dú)的層，且可設(shè)置在基材110與多個周期132之間。如圖6所示，除了附加涂層140而非蓋層131以外，或者除了蓋層以外還可使用第三層130c。適用于防反射涂層130的示例性材料包括：sio2、al2o3、geo2、sio、aloxny、aln、sinx、sioxny、siualvoxny、ta2o5、nb2o5、tio2、zro2、tin、mgo、mgf2、baf2、caf2、sno2、hfo2、y2o3、moo3、dyf3、ybf3、yf3、cef3、聚合物、含氟聚合物、等離子體聚合的聚合物、硅氧烷聚合物、硅倍半氧烷、聚酰亞胺、氟化聚酰亞胺、聚醚酰亞胺、聚醚砜、聚苯砜、聚碳酸酯、聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、丙烯酸類聚合物、氨基甲酸酯聚合物、聚甲基丙烯酸甲酯、下面引述的適用于耐劃痕層的其他材料、以及本領(lǐng)域已知的其他材料。適用于第一低ri層的材料的一些例子包括sio2、al2o3、geo2、sio、aloxny、sioxny、siualvoxny、mgo、mgal2o4、mgf2、baf2、caf2、dyf3、ybf3、yf3和cef3?？蓪⒂糜诘谝坏蛂i層的材料(例如諸如al2o3和mgal2o4這樣的材料中)的含氮量降到最低。適用于第二高ri層的材料的一些例子包括siualvoxny、ta2o5、nb2o5、aln、si3n4、aloxny、sioxny、hfo2、tio2、zro2、y2o3、al2o3、moo3和類金剛石碳?？蓪⒂糜诘诙遰i層和/或耐劃痕層的材料、特別是sinx或alnx材料中的含氧量降到最低。aloxny材料可被認(rèn)為是摻雜了氧的alnx，即它們可具有alnx晶體結(jié)構(gòu)(例如纖鋅礦結(jié)構(gòu))且無需具有aloh晶體結(jié)構(gòu)。示例性的優(yōu)選的aloxny高ri材料可包含約0原子％～約20原子％的氧、或約5原子％～約15原子％的氧，同時包含30原子％～約50原子％的氮。示例性的優(yōu)選的siualvoxny高ri材料可包含約10原子％～約30原子％或約15原子％～約25原子％的硅、約20原子％～約40原子％或約25原子％～約35原子％的鋁、約0原子％～約20原子％或約1原子％～約20原子％的氧、和約30原子％～約50原子％的氮?？蓪ι鲜霾牧线M(jìn)行不超過約30重量％的氫化。在需要具有中等折射率的材料的場合下，一些實(shí)施方式可使用aln和/或sioxny。可對第二高ri層和/或耐劃痕層的硬度進(jìn)行特別表征。在一些實(shí)施方式中，第二高ri層和/或耐劃痕層的最大硬度可為約8gpa或更大、約10gpa或更大、約12gpa或更大、約15gpa或更大、約18gpa或更大、或約20gpa或更大，所述最大硬度通過布氏壓頭硬度測試測得。在一些情況中，第二高ri層材料可沉積為單層，并且可被表征為耐劃痕層，而且該單層在可重復(fù)的硬度測試中可具有約500～2000nm的厚度。在一種或多種實(shí)施方式中，防反射涂層130的至少一個層可包括特定的光學(xué)厚度范圍。如本文所用，術(shù)語“光學(xué)厚度”通過(n*d)確定，其中，“n”表示亞層的ri，而“d”表示層的物理厚度。在一種或多種實(shí)施方式中，防反射涂層130的至少一個層可具有約2nm～約200nm、約10nm～約100nm、約15nm～約100nm、約15～約500nm、或約15～約5000nm范圍內(nèi)的光學(xué)厚度。在一些實(shí)施方式中，防反射涂層130中的所有層都可各自具有約2nm～約200nm、約10nm～約100nm、約15nm～約100nm、約15～約500nm、或約15～約5000nm范圍內(nèi)的光學(xué)厚度。在一些情況中，防反射涂層130的至少一個層具有約50nm或更厚的光學(xué)厚度。在一些情況中，第一低ri層中的每一個都具有約2nm～約200nm、約10nm～約100nm、約15nm～約100nm、約15～約500nm、或約15～約5000nm范圍內(nèi)的光學(xué)厚度。在另一些情況中，第二高ri層中的每一個都具有約2nm～約200nm、約10nm～約100nm、約15nm～約100nm、約15～約500nm、或約15～約5000nm范圍內(nèi)的光學(xué)厚度。在另一些情況中，第三層中的每一個都具有約2nm～約200nm、約10nm～約100nm、約15nm～約100nm、約15～約500nm、或約15～約5000nm范圍內(nèi)的光學(xué)厚度。在一些實(shí)施方式中，可將光學(xué)涂層130的一個或多個層的厚度降到最小。在一種或多種實(shí)施方式中，將高ri層和/或中等ri層的厚度降到最小，以使它們小于約500nm。在一種或多種實(shí)施方式中，高ri層、中等ri(層)和/或高ri和中等ri層的組合的總厚度小于約500nm。在一些實(shí)施方式中，可將光學(xué)涂層中低ri材料的量降到最低。無意受限于理論，低ri材料通常也是較低硬度的材料，因?yàn)樵渔I合和電子密度的特性會同時影響折射率和硬度，所以使這些材料最少化能夠在保持如本文所述的反射率和色彩性能的同時使硬度最大化。表述為相對于光學(xué)涂層的物理厚度的比例，低ri材料占光學(xué)涂層的物理厚度的比例可小于約60％、小于約50％、小于約40％、小于約30％、小于約20％、小于約10％、或小于約5％。替代地或附加地，低ri材料的量可定量為設(shè)置在光學(xué)涂層中最厚的高ri層上方(即在與基材相反的一側(cè)上，用戶側(cè)或空氣側(cè))的低ri材料的所有層的物理厚度的總和。無意受限于理論，具有高硬度的厚的高ri層能夠有效地保護(hù)下方(或厚的ri層與基材之間)的層免受許多或大部分劃痕之害。所以，設(shè)置在最厚的高ri層上方的層可對整個制品的耐劃痕性起到特別大的作用。當(dāng)最厚的高ri層的物理厚度大于約400nm且硬度大于約12gpa時，這種效果特別有意義，所述硬度通過布氏壓頭硬度測試測得。設(shè)置在最厚的高ri層上(即設(shè)置在與基材相反的一側(cè)，用戶側(cè)或空氣側(cè))的低ri材料的總厚度可小于或等于約150nm、小于或等于約120nm、小于或等于約110nm、100nm、90nm、80nm、70nm、60nm、50nm、40nm、30nm、25nm、20nm、15nm、或小于或等于約12nm。在一些實(shí)施方式中，最頂部空氣側(cè)的層可包含展現(xiàn)出如模型實(shí)施例8～9所示的高硬度的高ri層。在一些實(shí)施方式中，附加涂層140可設(shè)置在該最頂部空氣側(cè)的高ri層的頂部(例如，該附加涂層可包含低摩擦涂層、疏油性涂層或易清潔涂層)。另外，如模型實(shí)施例10所示，當(dāng)添加至包含高ri層的最頂部空氣側(cè)的層上時，附加厚度很薄(厚度例如約為10nm或更薄、約5nm或更薄、或約2nm或更薄)的低ri層會對光學(xué)性能產(chǎn)生最小的影響。厚度很薄的低ri層可包含sio2、疏油性或低摩擦層、或sio2和疏油性材料的組合。示例性的低摩擦層可包括類金剛石碳，這些材料(或光學(xué)涂層的一個或多個層)可展現(xiàn)出小于0.4、小于0.3、小于0.2或甚至小于0.1的摩擦系數(shù)。在一種或多種實(shí)施方式中，防反射涂層130具有約800nm或更薄的物理厚度。防反射涂層130的物理厚度可為約10nm～約800nm、約50nm～約800nm、約100nm～約800nm、約150nm～約800nm、約200nm～約800nm、約10nm～約750nm、約10nm～約700nm、約10nm～約650nm、約10nm～約600nm、約10nm～約550nm、約10nm～約500nm、約10nm～約450nm、約10nm～約400nm、約10nm～約350nm、約10nm～約300nm、約50～約300，包括它們之間的所有范圍和子范圍。在一種或多種實(shí)施方式中，可對第二高ri層的總物理厚度進(jìn)行表征。例如，在一些實(shí)施方式中，第二高ri層的總厚度可約為100nm或更厚、約150nm或更厚、約200nm或更厚、約500nm或更厚。即使存在居間的低ri層或其它層，總厚度也是防反射涂層130中的單個高ri層的計(jì)算總厚度。在一些實(shí)施方式中，可能還包含高硬度材料(例如氮化物或氮氧化物材料)的第二高ri層的總物理厚度可大于防反射涂層的總物理厚度的30％。例如，第二高ri層的總物理厚度可為防反射涂層的總物理厚度的約40％或更大、約50％或更大、約60％或更大、約70％或更大、約75％或更大、或甚至約為80％或更大。替代地或附加地，包含于光學(xué)涂層中的也可能是高硬度材料的高折射率材料的量可以制品或光學(xué)涂層120的最頂部(即用戶側(cè)或與基材相反的光學(xué)涂層側(cè))500nm物理厚度的百分比來表征。表述為制品或光學(xué)涂層的最頂部500nm的百分比，第二高ri層的總物理厚度(或高折射率材料的厚度)可占所述最頂部500nm的約50％或更大、約60％或更大、約70％或更大、約80％或更大、或甚至約為90％或更大。在一些實(shí)施方式中，如本文的其它部分所述，可同時使防反射涂層中的硬質(zhì)和高折射率材料具有更高的比例，以使其還展現(xiàn)出低反射率、低顏色和高耐磨性。在一種或多種實(shí)施方式中，第二高ri層可包含折射率大于約1.85的材料，第一低ri層可包含折射率小于約1.75的材料。在一些實(shí)施方式中，第二高ri層可包含氮化物或氮氧化物材料。在一些例子中，光學(xué)涂層中(或設(shè)置在光學(xué)涂層中最厚的第二高ri層上的層中)的所有第一低ri層的總厚度可約為200nm或更薄(例如約150nm或更薄、約100nm或更薄、約75nm或更薄、或約50nm或更薄)。在一些實(shí)施方式中，當(dāng)只在防反射表面122測量時(例如當(dāng)諸如通過在與觀察器相接的背表面上使用折射率匹配油或其它已知方法除去制品的未涂覆背表面(例如圖1中的114)上的反射)，防反射涂層130在光學(xué)波長區(qū)內(nèi)的平均反光率約為9％或更小、約8％或更小、約7％或更小、約6％或更小、約5％或更小、約4％或更小、約3％或更小、或約2％或更小。平均反射率(其可為適光平均值)可在約0.4％～約9％、約0.4％～約8％、約0.4％～約7％、約0.4％～約6％、或約0.4％～約5％的范圍內(nèi)，包括它們之間的所有范圍。在一些例子中，防反射涂層120可在下述其他波長范圍內(nèi)展現(xiàn)出這樣的平均反光率：例如約450nm～約650nm、約420nm～約680nm、約420nm～約700nm、約420nm～約740nm、約420nm～約850nm、或約420nm～約950nm。在一些實(shí)施方式中，防反射表面122在光學(xué)波長區(qū)內(nèi)展現(xiàn)出約90％或更大、92％或更大、94％或更大、96％或更大、或98％或更大的平均透光率。除非另有說明，否則平均反射率或透射率是在約0度～約10度的入射照明角度下測得的(但是，這些測量結(jié)果也可在45度或60度的入射照明角度下提供)。如圖6所述，制品100可包含一個或多個設(shè)置在防反射涂層上的附加涂層140。在一種或多種實(shí)施方式中，該附加涂層可包含易清潔涂層。2012年11月30日提交的題為《利用光學(xué)和易清潔涂層制造玻璃制品的方法》(processformakingofglassarticleswithopticalandeasy-to-cleancoatings)的美國專利申請?zhí)?3/690904對合適的易清潔涂層的一個例子進(jìn)行了描述，其全部內(nèi)容通過引用納入本文。易清潔涂層可具有約5nm～約50nm范圍內(nèi)的厚度，并且可包含已知的材料，例如含氟硅烷。在一些實(shí)施方式中，易清潔涂層的厚度可在約1nm～約40nm、約1nm～約30nm、約1nm～約25nm、約1nm～約20nm、約1nm～約15nm、約1nm～約10nm、約5nm～約50nm、約10nm～約50nm、約15nm～約50nm、約7nm～約20nm、約7nm～約15nm、約7nm～約12nm、或約7nm～約10nm、以及它們之間的所有范圍和子范圍內(nèi)。附加涂層140可包含一個或多個耐劃痕層。在一些實(shí)施方式中，附加涂層140包含易清潔材料和耐劃痕材料的組合。在一個例子中，所述組合包含易清潔材料和類金剛石碳。這些附加涂層140可具有約5nm～約20nm范圍內(nèi)的厚度。附加涂層140的成分可在單獨(dú)的層中提供。例如，類金剛石碳可作為第一層設(shè)置，而易清潔材料可作為第二層設(shè)置在類金剛石碳的第一層上。第一層和第二層的厚度可在如上提供的附加涂層的厚度范圍內(nèi)。例如，類金剛石碳的第一層可具有約1nm～約20nm或約4nm～約15nm(或更具體而言約為10nm)的厚度，而易清潔的第二層可具有約1nm～約10nm(或更具體而言約為6nm)的厚度。類金剛石涂層可包含四面體無定形碳(ta-c)、ta-c:h和/或a-c-h。如本文所述，光學(xué)涂層120可包含耐劃痕層150或涂層(當(dāng)使用多個耐劃痕層時)，這些層或涂層可設(shè)置在防反射涂層130與基材110之間。在一些實(shí)施方式中，耐劃痕層150或涂層設(shè)置在防反射涂層130的層之間(例如圖7所述的150或圖8所示的345)。防反射涂層的兩個區(qū)段(即設(shè)置在耐劃痕層150與基材110之間的第一區(qū)段以及設(shè)置在耐劃痕層上的第二區(qū)段)可具有彼此不同的厚度，或者可具有基本上彼此相同的厚度。防反射涂層的這兩個區(qū)段的層可具有彼此相同或不同的組成、順序、厚度和/或排列。用于耐劃痕層150或涂層(或用作附加涂層140的耐劃痕層/涂層)中的示例性的材料可包括無機(jī)碳化物、氮化物、氧化物、類金剛石材料或這些材料的組合。適用于耐劃痕層或涂層的材料的例子包括金屬氧化物、金屬氮化物、金屬氮氧化物、金屬碳化物、金屬碳氧化物和/或它們的組合。示例性的金屬包括b、al、si、ti、v、cr、y、zr、nb、mo、sn、hf、ta和w?？捎糜谀蛣澓蹖踊蛲繉拥牟牧系木唧w例子可包括al2o3、aln、aloxny、si3n4、sioxny、siualvoxny、金剛石、類金鋼石碳、sixcy、sixoycz、zro2、tioxny以及它們的組合。耐劃痕層或涂層還可包含納米復(fù)合材料或具有受控微結(jié)構(gòu)的材料，以改善硬度、韌性或耐磨性/耐磨耗性。例如，耐劃痕層或涂層可包含尺寸在約5nm～約30nm范圍內(nèi)的納米微晶。在一些實(shí)施方式中，耐劃痕層或涂層可包含相變增韌的氧化鋯、部分穩(wěn)定化的氧化鋯或氧化鋯增韌的氧化鋁。在一些實(shí)施方式中，耐刮擦層或涂層展現(xiàn)出大于約1mpa√m的斷裂韌度值，同時展現(xiàn)出大于約8gpa的硬度值。耐劃痕層可包含單層150(如圖7所示)、多個亞層或展現(xiàn)出折射率梯度345的亞層或單層(如圖8所示)。在使用多個層的場合下，這些層形成耐劃痕涂層845。例如，耐劃痕涂層845可包含siualvoxny的組成梯度，其中，改變si、al、o和n中的任意一種或多種的濃度以升高或降低折射率。折射率梯度還可使用孔隙率來形成。2014年4月28日提交的題為《具有梯度層的耐劃痕制品》(scratch-resistantarticleswithagradientlayer)的美國專利申請?zhí)?4/262224對這些梯度進(jìn)行了更詳細(xì)的描述，其全部內(nèi)容通過引用納入本文。可改變耐刮擦層或涂層的組成以提供特定的性質(zhì)(例如硬度)。在一種或多種實(shí)施方式中，耐劃痕層或涂層展現(xiàn)出約5gpa～約30gpa范圍內(nèi)的最大硬度，所述最大硬度通過布氏壓頭硬度測試在該耐劃痕層或涂層的主表面上測得。在一種或多種實(shí)施方式中，耐劃痕層或涂層的最大硬度可在以下范圍以及它們之間的所有范圍和子范圍內(nèi)：約6gpa～約30gpa、約7gpa～約30gpa、約8gpa～約30gpa、約9gpa～約30gpa、約10gpa～約30gpa、約12gpa～約30gpa、約5gpa～約28gpa、約5gpa～約26gpa、約5gpa～約24gpa、約5gpa～約22gpa、約5gpa～約20gpa、約12gpa～約25gpa、約15gpa～約25gpa、約16gpa～約24gpa、約18gpa～約22gpa。在一種或多種實(shí)施方式中，耐劃痕涂層可展現(xiàn)出大于15gpa、大于20gpa、或大于25gpa的最大硬度。在一種或多種實(shí)施方式中，耐劃痕層展現(xiàn)出約15gpa～約150gpa、約15gpa～約100gpa、或約18gpa～約100gpa范圍內(nèi)的最大硬度。最大硬度是在一個壓痕深度范圍內(nèi)測得的最大硬度值。這些最大硬度值可沿著約50nm或更深、或約100nm或更深(例如約100nm～約300nm、約100nm～約400nm、約100nm～約500nm、約100nm～約600nm、約200nm～約300nm、約200nm～約400nm、約200nm～約500nm、或約200nm～約600nm)的壓痕深度展現(xiàn)。耐劃痕涂層或?qū)拥奈锢砗穸瓤稍诩s1nm～約5μm的范圍內(nèi)。在一些實(shí)施方式中，耐劃痕涂層的物理厚度可在以下范圍以及它們之間的所有范圍和子范圍內(nèi)：約1nm～約3μm、約1nm～約2.5μm、約1nm～約2μm、約1nm～約1.5μm、約1nm～約1μm、約1nm～約0.5μm、約1nm～約0.2μm、約1nm～約0.1μm、約1nm～約0.05μm、約5nm～約0.05μm、約10nm～約0.05μm、約15nm～約0.05μm、約20nm～約0.05μm、約5nm～約0.05μm、約200nm～約3μm、約400nm～約3μm、約800nm～約3μm。在一些實(shí)施方式中，耐劃痕涂層的物理厚度可在約1nm～約25nm的范圍內(nèi)。在一些例子中，耐劃痕層可包含氮化物或氮氧化物材料，并且可具有約200nm或更厚、500nm或更厚、或約1000nm或更厚的厚度。一種或多種實(shí)施方式的制品可通過在防反射表面122上進(jìn)行至少約500個按照泰伯爾測試的循環(huán)的磨損之后使用各種方法進(jìn)行測量而被描述為具有耐磨性。各種形式的磨損測試在本領(lǐng)域中是已知的，例如astmd1044-99中所規(guī)定的使用由泰伯爾工業(yè)(taberindustries)提供的磨損介質(zhì)的測試方法?？赏ㄟ^利用不同類型的磨損介質(zhì)、研磨劑的幾何構(gòu)型和運(yùn)動、壓力等來得到與astmd1044-99相關(guān)的修改的磨損方法，以提供可重復(fù)的和可測量的磨損或磨耗軌跡，從而有意義地區(qū)分不同樣品的耐磨性。例如，不同的測試條件通常適用于軟質(zhì)塑料對硬質(zhì)無機(jī)測試樣品的比較。對本文所述的實(shí)施方式進(jìn)行本文所定義的泰伯爾測試，所述泰伯爾測試是astmd1044-99的特定修改版本，其能夠給出清晰且可重復(fù)的不同樣品之間的耐久性差異，所述樣品主要包含硬質(zhì)無機(jī)材料，例如氧化物玻璃和氧化物或氮化物涂層。如本文所用，詞語“泰伯爾測試”是指使用泰伯爾線性研磨器5750(tla5750)和由泰伯爾工業(yè)提供的附件、在約22℃±3℃的溫度和不超過約70％的相對濕度的環(huán)境下進(jìn)行的測試方法。tla5750包括具有直徑為6.7mm的研磨頭的cs-17研磨器材料。按照泰伯爾測試使各樣品發(fā)生磨損，利用霧度和雙向透射分布函數(shù)(ccbtdf)測量等方法對磨損損傷進(jìn)行評價。在泰伯爾測試中，使各樣品磨損的程序包括將tla5750和一個平坦的樣品載具置于一個堅(jiān)硬而平坦的表面上，并將tla5750和該樣品載具固定在該表面上。在使各樣品在泰伯爾測試中發(fā)生磨損前，使用粘合在玻璃上的嶄新的s-14磨刀條對研磨器進(jìn)行表面修整。使用25個循環(huán)/分鐘的循環(huán)速率和1英寸的沖程長度，在不使用額外增加的負(fù)重(即表面修整過程中所使用的約350g的總負(fù)重，這是固定研磨器的軸和筒夾的總重)的條件下，對研磨器進(jìn)行10個表面修整循環(huán)。然后，該程序包括操作tla5750使樣品磨損，其中，樣品置于與研磨頭相接觸并承載施加到研磨頭上的負(fù)重的樣品載具中，使用25個循環(huán)/分鐘的循環(huán)速率和1英寸的沖程長度，且向樣品施加的總負(fù)重為850g(即在軸和筒夾的350g的總重以外再施加500g額外負(fù)重)。該程序包括為了重復(fù)性而在各樣品上形成兩條磨耗軌跡，并且對各樣品上的兩條磨損軌跡中每一個進(jìn)行500個循環(huán)的磨損。在一種或多種實(shí)施方式中，制品100的防反射表面122按照上述泰伯爾測試而受到磨損，該制品展現(xiàn)出約10％或更小的霧度，該霧度是使用byk加德納(bykgardner)提供的霧度計(jì)(商品名：)在磨損表面上測得的，該霧度計(jì)在源端口上使用孔，該孔的直徑為8mm。一種或多種實(shí)施方式的制品100在具備和不具備任何附加涂層(包括將在下文中描述的附加涂層140)的條件下都展現(xiàn)出這種耐磨性。在一些實(shí)施方式中，霧度可約為9％或更小、約8％或更小、約7％或更小、約6％或更小、約5％或更小、約4％或更小、約3％或更小、約2％或更小、約1％或更小、約0.5％或更小、或約0.3％或更小。在一些特定的實(shí)施方式中，制品100的霧度在以下范圍以及它們之間的所有范圍和子范圍內(nèi)：約0.1％～約10％、約0.1％～約9％、約0.1％～約8％、約0.1％～約7％、約0.1％～約6％、約0.1％～約5％、約0.1％～約4％、約0.1％～約3％、約0.1％～約2％、約0.1％～約1％、0.3％～約10％、約0.5％～約10％、約1％～約10％、約2％～約10％、約3％～約10％、約4％～約10％、約5％～約10％、約6％～約10％、約7％～約10％、約1％～約8％、約2％～約6％、約3％～約5％。這里也可預(yù)期用于對耐磨性進(jìn)行定量的替代方法。在一種或多種實(shí)施方式中，通過對防反射表面122進(jìn)行泰伯爾測試而產(chǎn)生了磨損的制品100可展現(xiàn)出利用原子力顯微鏡(afm)表面輪廓繪圖測得的耐磨性，所述表面輪廓繪圖可在例如防反射表面122的80×80微米區(qū)域、或多個80×80微米區(qū)域內(nèi)進(jìn)行。可通過這些afm表面掃描對諸如rms粗糙度、ra粗糙度以及峰-谷表面高度這樣的表面粗糙度統(tǒng)計(jì)值進(jìn)行評價。在一種或多種實(shí)施方式中，制品100(或具體而言，防反射表面122)在被如上所述的泰伯爾測試磨損后可展現(xiàn)出約50nm或更小、約25nm或更小、約12nm或更小、約10nm或更小、或約5nm或更小的平均表面粗糙度(ra)值。在一種或多種實(shí)施方式中，制品100在防反射表面122被泰伯爾測試磨損后可展現(xiàn)出通過光散射測量測得的耐磨性。在一種或多種實(shí)施方式中，光散射測量包括使用radiantzemaxis-satm測試儀進(jìn)行的雙向反射分布函數(shù)(brdf)或雙向透射分布函數(shù)(btdf)測量。該測試儀可靈活地使用反射中從垂直至約85度的任何入射角作為輸入角度的光散射以及透射中從垂直至約85度的任何入射角作為輸入角度的光散射進(jìn)行測量，同時，還能夠捕獲反射或透射中向2*π球面度(反射或折射中的完整半球)內(nèi)輸出的所有散射光。在一種實(shí)施方式中，制品100展現(xiàn)出耐磨性，所述耐磨性通過使用btdf在垂直入射下測得，并在選定的角度范圍內(nèi)對透射的散射光進(jìn)行分析，例如在約10°～約80°的極角以及其間的任何角度范圍內(nèi)?？蓪嵌鹊耐暾轿唤欠秶M(jìn)行分析和整合、或者可選擇具體的方位角的區(qū)間(slice)，例如方位角上從約0°至90°。在線性磨損的情況中，可能希望選擇與磨損方向基本上正交的方位角方向，以增加光學(xué)散射測量的信噪比。在一種或多種實(shí)施方式中，制品100的在防反射涂層120上測得的散射光強(qiáng)度可約小于約0.1、約0.05或更小、約0.03或更小、約0.02或更小、約0.01或更小、約0.005或更小、或約0.003或更小(單位為1/球面度)，所述散射光強(qiáng)度的測試?yán)镁哂?mm孔的radiantzemaxis-sa工具進(jìn)行，模式為ccbtdf，以垂直入射進(jìn)行透射，且將單色儀設(shè)定在600nm波長處，并且在約15°～約60°(例如，特定為約20°或約40°)的極散射角范圍內(nèi)進(jìn)行評價。以垂直入射進(jìn)行透射也可以稱為以0度進(jìn)行透射，其可被儀器軟件表示為180°入射。在一種或多種實(shí)施方式中，可沿著與被泰伯爾測試磨損的樣品的磨損方向基本上正交的方位角方向?qū)ι⑸涔鈴?qiáng)度進(jìn)行測量。在一個例子中，泰伯爾測試可使用約10個循環(huán)～約1000個循環(huán)、以及它們之間的所有值。這些光強(qiáng)數(shù)值也可相當(dāng)于小于散射入大于約5度、大于約10度、大于約30度、或大于約45度的極散射角的入射光強(qiáng)度的約1％、約0.5％、約0.2％或約0.1％。通常，本文所述的垂直入射下的btdf測試與透射霧度測量緊密相關(guān)，體現(xiàn)在它們都是測量光線透射穿過樣品(或者，在制品100的情況中，在使防反射涂層120磨損后)時散射的量。btdf測量相比于霧度測量能夠提供更高的靈敏度以及更詳細(xì)的角度信息。btdf允許對形成不同極角度和方位角度的散射進(jìn)行測量，例如允許我們有選擇性地對形成基本上與線性泰伯爾測試中的磨損方向正交的方位角度(這些角度是從線性磨損散射出的光最強(qiáng)的角度)的散射進(jìn)行評價。透射霧度基本上是所有進(jìn)入極角大于約+/-2.5度的整個半球的通過垂直入射btdf測得的散射光的積分。可對光學(xué)涂層120和制品100的硬度進(jìn)行描述，所述硬度通過布氏壓頭硬度測試測得。如本文所用，“布氏壓頭硬度測試”包括通過利用金剛石布式硬度計(jì)壓頭對材料表面進(jìn)行壓刻，從而測量材料的硬度。布氏壓頭硬度測試包括利用金剛石布氏硬度計(jì)壓頭對制品的防反射表面122或光學(xué)涂層120的表面(或防反射涂層中任一層或多層的表面)進(jìn)行壓刻以形成壓痕深度在約50nm～約1000nm范圍內(nèi)(或者防反射涂層或?qū)拥恼麄€厚度，取更小者)的壓痕，并測量從該壓痕沿著整個壓痕深度范圍或該壓痕深度的一個區(qū)段(例如約100nm～約600nm范圍內(nèi))的最大硬度，通常使用以下文獻(xiàn)中的方法：oliver,w.c.；pharr,g.m.所著的《一種改進(jìn)的使用負(fù)荷和位移傳感凹痕實(shí)驗(yàn)測定硬度和彈性模量的技術(shù)》(animprovedtechniquefordetermininghardnessandelasticmodulususingloadanddisplacementsensingindentationexperiments)j.mater.res.，第7卷，第6期，1992，1564～1583；和oliver,w.c.；pharr,g.m.所著的《利用儀器壓痕測量硬度和彈性模量：理解的進(jìn)展和方法的改進(jìn)》(measurementofhardnessandelasticmodulusbyinstrumentindentation:advancesinunderstandingandrefinementstomethodology)j.mater.res.，第19卷，第1期，2004，3～20。如本文所用，硬度是指最大硬度而不是指平均硬度。特別是在對于比下方基材更硬的涂層所進(jìn)行的納米壓痕測試方法(例如通過使用布氏硬度計(jì)壓頭)中，由于在較淺的壓痕深度處形成了塑性區(qū)，因此所測得的硬度似在最初顯示為增加，然后增加并在更深的壓痕深度處達(dá)到最大值或平臺期。隨后，由于下方基材的影響，硬度在更深的壓痕深度處開始下降。在基材相對于所使用的涂層具有增加的硬度的情況下，可以看到相同的效應(yīng)；但是，由于下方基材的影響，硬度在更深的壓痕深度處增加。對壓痕深度范圍和在某壓痕深度范圍內(nèi)的硬度值進(jìn)行選擇，以確定如本文所述的與光學(xué)膜結(jié)構(gòu)及其層相對應(yīng)的具體硬度，而不受下方基材的影響。當(dāng)利用布氏硬度計(jì)壓頭對光學(xué)膜結(jié)構(gòu)(當(dāng)設(shè)置于基材上時)的硬度進(jìn)行測量時，材料的永久形變區(qū)域(塑性區(qū))與材料的硬度相關(guān)聯(lián)。在壓刻過程中，彈性應(yīng)力場的范圍延伸大大超出該永久形變區(qū)域。隨著壓刻深度的增加，表觀硬度和模量受到應(yīng)力場與下方基材相互作用的影響?；膶τ捕鹊挠绊懓l(fā)生于更深的壓痕深度處(即，通常是在深于光學(xué)膜結(jié)構(gòu)或?qū)雍穸鹊募s10％的深度)。另外，另一種復(fù)雜情況是硬度響應(yīng)需要某個最小負(fù)荷以在壓刻過程中形成完全的塑性。在達(dá)到該最小負(fù)荷前，硬度顯示出大體遞增的趨勢。在淺的壓刻深度處(也可被表征為小負(fù)荷，例如不超過約50nm)，材料的表觀硬度出現(xiàn)相對于壓痕深度急劇增加。該較小的壓刻深度區(qū)域不代表硬度的真實(shí)度量，而是反映出如上文所述的塑性區(qū)的形成，其與硬度計(jì)壓頭的有限曲率半徑有關(guān)。在中間壓痕深度處，表觀硬度接近最大水平。在更深的壓痕深度處，隨著壓痕深度的增加，基材的影響更加顯著。一旦壓痕深度超過光學(xué)膜結(jié)構(gòu)厚度或?qū)由疃鹊募s30％，硬度就會開始急劇減小。圖21圖示了所測得的硬度值隨壓痕深度和涂層厚度的變化。如圖21所示，在中間壓痕深度(硬度在此處接近并保持在最大水平)和更深的壓痕深度處測得的硬度取決于材料或?qū)拥暮穸?。圖21圖示了具有不同厚度的四種不同aloxny層的硬度響應(yīng)。利用布氏壓頭硬度測試對各層的硬度進(jìn)行測量。厚度為500nm的層在約100nm～180nm的壓痕深度處展現(xiàn)出最大硬度，接著該硬度在約180nm～約200nm的壓痕深度處急劇減小，這表明基材的硬度對硬度測量產(chǎn)生了影響。厚度為1000nm的層在約100nm～約300nm的壓痕深度處展現(xiàn)出最大硬度，接著該硬度在大于約300nm的壓痕深度處急劇減小。厚度為1500nm的層在約100nm～約500nm的壓痕深度處展現(xiàn)出最大硬度，而厚度為2000nm的層在約100nm～約600nm的壓痕深度處展現(xiàn)出最大硬度。雖然圖21圖示了厚的單層，在較薄的涂層以及包含諸如本文所述的實(shí)施方式的防反射涂層120這樣的多層中也觀察到了相同的特征。在一些實(shí)施方式中，光學(xué)涂層120可展現(xiàn)出約8gpa或更大、約10gpa或更大、或約12gpa或更大(例如14gpa或更大、16gpa或更大、18gpa或更大、20gpa或更大)的硬度。光學(xué)涂層120的硬度最大可約為20gpa或30gpa。包括防反射涂層120以及任何本文所述的附加涂層的制品100展現(xiàn)出利用布氏壓頭硬度測試在防反射表面122上測得的約5gpa或更大、約8gpa或更大、約10gpa或更大、或約12gpa或更大(例如14gpa或更大、16gpa或更大、18gpa或更大、20gpa或更大)的硬度。光學(xué)涂層120的硬度最大可約為20gpa或30gpa。光學(xué)涂層120和/或制品100可沿著約50nm或更深、或約100nm或更深(例如約100nm～約300nm、約100nm～約400nm、約100nm～約500nm、約100nm～約600nm、約200nm～約300nm、約200nm～約400nm、約200nm～約500nm、或約200nm～約600nm)的壓痕深度展現(xiàn)出這些測得的硬度值。在一種或多種實(shí)施方式中，制品的硬度大于基材的硬度(所述基材的硬度可在與防反射表面相反的表面上測得)。光學(xué)涂層120可具有至少一個具有以下硬度的層(在該層的表面上測得，例如圖2中的第二高ri層130b的表面或耐劃痕層的表面)：約12gpa或更大、約13gpa或更大、約14gpa或更大、約15gpa或更大、約16gpa或更大、約17gpa或更大、約18gpa或更大、約19gpa或更大、約20gpa或更大、約22gpa或更大、約23gpa或更大、約24gpa或更大、約25gpa或更大、約26gpa或更大、或約27gpa或更大(不超過約50gpa)，所述硬度通過布氏壓頭硬度測試測得。這種層的硬度可在約18gpa～約21gpa的范圍內(nèi)，所述硬度通過布氏壓頭硬度測試測得。所述至少一個層可沿著約50nm或更深、或約100nm或更深(例如約100nm～約300nm、約100nm～約400nm、約100nm～約500nm、約100nm～約600nm、約200nm～約300nm、約200nm～約400nm、約200nm～約500nm、或約200nm～約600nm)的壓痕深度展現(xiàn)出這些測得的硬度值。在一種或多種實(shí)施方式中，光學(xué)涂層120或光學(xué)涂層內(nèi)的單個層可展現(xiàn)出約75gpa或更大、約80gpa或更大、或約85gpa或更大的彈性模量，所述彈性模量通過在防反射表面122上使用布氏壓頭對表面進(jìn)行壓刻來測量。這些模量值可表示在十分接近防反射表面處(例如0nm～約50nm的壓痕深度處)測得的模量，或者其可表示在更深的壓痕深度處(例如約50nm～約1000nm)測得的模量。在包含耐劃痕層(當(dāng)用作防反射涂層的一部分時，例如圖7中的150或圖8中的345)或耐劃痕涂層(當(dāng)用作附加涂層140)的制品的實(shí)施方式中，該制品可展現(xiàn)出約12gpa～約25gpa范圍內(nèi)的最大硬度，所述最大硬度利用布氏壓頭硬度測試分別在防反射表面122或耐劃痕涂層的表面上測得。這些測得的硬度值可沿著約50nm或更深、或100nm或更深(例如約100nm～約300nm、約100nm～約400nm、約100nm～約500nm、約100nm～約600nm、約200nm～約300nm、約200nm～約400nm、約200nm～約500nm、或約200nm～約600nm)的壓痕深度展現(xiàn)。即使當(dāng)耐劃痕層未設(shè)置在防反射表面122處或附近(例如圖7和8所示)也可展現(xiàn)出該硬度。來自于光學(xué)涂層120/空氣界面和光學(xué)涂層120/基材110界面的反射波之間的光學(xué)干涉可導(dǎo)致會在制品100中產(chǎn)生明顯色彩的光譜反射和/或透射振蕩。如本文所用，術(shù)語“透射率”定義為給定波長范圍內(nèi)的入射光功率穿過材料(例如制品、基材、光學(xué)膜或其中的部分)的百分率。類似地，術(shù)語“反射率”定義為給定波長范圍內(nèi)的入射光功率從材料(例如制品、基材、光學(xué)膜或其中的部分)反射的百分率。透射率和反射率由特定的線寬測得。在一種或多種實(shí)施方式中，表征透射率和反射率的光譜分辨率小于5nm或0.02ev。色彩可在反射中更加顯著。由于光譜反射振蕩隨著入射照明角度發(fā)生偏移，因此反射中的角色彩也隨視角發(fā)生偏移。透射中的角色彩也會因光譜透射振蕩隨入射照明角度所發(fā)生的相同的偏移而隨視角偏移。觀察到的色彩和角色彩隨入射照明角度的偏移常常引起設(shè)備使用者的厭惡或反感，特別是在具有尖銳譜特征的照明下，例如熒光照明和一些led照明。透射中的角色偏也可成為反射中的色偏中的一個因素，反之亦然。透射和/或反射中的角色偏中的因素還包括由觀察角度導(dǎo)致的角色偏或遠(yuǎn)離某個可能由材料吸收(這略微獨(dú)立于角度)而導(dǎo)致的白點(diǎn)的角色偏，這由具體的光源或測試系統(tǒng)定義?？赏ㄟ^振幅來描述振蕩。如本文所用，術(shù)語“振幅”包括反射率或透射率的峰-谷變化。詞語“平均振幅”包括在光學(xué)波長區(qū)內(nèi)針對若干振蕩循環(huán)或波長子范圍計(jì)算平均值的反射率或透射率的峰-谷變化。如本文所用，“光學(xué)波長區(qū)”包含約400nm～約800nm(更具體而言約450nm～約650nm)范圍內(nèi)的波長。本發(fā)明的實(shí)施方式包括防反射涂層以提供在不同光源下從相對于垂直入射方向沿各種入射照明角度進(jìn)行觀察時，在無色性和/或更小的角色偏方面改善了的光學(xué)性能。本發(fā)明的一個方面涉及即使在光源下沿不同入射照明角度進(jìn)行觀察反射和/或透射也呈無色的制品。在一種或多種實(shí)施方式中，制品在參考光源角與任何在本文提供的范圍內(nèi)的入射光源角之間展現(xiàn)出約5或更小或約2或更小的反射和/或透射角色偏。如本文所用，詞語“色偏”(角度或參照點(diǎn))是指在ciel*,a*,b*色度系統(tǒng)下，反射和/或透射中a*和b*的變化。應(yīng)當(dāng)理解的是，除非另有說明，否則本文所述的制品的l*坐標(biāo)在所有角度或參照點(diǎn)下都是相同的，并且不會影響色偏。例如，角色偏可使用下式(1)來確定：(1)√((a*2-a*1)2+(b*2-b*1)2)，其中，a*1和b*1表示當(dāng)從入射參照照明角(可包括垂直入射)進(jìn)行觀察時制品的a*和b*坐標(biāo)，而a*2和b*2表示當(dāng)從入射照明角度進(jìn)行觀察時制品的a*和b*坐標(biāo)，前提是入射照明角度與參照照明角不同，且在一些情況中，入射照明角度與參照照明角至少相差約1度、2度或約5度。在一些例子中，當(dāng)在光源下從相對于參照照明角的各種入射照明角度進(jìn)行觀察時，制品展現(xiàn)出約10或更小(例如5或更小、4或更小、3或更小、或2或更小)的反射和/或透射的角色偏。在一些例子中，反射和/或透射的角色偏約為1.9或更小、1.8或更小、1.7或更小、1.6或更小、1.5或更小、1.4或更小、1.3或更小、1.2或更小、1.1或更小、1或更小、0.9或更小、0.8或更小、0.7或更小、0.6或更小、0.5或更小、0.4或更小、0.3或更小、0.2或更小、或0.1或更小。在一些實(shí)施方式中，角色偏可約為0。光源可包括cie確定的標(biāo)準(zhǔn)光源，包括a光源(代表鎢絲照明設(shè)備)、b光源(日光模擬光源)、c光源(日光模擬光源)、d系列光源(代表自然日光)和f系列光源(代表各種類型的熒光照明設(shè)備)。在一些特定的例子中，當(dāng)在cief2、f10、f11、f12或d65光源下，或更具體而言，在cief2光源下從偏離參照照明角的入射照明角度進(jìn)行觀察時，制品展現(xiàn)出約2或更小的反射和/或透射的角色偏。參照照明角可包括垂直入射(即約0度～約10度)、或相對于垂直入射為5度、相對于垂直入射為10度、相對于垂直入射為15度、相對于垂直入射為20度、相對于垂直入射為25度、相對于垂直入射為30度、相對于垂直入射為35度、相對于垂直入射為40度、相對于垂直入射為50度、相對于垂直入射為55度、或相對于垂直入射為60度，前提是參照照明角之間的差異以及入射照明角度與參照照明角之間的差異至少約為1度、2度或約5度。相對于參照照明角，入射照明角度偏離參照照明角的角度可在以下范圍以及它們之間的所有范圍和子范圍內(nèi)：約5度～約80度、約5度～約70度、約5度～約65度、約5度～約60度、約5度～約55度、約5度～約50度、約5度～約45度、約5度～約40度、約5度～約35度、約5度～約30度、約5度～約25度、約5度～約20度、約5度～約15度。當(dāng)參照照明角為垂直入射時，制品可在約2度～約80度(或約10度～約80度、或約20度～約80度)范圍內(nèi)的所有入射照明角度下以及沿著上述入射照明角度展現(xiàn)出本文所述的反射和/或透射角色偏。在一些實(shí)施方式中，當(dāng)入射照明角度與參照照明角之間的差異至少約為1度、2度或約5度時，制品可在約2度～約80度(或約10度～約80度、或約20度～約80度)范圍內(nèi)的所有入射照明角度下以及沿著上述入射照明角度展現(xiàn)出本文所述的反射和/或透射角色偏。在一個例子中，制品可在偏離與垂直入射相等的參照照明角約2度～約60度、約5度～約60度、或約10度～約60度范圍內(nèi)的任意入射照明角度下展現(xiàn)出5或更小(例如4或更小、3或更小、或約2或更小)的反射和/或透射角色偏。在另一些例子中，當(dāng)參照照明角為10度且入射照明角度是偏離參照照明角約12度～約60度、約15度～約60度、或約20度～約60度范圍內(nèi)的任意角度時，制品可展現(xiàn)出5或更小(例如4或更小、3或更小、或約2或更小)的反射和/或透射角色偏。在一些實(shí)施方式中，角色偏可在參照照明角(例如垂直入射)與入射照明角度之間約20度～約80度范圍內(nèi)的所有角度下測量。換言之，可在約0度～20度、約0度～約30度、約0度～約40度、約0度～約50度、約0度～約60度、或約0度～約80度范圍內(nèi)的所有角度下測量角色偏，且測得的角色偏可小于約5或小于約2。在一種或多種實(shí)施方式中，制品在ciel*,a*,b*色度系統(tǒng)中展現(xiàn)出反射和/或透射色彩，以使在光源(可包括cie確定的標(biāo)準(zhǔn)光源，包括a光源(代表鎢絲照明設(shè)備)、b光源(日光模擬光源)、c光源(日光模擬光源)、d系列光源(代表自然日光)和f系列光源(代表各種類型的熒光照明設(shè)備))下的透射色彩或反射坐標(biāo)相對于參照點(diǎn)的距離或參照點(diǎn)色偏小于約5或小于約2。在一些特定的例子中，當(dāng)在cief2、f10、f11、f12或d65光源下，或更具體而言，在cief2光源下從相對于參照照明角的入射照明角度進(jìn)行觀察時，制品展現(xiàn)出約2或更小的反射和/或透射的色偏。換一種說法，制品可展現(xiàn)出在具有如本文所定義的相對于參照點(diǎn)的參照點(diǎn)色偏小于約2的防反射表面122上測得的透射色(或透射色坐標(biāo))和/或反射色(或反射色坐標(biāo))。除非另有說明，否則透射色彩或透射色坐標(biāo)是在制品的兩個表面上測得的，所述兩個表面包括制品的防反射表面122和制品的相反裸露表面(即114)。除非另有說明，只在制品的防反射表面122上測量反射色彩或反射色坐標(biāo)。然而，可使用雙面測量(來自制品兩個表面的反射都包括在內(nèi))或單面測量(只測量來自制品的防反射表面122的反射)在制品的防反射表面122和制品的相反側(cè)(即圖1中的主表面144)上測量本文所述的反射色彩或反射色坐標(biāo)。其中，單面反射測量通常更加難以對防反射涂層實(shí)現(xiàn)低色彩或低色偏，這與制品背面與諸如黑色油墨或lcd或oled裝置這樣的吸光介質(zhì)結(jié)合的應(yīng)用(例如智能手機(jī)等)有關(guān)。在一種或多種實(shí)施方式中，參照點(diǎn)可以是ciel*a*b*色度系統(tǒng)中的原點(diǎn)(0,0)(或色坐標(biāo)a*＝0,b*＝0)、坐標(biāo)(a*＝-2,b*＝-2)或基材的透射或反射色坐標(biāo)。應(yīng)當(dāng)理解的是，除非另有說明，否則本文所述的制品的l*坐標(biāo)與參照點(diǎn)相同，并且不會影響色偏。在制品的參照點(diǎn)色偏是參照基材來定義的場合，將制品的透射色坐標(biāo)與基材的透射色坐標(biāo)進(jìn)行比較，而將制品的反射色坐標(biāo)與基材的反射色坐標(biāo)進(jìn)行比較。在一種或多種特定的實(shí)施方式中，透射色彩和/或反射色彩的參照點(diǎn)色偏可小于1或甚至小于0.5。在一種或多種特定的實(shí)施方式中，透射色彩和/或反射色彩的參照點(diǎn)色偏可以是1.8、1.6、1.4、1.2、0.8、0.6、0.4、0.2、0以及它們之間的所有范圍和子范圍。在參照點(diǎn)為色坐標(biāo)a*＝0,b*＝0的場合下，參照點(diǎn)色偏由式(2)計(jì)算。(2)參照點(diǎn)色偏＝√((a*制品)2+(b*制品)2)在參照點(diǎn)為色坐標(biāo)a*＝-2,b*＝-2的場合下，參照點(diǎn)色偏由式(3)計(jì)算。(3)參照點(diǎn)色偏＝√((a*制品+2)2+(b*制品+2)2)在參照點(diǎn)為基材的色坐標(biāo)的場合下，參照點(diǎn)色偏由式(4)計(jì)算。(4)參照點(diǎn)色偏＝√((a*制品-a*基材)2+(b*制品-b*基材)2)在一些實(shí)施方式中，制品可展現(xiàn)出透射色彩(或透射色坐標(biāo))和反射色彩(或反射色坐標(biāo))，以使當(dāng)參照點(diǎn)為基材的色坐標(biāo)、色坐標(biāo)a*＝0,b*＝0和坐標(biāo)a*＝-2,b*＝-2中的任一個時，參照點(diǎn)色偏小于2。在一種或多種實(shí)施方式中，制品在ciel*,a*,b*色度系統(tǒng)中在約0～約60度(約0度～約40度、或約0度～約30度)范圍內(nèi)的所有入射照明角度下的反射中的b*值(僅在防反射表面測量)可在約-5～約1、約-5～約0、約-4～約1、或約-4～約0的范圍內(nèi)。在一種或多種實(shí)施方式中，制品在ciel*,a*,b*色度系統(tǒng)中在約0～約60度(約0度～約40度、或約0度～約30度)范圍內(nèi)的所有入射照明角度下的(在防反射表面和相反裸露表面處測得的)透射中的b*值可小于約2(或約為1.8或更小、約1.6或更小、1.5或更小、1.4或更小、1.2或更小、或約1或更小)。透射中的b*值的下限可約為-5。在一些實(shí)施方式中，制品在光源d65、a和f2下，在約0度～約60度的入射照明角度下(在防反射表面和相反裸露表面處)展現(xiàn)出約-1.5～約1.5(例如-1.5～-1.2、-1.5～-1、-1.2～1.2、-1～1、-1～0.5或-1～0)的透射中的a*值。在一些實(shí)施方式中，制品在光源d65、a和f2下，在約0度～約60度的入射照明角度下(在防反射表面和相反裸露表面處)展現(xiàn)出約-1.5～約1.5(例如-1.5～-1.2、-1.5～-1、-1.2～1.2、-1～1、-1～0.5或-1～0)的透射中的b*值。在一些實(shí)施方式中，制品在光源d65、a和f2下，在約0度～約60度的入射照明角度下(只在防反射表面處)展現(xiàn)出約-5～約2(例如-4.5～1.5、-3～0、-2.5～0.25)的反射中的a*值。在一些實(shí)施方式中，制品在光源d65、a和f2下，在約0度～約60度的入射照明角度下(只在防反射表面處)展現(xiàn)出約-7～約0的反射中的b*值。一種或多種實(shí)施方式的制品或一種或多種制品的防反射表面122可在約400nm～約800nm范圍內(nèi)的光學(xué)波長區(qū)內(nèi)展現(xiàn)出約95％或更大(例如約9.5％或更大、約96％或更大、約96.5％或更大、約97％或更大、約97.5％或更大、約98％或更大、約98.5％或更大、或約99％或更大)的平均透光率。在一些實(shí)施方式中，制品或一種或多種制品的防反射表面122可在400nm～約800nm范圍內(nèi)的光學(xué)波長區(qū)內(nèi)展現(xiàn)出約2％或更小(例如約1.5％或更小、約1％或更小、約0.75％或更小、約0.5％或更小、或約0.25％或更小)的平均反光率。這些透光率和反光率數(shù)值可在整個光學(xué)波長區(qū)或光學(xué)波長區(qū)的所選范圍(例如光學(xué)波長區(qū)內(nèi)的100nm波長范圍、150nm波長范圍、200nm波長范圍、250nm波長范圍、280nm波長范圍、或300nm波長范圍)內(nèi)觀察到。在一些實(shí)施方式中，這些反光率和透光率數(shù)值可以是(考慮防反射表面122和相反主表面144上的反射率和透射率的)總反光率或總透光率，或者可以是在制品單側(cè)上觀察到的只在防反射表面122上測得(不考慮相反表面)的數(shù)值。除非另有說明，否則平均反射率或透射率是在約0度～約10度范圍內(nèi)的入射照明角度下測得的(但是，這些測量結(jié)果也可在45度或60度的入射照明角度下提供)。在一些實(shí)施方式中，一種或多種實(shí)施方式的制品或一種或多種制品的防反射表面122可在光學(xué)波長區(qū)內(nèi)展現(xiàn)出約1％更小、約0.7％更小、約0.5％更小、或約0.45％更小的平均可見適光反射率。這些適光反射率數(shù)值可在約0°～約20°、約0°～約40°、或約0°～約60°范圍內(nèi)的入射照明角度下展現(xiàn)。如本文所用，適光反射率通過根據(jù)人眼的靈敏度對波長譜進(jìn)行反射率加權(quán)來模擬人眼的響應(yīng)。適光反射率還可根據(jù)諸如cie色空間慣例這樣的已知的慣例而被定義為反射光的亮度或三色y值。平均適光反射率由式(4)定義，其由與眼睛的光譜響應(yīng)有關(guān)的光譜反射率r(λ)、光源光譜i(λ)和cie色彩匹配函數(shù)相乘得到。在一些實(shí)施方式中，制品展現(xiàn)出小于約10％的只在防反射表面上在垂直入射或近垂直入射(例如0～10度)下測得的單側(cè)平均適光反射率。在一些實(shí)施方式中，單側(cè)平均適光反射率為約9％或更小、約8％或更小、約7％或更小、約6％或更小、約5％或更小、約4％或更小、約3％、或約2％或更小。在一種特定的實(shí)施方式中，一種或多種制品的防反射表面122(即當(dāng)僅通過單側(cè)測量來測量防反射表面時)可在展現(xiàn)出上述平均適光反射率數(shù)值的同時，在約5度～約60度(參照照明角度為垂直入射)范圍內(nèi)的整個入射照明角度內(nèi)展現(xiàn)出使用d65光源和/或f2光源的小于約5.0、小于約4.0、小于約3.0、小于約2.0、小于約1.5、或小于約1.25的最大反射色偏。這些最大反射色偏數(shù)值代表在偏離垂直入射約5度～約60度的任意角度下測得的最高色點(diǎn)數(shù)值減去相同范圍內(nèi)的任意角度下測得的最低色點(diǎn)數(shù)值。這些數(shù)值可代表a*值的最大變化(a*最高-a*最低)、b*值的最大變化(b*最高-b*最低)、a*值和b*值的最大變化、或量值√((a*最高-a*最低)2+(b*最高-b*最低)2)的最大變化。基材基材110可包含無機(jī)材料，且可包含無定形基材、晶體基材或它們的組合?；?10可由人工材料和/或天然材料(例如石英和聚合物)形成。例如，在一些例子中，基材110可被鑒定為有機(jī)物且具體來說可以是聚合物。合適的聚合物的例子包括但不限于：熱塑性塑料，包括聚苯乙烯(ps)(包括苯乙烯的共聚物和混合物)、聚碳酸酯(pc)(包括共聚物和混合物)、聚酯(包括共聚物和混合物，包括聚對苯二甲酸乙二醇酯和聚對苯二甲酸乙二醇酯的共聚物)、聚烯烴(po)和環(huán)聚烯烴(環(huán)-po)、聚氯乙烯(pvc)、丙烯酸聚合物，包括聚甲基丙烯酸甲酯(pmma)(包括共聚物和混合物)、熱塑性氨基甲酸酯(tpu)、聚醚酰亞胺(pei)以及這些聚合物之間的混合物。其它示例性的聚合物包括環(huán)氧樹脂、苯乙烯類樹脂、酚醛樹脂、三聚氰胺樹脂和有機(jī)硅樹脂。在一些特定的實(shí)施方式中，基材110可具體排除聚合物、塑料和/或金屬基材?；目杀昏b定為含堿金屬的基材(即該基材包含一種或多種堿金屬)。在一種或多種實(shí)施方式中，基材展現(xiàn)出約1.45～約1.55范圍內(nèi)的折射率。在一些特定的實(shí)施方式中，基材110可在一個或多個相反主表面上展現(xiàn)出平均斷裂應(yīng)變，該平均斷裂應(yīng)變?yōu)?.5％或更大、0.6％或更大、0.7％或更大、0.8％或更大、0.9％或更大、1％或更大、1.1％或更大、1.2％或更大、1.3％或更大、1.4％或更大、1.5％或更大或甚至為2％或更大，利用球疊環(huán)測試(ball-on-ringtesting)使用至少5個、至少10個、至少15個或至少20個樣品進(jìn)行測量。在一些特定的實(shí)施方式中，基材110可在一個或多個相反主表面上展現(xiàn)出平均破裂應(yīng)變，該平均破裂應(yīng)變?yōu)榧s1.2％、約1.4％、約1.6％、約1.8％、約2.2％、約2.4％、約2.6％、約2.8％、或約3％或更大。合適的基材110可展現(xiàn)出約30～約120gpa范圍內(nèi)的彈性模量(或楊氏模量)。在一些例子中，基材的彈性模量可在以下范圍以及它們之間的所有范圍和子范圍內(nèi)：約30gpa～約110gpa、約30gpa～約100gpa、約30gpa～約90gpa、約30gpa～約80gpa、約30gpa～約70gpa、約40gpa～約120gpa、約50gpa～約120gpa、約60gpa～約120gpa、約70gpa～約120gpa。在一種或多種實(shí)施方式中，無定形基材可包含玻璃，該玻璃可以是經(jīng)過強(qiáng)化的或未經(jīng)過強(qiáng)化的。合適的玻璃的例子包括鈉鈣玻璃、堿金屬鋁硅酸鹽玻璃、含堿金屬的硼硅酸鹽玻璃和堿金屬鋁硼硅酸鹽玻璃。在一些變化形式中，玻璃可不含氧化鋰。在一種或多種替代性的實(shí)施方式中，基材110可包含諸如玻璃陶瓷基材這樣的晶體基材(可以是經(jīng)過強(qiáng)化的或未經(jīng)過強(qiáng)化的)，或者可包含單晶結(jié)構(gòu)，例如藍(lán)寶石。在一種或多種特定的實(shí)施方式中，基材110包含無定形基底(例如玻璃)和晶體包層(例如藍(lán)寶石層、多晶氧化鋁層和/或尖晶石(mgal2o4)層)。一種或多種實(shí)施方式的基材110的硬度可小于制品的硬度(所述硬度由本文所述的布氏壓頭硬度測試測得)?；牡挠捕瓤墒褂帽绢I(lǐng)域已知的方法測量，包括但不限于布氏壓頭硬度測試或維氏硬度測試?；?10可基本上是平面的或片狀的，但另一些實(shí)施方式可使用彎曲的或者經(jīng)過其他方式成形或雕刻的基材?；?10可基本上是光學(xué)澄清的、透明的和不發(fā)生光散射的。在這些實(shí)施方式中，基材在光學(xué)波長區(qū)內(nèi)可展現(xiàn)出約85％或更高、約86％或更高、約87％以上、約88％或更高、約89％或更高、約90％或更高、約91％或更高或者約92％或更高的平均透光率。在一種或多種替代性的實(shí)施方式中，基材110可以是不透明的或者在光學(xué)波長區(qū)內(nèi)展現(xiàn)出小于約10％、小于約9％、小于約8％、小于約7％、小于約6％、小于約5％、小于約4％、小于約3％、小于約2％、小于約1％、或小于約0％的平均透光率。在一些實(shí)施方式中，這些反光率和透光率數(shù)值可以是(考慮基材的兩個主表面上的反射率和透射率的)總反光率或總透光率，或者可以是在基材單側(cè)(即，只在防反射表面122上而不考慮相反表面)上觀察到的數(shù)值。除非另有說明，否則平均反射率或透射率是在0度的入射照明角度下測得的(但是，這些測量結(jié)果也可在45度或60度的入射照明角度下提供)?；?10可任選地展現(xiàn)出顏色，例如白色、黑色、紅色、藍(lán)色、綠色、黃色、橙色等。附加地或替代地，出于美觀和/或功能原因，基材110的物理厚度可沿著其一個或多個維度變化。例如，基材110的邊緣可比更靠近基材110中心的區(qū)域更厚?；?10的長度、寬度和物理厚度維度也可根據(jù)制品100的應(yīng)用或用途而變化。基材110可采用各種不同的方法來提供。例如，當(dāng)基材110包含諸如玻璃這樣的無定形基材時，各種形成方法可包括浮法玻璃法和下拉法，例如熔合拉制法和狹縫拉制法。基材110一旦形成就可對其進(jìn)行強(qiáng)化以形成強(qiáng)化基材。如本文所用，術(shù)語“強(qiáng)化基材”可指已經(jīng)經(jīng)過化學(xué)強(qiáng)化的基材，例如通過將基材表面中較小的離子離子交換成較大的離子。然而，也可利用本領(lǐng)域已知的其他強(qiáng)化方法來形成強(qiáng)化基材，例如熱退火，或者利用基材不同部分之間熱膨脹系數(shù)的錯配來產(chǎn)生壓縮應(yīng)力區(qū)和中心張力區(qū)。在通過離子交換處理對基材進(jìn)行化學(xué)強(qiáng)化的場合，基材表面層中的離子被具有相同價態(tài)或氧化態(tài)的更大的離子替換或交換。離子交換處理通常這樣進(jìn)行：將基材浸泡在熔融鹽浴中，該熔融鹽浴含有將與基材中的較小離子進(jìn)行交換的較大離子。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，離子交換處理的參數(shù)包括但不限于浴的組成和溫度、浸泡時間、基材在一種或多種鹽浴中的浸泡次數(shù)、多種鹽浴的使用、例如退火、洗滌等的其他步驟，這些參數(shù)通常是根據(jù)以下因素確定的：基材的組成和想要通過強(qiáng)化操作獲得的壓縮應(yīng)力(cs)、壓縮應(yīng)力層深度(或?qū)由疃?。例如，含堿金屬的玻璃基材的離子交換可以通過以下方式實(shí)現(xiàn)：在至少一種包含鹽的熔融浴中進(jìn)行浸泡，所述鹽是例如但不限于較大的堿金屬離子的硝酸鹽、硫酸鹽和鹽酸鹽。熔融鹽浴的溫度通常在約380℃～約450℃的范圍內(nèi)，而浸泡時間在約15分鐘～約40小時的范圍內(nèi)。但是，也可以采用不同于上文所述的溫度和浸泡時間。另外，以下文獻(xiàn)描述了在多離子交換浴中浸泡玻璃基材且在浸泡之間進(jìn)行洗滌和/或退火步驟的離子交換法的非限制性示例：2009年7月10日提交的douglasc.allan等人的美國專利申請第號12/500650，題為《用于消費(fèi)用途的具有壓縮表面的玻璃》(glasswithcompressivesurfaceforconsumerapplications)，其要求2008年7月11日提交的美國臨時專利申請?zhí)?1/079995的優(yōu)先權(quán)，其中通過在具有不同濃度的鹽浴中多次浸泡，相繼進(jìn)行離子交換處理，從而對該玻璃基材進(jìn)行強(qiáng)化；和2012年11月20日獲得授權(quán)的christopherm.lee等人的美國專利8312739，題為《用于玻璃化學(xué)強(qiáng)化的兩步離子交換》(dualstageionexchangeforchemicalstrengtheningofglass)，其要求2008年7月29日提交的美國臨時專利申請?zhí)?1/084398的優(yōu)先權(quán)，其中玻璃基材通過以下方式進(jìn)行強(qiáng)化：首先在用流出離子稀釋的第一浴中進(jìn)行離子交換，然后在第二浴中浸泡，所述第二浴的流出離子的濃度小于第一浴的流出離子的濃度。美國專利申請?zhí)?2/500650和美國專利號8312739的內(nèi)容通過引用全文納入本文。通過離子交換獲得的化學(xué)強(qiáng)化程度可基于中心張力(ct)、表面cs和層深度(dol)等參數(shù)進(jìn)行量化。表面cs可在表面附近或者在強(qiáng)化玻璃內(nèi)不同深度處測量。最大cs值可包括在強(qiáng)化基材表面測得的壓縮應(yīng)力(css)。中心張力ct可由壓縮應(yīng)力cs、物理厚度t和層深度dol計(jì)算得到，它是為玻璃基材內(nèi)毗鄰壓縮應(yīng)力層的內(nèi)核區(qū)域算得的。利用本領(lǐng)域已知的手段測量cs和dol。此類手段包括但不限于，使用諸如魯機(jī)歐有限公司(日本東京)制造的fsm-6000或者類似的商用儀器來測量表面應(yīng)力(fsm)，測量cs和dol的方法如題為《用于化學(xué)強(qiáng)化的平坦玻璃的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)范》(standardspecificationforchemicallystrengthenedflatglass)的astm1422c-99和題為《用于退火的、熱強(qiáng)化的、完全回火的平坦玻璃中的邊緣和表面應(yīng)力的非破壞性光彈性測量的標(biāo)準(zhǔn)測試方法》(standardtestmethodfornon-destructivephotoelasticmeasurementofedgeandsurfacestressesinannealed,heat-strengthened,andfully-temperedflatglass)的astm1279.19779所述，其全文通過引用納入本文。表面應(yīng)力測量依賴于對應(yīng)力光學(xué)系數(shù)(soc)的精確測量，其與玻璃基材的雙折射相關(guān)。soc則使用本領(lǐng)域已知的那些方法來進(jìn)行測量，例如纖維和四點(diǎn)彎曲法(這些方法如astm標(biāo)準(zhǔn)c770-98(2008)所述，題為《測試玻璃應(yīng)力-光學(xué)系數(shù)的標(biāo)準(zhǔn)測試方法》(standardtestmethodformeasurementofglassstress-opticalcoefficient)，其全文通過引用結(jié)合入本文)和大圓柱體法。cs與ct的關(guān)系由表達(dá)式(1)給出：ct＝(cs·dol)/(t-2dol)(1)，其中，t為玻璃制品的物理厚度(μm)。在本文的各個部分，ct和cs在這里以兆帕(mpa)表示，物理厚度t以微米(μm)或毫米(mm)表示，而dol以微米(μm)表示。在一種實(shí)施方式中，強(qiáng)化基材110可具有250mpa或更大、300mpa或更大、例如400mpa或更大、450mpa或更大、500mpa或更大、550mpa或更大、600mpa或更大、650mpa或更大、700mpa或更大、750mpa或更大或800mpa或更大的表面cs。強(qiáng)化基材可具有10μm或更大、15μm或更大、20μm或更大(例如25μm、30μm、35μm、40μm、45μm、50μm或更大)的dol，并且/或者可具有10mpa或更大、20mpa或更大、30mpa或更大、40mpa或更大(例如42mpa、45mpa或50mpa或更大)但小于100mpa(例如95、90、85、80、75、70、65、60、55mpa或更小)的ct。在一種或多種特定的實(shí)施方式中，強(qiáng)化基材具有以下參數(shù)中的一項(xiàng)或多項(xiàng)：大于500mpa的表面cs、大于15μm的dol和大于18mpa的ct?？捎糜诨牡氖纠圆ＡЭ砂▔A金屬鋁硅酸鹽玻璃組合物或堿金屬鋁硼硅酸鹽玻璃組合物，但其他玻璃組合物也可考慮。這些玻璃組合物能夠通過離子交換法來進(jìn)行化學(xué)強(qiáng)化。一種示例性的玻璃組合物包含sio2、b2o3和na2o，其中，(sio2+b2o3)≥66摩爾％，且na2o≥9摩爾％。在一種實(shí)施方式中，玻璃組合物包含至少6重量％的氧化鋁。在另一種實(shí)施方式中，基材包括含有一種或多種堿土金屬氧化物的玻璃組合物，以使堿土金屬氧化物的含量至少為5重量％。在一些實(shí)施方式中，合適的玻璃組成還包含k2o、mgo和cao中的至少一種。在一種特定的實(shí)施方式中，用于基材中的玻璃組合物可包含61～75摩爾％的sio2；7～15摩爾％的al2o3；0～12摩爾％的b2o3；9～21摩爾％的na2o；0～4摩爾％的k2o；0～7摩爾％的mgo；和0～3摩爾％的cao。另一種適用于基材的示例性的玻璃組合物包含：60～70摩爾％的sio2；6～14摩爾％的al2o3；0～15摩爾％的b2o3；0～15摩爾％的li2o；0～20摩爾％的na2o；0～10摩爾％的k2o；0～8摩爾％的mgo；0～10摩爾％的cao；0～5摩爾％的zro2；0～1摩爾％的sno2；0～1摩爾％的ceo2；小于50ppm的as2o3；和小于50ppm的sb2o3，其中，12摩爾％≤(li2o+na2o+k2o)≤20摩爾％且0摩爾％≤(mgo+cao)≤10摩爾％。另一種適用于基材的示例性的玻璃組合物包含：63.5～66.5摩爾％的sio2；8～12摩爾％的al2o3；0～3摩爾％的b2o3；0～5摩爾％的li2o；8～18摩爾％的na2o；0～5摩爾％的k2o；1～7摩爾％的mgo；0～2.5摩爾％的cao；0～3摩爾％的zro2；0.05～0.25摩爾％的sno2；0.05～0.5摩爾％的ceo2；小于50ppm的as2o3；和小于50ppm的sb2o3，其中，14摩爾％≤(li2o+na2o+k2o)≤18摩爾％且2摩爾％≤(mgo+cao)≤7摩爾％。在一種具體的實(shí)施方式中，適用于基材的堿金屬鋁硅酸鹽玻璃組合物包含氧化鋁、至少一種堿金屬，且在一些實(shí)施方式中包含大于50摩爾％的sio2，在另一些實(shí)施方式中包含至少58摩爾％的sio2，而在另一些實(shí)施方式中包含至少60摩爾％的sio2，其中，(al2o3+b2o3)/∑改性劑(即改性劑的總量)的比值＞1，在該比值中，組分以摩爾％計(jì)且改性劑是堿金屬氧化物。在一些具體的實(shí)施方式中，該玻璃組合物包含：58～72摩爾％的sio2；9～17摩爾％的al2o3；2～12摩爾％的b2o3；8～16摩爾％的na2o；和0～4摩爾％的k2o，其中，(al2o3+b2o3)/σ改性劑(即改性劑的總量)的比值＞1。在另一種實(shí)施方式中，基材可包含堿金屬鋁硅酸鹽玻璃組合物，所述堿金屬鋁硅酸鹽玻璃組合物包含：64～68摩爾％的sio2；12～16摩爾％的na2o；8～12摩爾％的al2o3；0～3摩爾％的b2o3；2～5摩爾％的k2o；4～6摩爾％的mgo和0～5摩爾％的cao，其中：66摩爾％≤sio2+b2o3+cao≤69摩爾％；na2o+k2o+b2o3+mgo+cao+sro＞10摩爾％；5摩爾％≤mgo+cao+sro≤8摩爾％；(na2o+b2o3)-al2o3≤2摩爾％；2摩爾％≤na2o-al2o3≤6摩爾％；以及4摩爾％≤(na2o+k2o)-al2o3≤10摩爾％。在一種替代性的實(shí)施方式中，基材可包含堿金屬鋁硅酸鹽玻璃組合物，所述堿金屬鋁硅酸鹽玻璃組合物包含：2摩爾％或更多的al2o3和/或zro2，或4摩爾％或更多的al2o3和/或zro2。在基材110包含晶體基材的場合，所述基材可包含單晶，所述單晶可包含al2o3。這種單晶基材被稱作藍(lán)寶石。用于晶體基材的其他合適材料包括多晶氧化鋁層和/或尖晶石(mgal2o4)?？蛇x地，晶體基材110可包含玻璃陶瓷基材，其可以是經(jīng)過強(qiáng)化的或未經(jīng)過強(qiáng)化的。合適的玻璃陶瓷的例子可包括li2o-al2o3-sio2系統(tǒng)(即las系統(tǒng))玻璃陶瓷、mgo-al2o3-sio2系統(tǒng)(即mas系統(tǒng))玻璃陶瓷和/或包含主晶相的玻璃陶瓷，所述主晶相包括β-石英固溶體、β-鋰輝石固溶體、堇青石和二硅酸鋰。玻璃陶瓷基材可利用本文所述的化學(xué)強(qiáng)化方法進(jìn)行強(qiáng)化。在一種或多種實(shí)施方式中，mas系統(tǒng)玻璃陶瓷基材可在li2so4熔鹽中強(qiáng)化，由此可發(fā)生用兩個li+交換mg2+。根據(jù)一種或多種實(shí)施方式的基材110可具有約100μm～約5mm的物理厚度。示例性的基材110的物理厚度在約100μm～約500μm的范圍內(nèi)(例如100、200、300、400或500μm)。另一個示例性的基材110的物理厚度在約500μm～約1000μm的范圍內(nèi)(例如500、600、700、800、900或1000μm)?；?10可具有大于約1mm(例如約2、3、4或5mm)的物理厚度。在一種或多種特定的實(shí)施方式中，基材110可具有2mm或更小或小于1mm的物理厚度。基材110可經(jīng)過酸拋光，或者以其他方式處理，以消除或減少表面缺陷的影響。防反射涂層如圖1所示，防反射涂層130可包含多個層，以使一個或多個層可被設(shè)置在基材110上與防反射涂層130相反的一側(cè)上(即，設(shè)置在主表面114上，如圖1所示)。設(shè)置在主表面114上的防反射涂層130的物理厚度可在約0.1μm～約5μm的范圍內(nèi)。在一些例子中，設(shè)置在主表面114上的防反射涂層140的物理厚度可在以下范圍以及它們之間的所有范圍和子范圍之間：約0.01μm～約0.9μm、約0.01μm～約0.8μm、約0.01μm～約0.7μm、約0.01μm～約0.6μm、約0.01μm～約0.5μm、約0.01μm～約0.4μm、約0.01μm～約0.3μm、約0.01μm～約0.2μm、約0.01μm～約0.1μm、約0.02μm～約1μm、約0.03μm～約1μm、約0.04μm～約1μm、約0.05μm～約1μm、約0.06μm～約1μm、約0.07μm～約1μm、約0.08μm～約1μm、約0.09μm～約1μm、約0.2μm～約1μm、約0.3μm～約5μm、約0.4μm～約3μm、約0.5μm～約3μm、約0.6μm～約2μm、約0.7μm～約1μm、約0.8μm～約1μm、或約0.9μm～約1μm本文所述的制品的示例性實(shí)施方式如以下的表1～2所示。表1：包含12層式光學(xué)涂層的示例性制品。表2：包含16層式光學(xué)涂層的制品。如表1和2所示，光學(xué)膜的層的物理厚度可隨具有最大厚度的耐劃痕層(層6)而變化。所述層的物理厚度的范圍如表3～4所示。在上述16層式設(shè)計(jì)和12層式設(shè)計(jì)中，層7具有最大的物理厚度，且給予光學(xué)涂層和制品以顯著的硬度和耐劃痕性。應(yīng)當(dāng)理解的是，可制造不同的層以具有最大的物理厚度。然而，在這些具體設(shè)計(jì)中，如以下的表3～4所示，位于最厚層上方和下方的阻抗匹配層(在該情況下為層7)意味著存在很大的光學(xué)設(shè)計(jì)自由以調(diào)整該最厚層的厚度。表3：示例性的12層式光學(xué)涂層的層厚度范圍。層最小值最大值1260120111201801020309405581020715050006515535504253532030240601512表4：示例性的16層式光學(xué)涂層的層厚度范圍。層最小值最大值166012015120180145351340110121045112570102070920608540715050006515530504204032040230601515本發(fā)明的第二方面涉及一種本文所述的制品的形成方法。在一種實(shí)施方式中，該方法包括在涂覆腔室中提供具有主表面的基材，在涂覆腔室中形成真空，在主表面上形成本文所述的耐久性光學(xué)涂層，可選地在光學(xué)涂層上形成包含易清潔涂層和耐劃痕涂層中的至少一個的附加涂層，從涂覆腔室中取出基材。在一種或多種實(shí)施方式中，光學(xué)涂層和附加涂層在同一涂層腔室中形成，或者在不破壞分開的涂覆腔室中的真空的條件下形成。在一種或多種實(shí)施方式中，該方法可包括在載體上負(fù)載基材，然后利用該載體在負(fù)載鎖定條件下將基材移入或移出不同的涂覆腔室，以使基材移動時能夠保持真空。光學(xué)涂層120和/或附加涂層140可利用各種沉積方法形成，諸如真空沉積技術(shù)，例如化學(xué)氣相沉積(例如等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(pecvd)、低壓化學(xué)氣相沉積、大氣壓化學(xué)氣相沉積和等離子體增強(qiáng)大氣壓化學(xué)氣相沉積)、物理氣相沉積(例如反應(yīng)性或非反應(yīng)性濺鍍或激光燒蝕)、熱蒸發(fā)或電子束蒸發(fā)和/或原子層沉積。還可使用基于液體的方法，諸如噴涂、浸涂、旋涂或狹縫涂布(例如使用溶膠-凝膠材料)。在使用真空沉積的場合，可使用在線工藝以在一個沉積運(yùn)行中形成光學(xué)涂層120和/或附加涂層140。在一些例子中，可使用線性pecvd源來進(jìn)行真空沉積。在一些實(shí)施方式中，該方法可包括對光學(xué)涂層120和/或附加涂層140的厚度進(jìn)行控制，以使該厚度沿著防反射表面122區(qū)域的至少約80％、或者距離沿著基材區(qū)域的任意點(diǎn)處的各層的目標(biāo)厚度的變化不會超過約4％。在一些實(shí)施方式中，光學(xué)涂層120和/或附加涂層140的厚度滿足以下條件：該厚度沿著防反射表面122區(qū)域的至少約95％的變化不會超過約4％。實(shí)施例通過以下實(shí)施例對各種實(shí)施方式作進(jìn)一步闡述。在這些實(shí)施例中，應(yīng)當(dāng)注意的是，發(fā)現(xiàn)aloxny和siualvoxny基本上是可以互換的，因?yàn)樵谀Ｐ蛯?shí)施例中具有高折射率材料，且對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員顯而易見的是，只需要進(jìn)行小幅工藝調(diào)整就可重新形成目標(biāo)折射率分布數(shù)值和所提供的層厚度設(shè)計(jì)。實(shí)施例1實(shí)施例1包括12層式光學(xué)涂層300，該光學(xué)涂層300包含依次設(shè)置在彼此之上，且設(shè)置在經(jīng)過強(qiáng)化的鋁硅酸鹽玻璃基材201上的層305、310、320、330、340、350、360、370、380、390和400，該基材201具有約58摩爾％的sio2、16.5摩爾％的al2o3、17摩爾％的na2o、3摩爾％的mgo和約6.5摩爾％的p2o5的標(biāo)稱組成。光學(xué)涂層300還包含設(shè)置在防反射涂層的層內(nèi)的耐劃痕層345(包含亞層345a～345i)。制品的結(jié)構(gòu)如圖8所示(圖8中所示的厚度并非真實(shí)厚度，而是用以說明之用)，層的相對厚度如表5所示。sio2和siualvoxny層都是通過在aja工業(yè)(aja-industries)的濺鍍沉積工具中進(jìn)行反應(yīng)性濺鍍來制造的。sio2由具有離子輔助的si靶的dc反應(yīng)性濺鍍來沉積；siualvoxny材料由具有離子輔助的dc反應(yīng)性濺鍍結(jié)合rf疊加dc濺鍍來沉積。靶為3"直徑的硅和3"直徑的al。反應(yīng)性氣體為氮?dú)夂脱鯕猓肮ぷ鳌?或惰性氣體)為氬氣。供給至硅的功率為13.56mhz的射頻(rf)。供給至鋁的功率為dc。制造防反射涂層結(jié)構(gòu)時所使用的濺鍍工藝條件示于表6。如表5所示，層340和第3行中的345a-i包含具有基本上均勻組成的層(層340)和多個層，且當(dāng)它們相互比較時，具有因改變多個層與它們相鄰層的組成而形成的折射率梯度(層345a-345i)，因此，折射率步進(jìn)地或單調(diào)地從2.015增加至2.079再變化至2.015。未測量層345b-d以及345f-h的折射率，但基于本領(lǐng)域已知的方法對它們進(jìn)行了估計(jì)。按照實(shí)施例1制造的制品相比于比較性的未涂覆裸露玻璃基材展現(xiàn)出顯著改善的耐磨性，且在一部分光學(xué)波長區(qū)內(nèi)具有低于1％的反射率。表5：實(shí)施例1的結(jié)構(gòu)。表6：實(shí)施例1的dc/rf反應(yīng)性濺鍍工藝條件。模型實(shí)施例2～3以及比較模型實(shí)施例4模型實(shí)施例2～3使用建模來展示制品的反射光譜，該制品包含如本文所述的光學(xué)涂層的實(shí)施方式。在模型實(shí)施例2～5中，光學(xué)涂層包含siualvoxny層、sio2層和經(jīng)過強(qiáng)化的鋁硅酸鹽玻璃基材，該基材具有約58摩爾％的sio2、17摩爾％的al2o3、17摩爾％的na2o、3摩爾％的mgo、0.1摩爾％的sno和6.5摩爾％的p2o5的標(biāo)稱組成。為了確定這些涂層材料的折射率分布曲線，使用離子輔助在約50℃的溫度下，(分別)利用硅、鋁、硅與鋁的組合或經(jīng)過共濺鍍的、或氟化鎂靶的dc、rf或rf疊加的dc反應(yīng)性濺鍍將各涂層材料的層形成至硅晶片上。在一些層的沉積過程中，將該晶片加熱至200℃，并且使用具有3英寸直徑的靶。所用的反應(yīng)性氣體包含氮?dú)?、氟氣和氧氣，且使用氬氣作為惰性氣體。向硅靶供給13.56mhz的rf功率，向si靶、al靶和其它靶提供dc功率。所形成的層和玻璃基材中的每一個的折射率(隨波長變化)通過使用橢圓偏振光譜法測量。然后使用測得的折射率來計(jì)算模型實(shí)施例2～5的反射譜。為了方便起見，這些模型實(shí)施例使用它們的描述性表格中的單一折射率數(shù)值，該單一折射率數(shù)值與選自分布曲線上約550nm波長處的點(diǎn)對應(yīng)。如表7所示，模型實(shí)施例2包括12層式光學(xué)涂層，該光學(xué)涂層的層依次設(shè)置在彼此的頂部，且設(shè)置在經(jīng)過強(qiáng)化的鋁硅酸鹽玻璃基材200上。表7：模型實(shí)施例2的結(jié)構(gòu)。在不同的觀察入射照明角度或照明的角度(“aoi”)下對模型實(shí)施例2的制品的單側(cè)的反射率進(jìn)行計(jì)算，所得到的反射譜示于圖9。還基于10°觀察器對在d65光源和f2光源下的反射色彩進(jìn)行測量，隨著入射照明角度或aoi以規(guī)則的增量從偏離垂直入射0度變化至約60度來對a*和b*值進(jìn)行作圖。顯示反射色彩的圖表示于圖10。模型實(shí)施例3包括10層式光學(xué)涂層，該光學(xué)涂層的層依次設(shè)置在彼此的頂部，且設(shè)置在經(jīng)過強(qiáng)化的鋁硅酸鹽玻璃基材200上。這些層的相對厚度示于表8。表18：模型實(shí)施例3的結(jié)構(gòu)。在不同的觀察入射照明角度或照明的角度(“aoi”)下對模型實(shí)施例3的制品的單側(cè)的反射率進(jìn)行計(jì)算，所得到的反射譜示于圖11。還基于10°觀察器對在d65光源和f2光源下的反射色彩進(jìn)行測量，隨著入射照明角度或aoi以規(guī)則的增量從偏離垂直入射0度變化至約60度來對a*和b*值進(jìn)行作圖。顯示反射色彩的圖表示于圖12。將模型實(shí)施例3的光學(xué)性能與比較模型實(shí)施例4進(jìn)行比較，該比較模型實(shí)施例4包括nb2o5和sio2層交替設(shè)置的6層式防反射涂層和設(shè)置在該防反射涂層上的疏水性涂層。為了制備比較模型實(shí)施例4，使用具有離子輔助的電子束沉積來將nb2o5的單層沉積在硅晶片上，并且將sio2的單層沉積在硅晶片上。使用橢圓偏振光譜法測量對這些層的隨波長變化的折射率進(jìn)行測量。然后將所測得的折射率用于比較模型實(shí)施例4中。所評價的光學(xué)性能包括當(dāng)在f02和d65光源下從偏離垂直入射約0度～約60度的入射照明角度進(jìn)行觀察時，在約450nm～約650nm波長范圍內(nèi)的平均反射率和色偏(關(guān)于a*和b*的坐標(biāo)(-1,-1)，使用公式√((a*實(shí)施例-(-1))2+(b*實(shí)施例-(-1))2)))。表9顯示了模型實(shí)施例3和比較模型實(shí)施例4的平均反射率和最大色偏。表9：模型實(shí)施例3和比較模型實(shí)施例4的平均反射率和色偏。如表12所示，盡管比較模型例4展現(xiàn)出較低的平均反射率，其還展現(xiàn)出最大的色偏。雖然模型實(shí)施例3具有顯著更低的色偏，但反射率略有上升?；趯哂邢嗨撇牧系南嗨仆繉拥闹圃旌蜏y試，認(rèn)為模型實(shí)施例3會展現(xiàn)出比比較模型實(shí)施例4更好的耐劃痕性和耐磨性。實(shí)施例5如表10所示，實(shí)施例5包括經(jīng)過強(qiáng)化的鋁硅酸鹽玻璃基材，該基材具有約58摩爾％的sio2、17摩爾％的al2o3、17摩爾％的na2o、3摩爾％的mgo、0.1摩爾％的sno和6.5摩爾％的p2o5的標(biāo)稱組成、以及包含2微米的耐劃痕層的16層式光學(xué)涂層。表10：實(shí)施例5的結(jié)構(gòu)。實(shí)施例5在d65照明下在光學(xué)波長區(qū)內(nèi)，分別在0°、30°、45°和60°的入射照明角度下展現(xiàn)出0.71％、0.76％、1.43％和4.83％的單側(cè)適光平均反射率(即，在防反射表面122上測得的適光平均反射率)。實(shí)施例5在d65照明下在光學(xué)波長區(qū)內(nèi)，分別在0°、30°、45°和60°的入射照明角度下展現(xiàn)出99.26％、99.21％、98.54％和95.14％的單側(cè)適光平均透射率(即，在防反射表面122上測得的適光平均透射率)。實(shí)施例5在d65照明下在光學(xué)波長區(qū)內(nèi)，分別在0°、30°、45°和60°的入射照明角度下展現(xiàn)出4.80％、4.99％、6.36％和12.64％的總適光平均反射率(即，在防反射表面122和相反主表面114上測得的適光平均反射率)。實(shí)施例5在d65照明下在光學(xué)波長區(qū)內(nèi)，分別在0°、30°、45°和60°的入射照明角度下展現(xiàn)出95.18％、94.99％、93.61％和87.33％的總適光平均透射率(即，在防反射表面122和相反主表面114上測得的適光平均透射率)。0度～60度的入射照明角度或aoi以及光源d65和f2下的實(shí)施例5的單一表面(即，防反射表面122)和兩個表面(即，圖1中的防反射表面122和主表面114)的反射和透射色坐標(biāo)示于表11a～11d。如本領(lǐng)域已知，單一表面的色坐標(biāo)通過消除來自主表面114的透射或反射來測量。使用下式來計(jì)算色偏：√((a*2-a*1)2+(b*2-b*1)2)，其中，a*1和b*1代表當(dāng)從垂直入射(即，aoi＝0)進(jìn)行觀察時的制品的a*和b*坐標(biāo)，a*2和b*2代表當(dāng)從不同于或偏離垂直入射的入射照明角度(即，aoi＝1～60)進(jìn)行觀察時的a*和b*坐標(biāo)。表11a：實(shí)施例5的使用光源d65的一個表面的反射和透射色坐標(biāo)(y、l*、a*和b*)。表11b：實(shí)施例5的使用光源f2的一個表面的反射和透射色坐標(biāo)(y、l*、a*和b*)。表11c：實(shí)施例5的使用光源d65的兩個表面的反射和透射色坐標(biāo)(y、l*、a*和b*)。表11d：實(shí)施例5的使用光源f2的兩個表面的反射和透射色坐標(biāo)(y、l*、a*和b*)。實(shí)施例6如表12所示，實(shí)施例6包括與實(shí)施例5相同的經(jīng)過強(qiáng)化的鋁硅酸鹽玻璃基材、以及包含2微米的耐劃痕層的12層式光學(xué)涂層。表12：實(shí)施例6的結(jié)構(gòu)。實(shí)施例6在d65光源下在光學(xué)波長區(qū)內(nèi)，分別在0°、30°、45°和60°的入射照明角度下展現(xiàn)出0.73％、0.80％、1.47％和4.85％的單側(cè)適光平均反射率(即，在防反射表面122上測得的適光平均反射率)。實(shí)施例6在d65光源下在光學(xué)波長區(qū)內(nèi)，分別在0°、30°、45°和60°的入射照明角度下展現(xiàn)出99.26％、99.18％、98.52％和95.13％的單側(cè)適光平均透射率(即，在防反射表面122上測得的適光平均透射率)。實(shí)施例6在d65照射下在光學(xué)波長區(qū)內(nèi)，分別在0°、30°、45°和60°的入射照明角度下展現(xiàn)出4.74％、4.94％、6.32％和12.56％的總適光平均反射率(即，在防反射表面122和相反主表面114上測得的適光平均反射率)。實(shí)施例6在光學(xué)波長區(qū)內(nèi)，分別在0°、30°、45°和60°的入射照明角度下展現(xiàn)出95.24％、95.04％、93.67％和87.42％的總適光平均透射率(即，在防反射表面122和相反主表面114上測得的總適光平均透射率)。0度～60度的入射照明角度或aoi以及光源d65和f2下的實(shí)施例6的單一表面(即，防反射表面122)和兩個表面(即，圖1中的防反射表面122和主表面114)的反射和透射色坐標(biāo)以與實(shí)施例5相同的方式示于表13a～11d。也按照與實(shí)施例5相同的方式計(jì)算色偏。表13a：實(shí)施例6的使用光源d65的一個表面的反射和透射色坐標(biāo)(y、l*、a*和b*)。表13b：實(shí)施例6的使用光源f2的一個表面的反射和透射色坐標(biāo)(y、l*、a*和b*)。表13c：實(shí)施例6的使用光源d65的兩個表面的反射和透射色坐標(biāo)(y、l*、a*和b*)。表13d：實(shí)施例6的使用光源f2的兩個表面的反射和透射色坐標(biāo)(y、l*、a*和b*)。實(shí)施例7如表14所示，實(shí)施例7包括與實(shí)施例5相同的經(jīng)過強(qiáng)化的鋁硅酸鹽玻璃基材、以及包含2微米的耐劃痕層的12層式光學(xué)涂層。表14：實(shí)施例7的結(jié)構(gòu)。模型實(shí)施例8～11模型實(shí)施例8～11使用建模來展示制品的反射光譜，該制品包含本文所述的耐久性和耐劃痕性光學(xué)涂層的實(shí)施方式。如表15～19所示，在模型實(shí)施例8～11中，光學(xué)涂層包含aloxny層、sio2層和經(jīng)過強(qiáng)化的鋁硅酸鹽玻璃基材，該基材具有約58摩爾％的sio2、17摩爾％的al2o3、17摩爾％的na2o、3摩爾％的mgo、0.1摩爾％的sno和6.5摩爾％的p2o5的標(biāo)稱組成。按照與模型實(shí)施例2～5相似的方式得到用于模型實(shí)施例8～11的涂層材料和基材的折射率分布曲線。表15：模型實(shí)施例8的結(jié)構(gòu)。表16：模型實(shí)施例9的結(jié)構(gòu)。表17：模型實(shí)施例10的結(jié)構(gòu)。表18：模型實(shí)施例11的結(jié)構(gòu)。圖13～14分別顯示了只對模型實(shí)施例8的防反射表面算得的反射譜和算得的反射色。圖15～16分別顯示了只對模型實(shí)施例9的防反射表面算得的反射譜和算得的反射色。圖17～18分別顯示了只對模型實(shí)施例10的防反射表面算得的反射譜和算得的反射色。模型實(shí)施例8～11的光學(xué)性能總結(jié)于表22。表22：模型實(shí)施例8～11的光學(xué)性能。如圖13、15、17和19所示，模型實(shí)施例8～11在光學(xué)波長區(qū)內(nèi)在8°、20°和40°的觀察角度下展現(xiàn)出低反射率(即，低于約10％以及低于約8％的數(shù)值)，且在60°的觀察角度下展現(xiàn)出略微更高的反射率。模型實(shí)施例11在8°、20°、40°和60°的觀察角度下展現(xiàn)出很低的反射率(例如最大平均反射率約為7％或更小)。平均反射率在8°、20°和40°的觀察角度下甚至更低(即，小于約2％)。如圖14和20所示，模型實(shí)施例8和11在d65和f2光源下在從垂直入射至60°的觀察角度下展現(xiàn)出小于約2的反射色。如圖16和18所示，模型實(shí)施例9和10在d65和f2光源下在從垂直入射至60°的觀察角度下展現(xiàn)出小于約3的反射色范圍。認(rèn)為實(shí)施例8～11還展現(xiàn)出本文所述的硬度值(更具體而言，這些硬度值在約14gpa～約21gpa的范圍內(nèi))，所述硬度值通過布氏壓頭硬度測試測得。將模型實(shí)施例8～11的光學(xué)性能與模型比較例4進(jìn)行比較。所評價的光學(xué)性能包括當(dāng)在f02和d65光源下從偏離垂直入射約0度～約60度的入射照明角度進(jìn)行觀察時，在約450nm～約650nm波長范圍內(nèi)的平均反射率和色偏(關(guān)于a*和b*的坐標(biāo)(-1,-1)，使用公式√((a*實(shí)施例-(-1))2+(b*實(shí)施例-(-1))2)))。模型比較實(shí)施例4展現(xiàn)出較低的平均反射率，但也沿著0度～60度的觀察角度展現(xiàn)出顯著更大的色偏。實(shí)施例12實(shí)施例12包括表23中所示的16層式光學(xué)涂層，該光學(xué)涂層包含依次設(shè)置在彼此頂部且設(shè)置在經(jīng)過強(qiáng)化的鋁硅酸鹽玻璃基材上的層，該基材具有約65摩爾％的sio2、5摩爾％的b2o3、14摩爾％的al2o3、14摩爾％的na2o和2.5摩爾％的mgo的標(biāo)稱組成。表23：實(shí)施例12的結(jié)構(gòu)。sio2和siualvoxny層都是通過在aja工業(yè)(aja-industries)的濺鍍沉積工具中進(jìn)行反應(yīng)性濺鍍來制造的。sio2由具有離子輔助的si靶的dc反應(yīng)性濺鍍來沉積；siualvoxny材料由具有離子輔助的dc反應(yīng)性濺鍍結(jié)合rf疊加dc濺鍍來沉積。靶為3"直徑的硅和3"直徑的al。反應(yīng)性氣體為氮?dú)夂脱鯕?，“工作?或惰性氣體)為氬氣。供給至硅的功率為13.56mhz的射頻(rf)。供給至鋁的功率為dc。用來形成實(shí)施例12的光學(xué)涂層的濺鍍工藝條件示于表23。表24：實(shí)施例12的濺鍍工藝條件實(shí)施例13展現(xiàn)了表22和表23中所示的光學(xué)性質(zhì)。表22顯示了(使用總反射率或兩側(cè)測量)對基材的防反射表面和相反裸露表面測得的反射和透射色。表23顯示了(使用單側(cè)測量)只對防反射表面測得的反射色。表25：實(shí)施例12的光學(xué)性能，其在防反射表面上測得且包括基材的相反裸露表面。表26：實(shí)施例12的光學(xué)性能，其只在防反射表面上測得。實(shí)施例12展現(xiàn)了如表28所示的在防反射表面上測得的硬度和楊氏模量。這兩種數(shù)值都使用本文所述的布氏硬度計(jì)壓頭測量。表27：實(shí)施例12的所測得的硬度和楊氏模量。對本領(lǐng)域的技術(shù)人員而言，顯而易見的是可以在不偏離本發(fā)明的精神和范圍的情況下對本發(fā)明進(jìn)行各種修改和變動。當(dāng)前第1頁12