本發(fā)明涉及一種多層復(fù)合結(jié)構(gòu)的全固體電致變色器件，尤其涉及采用三氧化鎢薄膜和鎂釔合金薄膜多層復(fù)合結(jié)構(gòu)，通過(guò)施加電壓可以使器件調(diào)控光線的透過(guò)，吸收和反射，以實(shí)現(xiàn)建筑物和移動(dòng)物體的玻璃及其他外壁的光線調(diào)節(jié)，屬于節(jié)能環(huán)保的智能材料。

背景技術(shù)：

人類社會(huì)發(fā)展面臨著能源與資源短缺，環(huán)境污染，人口膨脹，全球變暖等諸多問(wèn)題。其中，能源與環(huán)境問(wèn)題尤為突出，且兩者之間存在著千絲萬(wàn)縷的聯(lián)系，如能源消耗必然帶來(lái)co2排放增加，進(jìn)一步加劇全球變暖和溫室效應(yīng)。據(jù)bp發(fā)布的《statisticalreviewofworldenergy2014fullreport》統(tǒng)計(jì)表明，我國(guó)2013年一次能源消耗高達(dá)2852.4百萬(wàn)噸油當(dāng)量，co2排放量9524.3百萬(wàn)噸，雙雙位居世界第一。而我國(guó)建筑業(yè)能耗占總耗能的33％左右(截止2012年統(tǒng)計(jì))，且目前還在以每年1個(gè)百分點(diǎn)的速度增加。在整個(gè)建筑能耗當(dāng)中，外窗損耗(目前主要是玻璃窗)占到了50％以上。因此如何降低建筑能耗，尤其是降低玻璃外窗的損耗，成為目前各國(guó)科研人員研究的熱點(diǎn)。

目前，市場(chǎng)上銷售節(jié)能玻璃或節(jié)能貼膜(簡(jiǎn)稱節(jié)能窗)，均屬于低發(fā)射率(low-e)的范疇，特點(diǎn)是具有較高的可見(jiàn)光透過(guò)率和較低的遠(yuǎn)紅外發(fā)射率(冬季隔熱)，可在實(shí)現(xiàn)隔熱保溫的同時(shí)，對(duì)太陽(yáng)光中的紅外部分實(shí)行高遮斷(適合于炎熱地區(qū))或高透過(guò)(適合于寒冷地區(qū))。但是，由于低發(fā)射率節(jié)能窗光學(xué)性能固定，不能隨環(huán)境變化實(shí)現(xiàn)冬夏雙向調(diào)節(jié)，不適合冬暖夏熱四季分明地區(qū)的應(yīng)用。

而最近出現(xiàn)的智能型節(jié)能玻璃，由于其光學(xué)性能可隨外界環(huán)境或居住者的需要實(shí)現(xiàn)雙向調(diào)節(jié)，能適用于大部分冬暖夏熱地區(qū)，使居住空間更為舒適節(jié)能，被稱作為下一代的玻璃產(chǎn)品。根據(jù)材料的致變色原理可分為電致變色、氣致變色、熱致變色和光致變色等幾種主要類型。氣致變色窗是通過(guò)氣體(主要是氫氣)的植入與脫出實(shí)現(xiàn)窗戶不同狀態(tài)的變化，進(jìn)而控制光線進(jìn)入室內(nèi)的通量。雖然能過(guò)主動(dòng)控制，但是涉及到使用氫氣的安全性，耐久性問(wèn)題及其供氣系統(tǒng)的研究不完備性而導(dǎo)致鎂合金氣致變色玻璃的普及目前有很多關(guān)鍵問(wèn)題需要解決。光致變色窗和熱致變色窗屬于被動(dòng)控制，隨著光線的強(qiáng)弱或者溫度的改變而自律變化，不能按照人們的意愿改變光線及熱量進(jìn)入室內(nèi)的通量。而電致變色窗可以通過(guò)外界電壓的調(diào)節(jié)實(shí)現(xiàn)對(duì)光通量的控制，從而實(shí)現(xiàn)節(jié)能減排，降低能耗，美化裝飾等目的，且電致變色窗不僅僅局限于建筑上使用，同時(shí)可以應(yīng)用在交通(如汽車玻璃，防眩光后視鏡)，通信(光路控制開(kāi)關(guān))，軍事(隱蔽)，衛(wèi)星等，可以說(shuō)電致變色窗的研究，尤其是電致變色相 關(guān)器件的研究對(duì)改善人類生活，節(jié)能減排，促進(jìn)社會(huì)發(fā)展有極其重要的意義。

智能窗按其對(duì)光線的控制方式又可以分為吸收型和反射型。絕大部分變色材料都是吸收型，雖然此類變色材料能起到節(jié)能的效果，但因?yàn)榇嬖诒旧磔椛涞膯?wèn)題，實(shí)際節(jié)能效果不好，而氣致變色材料屬于反射型材料，但安全穩(wěn)定性不高，因此制造反射型節(jié)能窗是目前研究智能窗的新熱點(diǎn)。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明旨在提供一種新型的全固體電致變色調(diào)光器件，兼具有電致變色器件和氣致變色器件的優(yōu)點(diǎn)。

本發(fā)明提供一種鎂全固體電致變色調(diào)光器件，包括三氧化鎢儲(chǔ)氫層、鎂釔合金調(diào)光層以及位于三氧化物儲(chǔ)氫層、鎂釔合金調(diào)光層之間的質(zhì)子傳導(dǎo)層和貴金屬催化層。

本發(fā)明結(jié)合了電致變色材料三氧化鎢和反射型氣致變色材料鎂釔合金，在施加電壓時(shí)，器件可以調(diào)節(jié)光線的透過(guò)、吸收和反射：鎂釔合金層一面可以在鏡面態(tài)(銀白色)和透明態(tài)(無(wú)色)之間轉(zhuǎn)變，其另一三氧化鎢面可以在吸收態(tài)(藍(lán)色)和透明態(tài)(無(wú)色)之間轉(zhuǎn)變，有望應(yīng)用于節(jié)能智能窗戶，移動(dòng)體窗戶，紫外、可見(jiàn)、紅外全光譜阻隔器件，或者把全固體電致變色器件嵌入到任何調(diào)光部件上。

本發(fā)明中，所述三氧化鎢儲(chǔ)氫層為非晶態(tài)薄膜，厚度可為50～500nm，優(yōu)選100～200nm。

本發(fā)明中，所述質(zhì)子傳導(dǎo)層可為無(wú)機(jī)氧化物透明導(dǎo)電薄膜或有機(jī)高分子質(zhì)子導(dǎo)電薄膜。例如所述質(zhì)子傳導(dǎo)層可為五氧化二鉭或五氧化二釹非晶態(tài)無(wú)色透明薄膜，厚度可為50～500nm，優(yōu)選100～120nm。又例如，所述質(zhì)子傳導(dǎo)層可為聚四氟乙烯質(zhì)子交換薄膜，厚度可為10～500μm，優(yōu)選100μm。

本發(fā)明中，所述貴金屬催化層的化學(xué)組成為金屬鈀或其合金pdmy，pdmx合金中m為sc，y，ti，zr，v，nb，ta，fe，ni，co，mo，w中的至少一種，其中y為0<y≤0.5。所述貴金屬催化層的厚度可為5～10nm。

本發(fā)明中所述鎂釔合金調(diào)光層的化學(xué)組成為mgxy，其中0≤x≤1。厚度可為20～200nm，優(yōu)選100～200nm。

附圖說(shuō)明

圖1是全固體電致變色器件結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是三氧化鎢薄膜x射線衍射圖；

圖3是五氧化二鉭薄膜x射線衍射圖；

圖4是三氧化鎢與五氧化二鉭接觸斷面sem表征；

圖5是三氧化鎢表面sem表征；

圖6是五氧化二鉭表面sem表征；

圖7是全固體器件的相應(yīng)時(shí)間以及670nm時(shí)的透過(guò)，反射光譜；

圖8是高分子電解質(zhì)的電導(dǎo)率與nafion濃度的關(guān)系；

圖9是roll-to-roll貼合示意圖；

圖10是全固體器件的合金鏡面及氧化鎢面的反射光學(xué)照片。

具體實(shí)施方式

以下結(jié)合附圖和下述實(shí)施方式進(jìn)一步說(shuō)明本發(fā)明，應(yīng)理解，附圖及下述實(shí)施方式僅用于說(shuō)明本發(fā)明，而非限制本發(fā)明。

參見(jiàn)圖1，其示出全固體電致變色器件的示例結(jié)構(gòu)，包括位于器件一側(cè)的三氧化鎢(wo3)層作為電致變色層和位于器件相對(duì)另一側(cè)的鎂釔合金層作為氣致變色層(也是作為整個(gè)器件的調(diào)光層)。三氧化鎢層應(yīng)預(yù)先植入(注入)氫質(zhì)子以同時(shí)作為儲(chǔ)氫層。三氧化鎢層的厚度可為50～500nm，優(yōu)選100～200nm。鎂釔合金層化學(xué)組成為mgxy，其中0≤x≤1，厚度可為20～200nm，優(yōu)選100～200nm。

位于三氧化鎢層和鎂釔合金層之間還設(shè)置貴金屬催化層和質(zhì)子傳導(dǎo)層(質(zhì)子導(dǎo)電層)，其中質(zhì)子傳導(dǎo)層靠近三氧化鎢層一側(cè)，而貴金屬催化層則設(shè)置在靠近鎂釔合金層一側(cè)。質(zhì)子傳導(dǎo)層可以采用無(wú)機(jī)透明導(dǎo)電氧化物材料，如五氧化二鉭，五氧化二釹等薄膜材料(厚度可為50～500nm，優(yōu)選100～120nm)，也可采用有機(jī)質(zhì)子導(dǎo)電材料，包括但不限于聚四氟乙烯質(zhì)子交換薄膜，如商用nafion薄膜(厚度可為10～500μm，優(yōu)選100μm)等。貴金屬催化層可采用金屬pd或其合金pdmx，合金中m為sc，y，ti，zr，v，nb，ta，fe，ni，co，mo，w中的至少，其中y為0<y≤0.5。貴金屬催化層的厚度可為5～10nm。

在三氧化鎢層的外側(cè)或者三氧化鎢層和鎂釔合金層各自的外側(cè)設(shè)置透明導(dǎo)電材料層。應(yīng)理解，雖然圖1示出在三氧化鎢層和鎂釔合金層各自的外側(cè)均設(shè)置透明導(dǎo)電材料層，但是可以僅在三氧化鎢層的外側(cè)設(shè)置透明導(dǎo)電材料層，而不在鎂釔合金層外側(cè)設(shè)置透明導(dǎo)電材料層，這是因?yàn)?，鎂釔合金層本身也可作為導(dǎo)電層。透明導(dǎo)電材料本身可作為器件支撐體，或進(jìn)一步附著在支撐體上。透明導(dǎo)電材料包括但不限于導(dǎo)電玻璃(例如ito玻璃)、有機(jī)透明導(dǎo)電薄膜。支撐體包括但不限于玻璃、透明有機(jī)薄膜、透明陶瓷、硅片等材料。

電路連接透明導(dǎo)電材料層(例如圖1示出的ito層)，或者連接三氧化鎢層外側(cè)的透明導(dǎo)電材料層和鎂釔合金層和實(shí)現(xiàn)具有氣致變色優(yōu)點(diǎn)的電致變色功能(施加電壓可以使器件 調(diào)控光線的透過(guò)，吸收和反射)，鎂釔合金層一面可以在鏡面態(tài)(銀白色)和透明態(tài)(無(wú)色)之間轉(zhuǎn)變，其另一三氧化鎢面可以在吸收態(tài)(藍(lán)色)和透明態(tài)(無(wú)色)之間轉(zhuǎn)變。其表現(xiàn)形式為通過(guò)施加電壓改變器件對(duì)光線的控制。主要表現(xiàn)如下：當(dāng)三氧化鎢層施加負(fù)電壓，鎂釔合金層施加正電壓時(shí)，三氧化鎢層表現(xiàn)為藍(lán)色(吸收態(tài))，可以對(duì)光線吸收；鎂釔合金層表現(xiàn)為銀白色(鏡面態(tài))，可以對(duì)光線全反射；當(dāng)三氧化鎢層施加正電壓，鎂釔合金層施加負(fù)電壓時(shí)，三氧化鎢層表現(xiàn)為無(wú)色(透明態(tài))，可以透過(guò)光線；鎂釔合金層表現(xiàn)為無(wú)色(透明態(tài))，可以透過(guò)光線。當(dāng)器件處于鏡面反射態(tài)時(shí)，鎂釔合金層對(duì)可見(jiàn)光的反射率不小于60％，整體可見(jiàn)光透過(guò)率不大于5％；當(dāng)窗體出于透明態(tài)時(shí)，整體可見(jiàn)光(380～780nm)透過(guò)率不小于50％。外部電路采用直流電源，電源輸出端極性可調(diào)，電壓輸出幅值不大于10v，優(yōu)選1.0～5.0v，尤其優(yōu)選3v。當(dāng)電壓施加完畢后，器件可以保持現(xiàn)有的形態(tài)，不發(fā)生明顯的改變，既具有開(kāi)路記憶效應(yīng)。本發(fā)明的器件在使用時(shí)，鏡面金屬態(tài)朝向室外，當(dāng)需要光線進(jìn)入室內(nèi)時(shí)，鎂釔合金層施加負(fù)電壓，三氧化鎢層施加正電壓，使窗體透明；當(dāng)不需要光線進(jìn)入室內(nèi)時(shí)，鎂釔合金層施加正電壓，三氧化鎢層施加負(fù)電壓，使窗體外側(cè)是鏡面反射態(tài)，而窗體內(nèi)側(cè)是藍(lán)色吸收態(tài)(附圖10)。

以下進(jìn)一步說(shuō)明本發(fā)明的反射型電致變色全固體器件的制備方法。

基板的選擇

基板采用透明導(dǎo)電材料，表面干凈平整無(wú)雜質(zhì)，或附著有透明導(dǎo)電材料的支撐體。透明導(dǎo)電材料如ito玻璃或有機(jī)透明導(dǎo)電材料。

三氧化鎢電致變色層的制備

采用磁控濺射技術(shù)，濺射系統(tǒng)其本底壓強(qiáng)不大于10^-4pa，濺射氣體選用氬氣和氧氣。靶材采用金屬鎢靶或三氧化鎢陶瓷靶，優(yōu)選金屬鎢靶。濺射功率不小于150w，優(yōu)選200w，濺射室氣壓控制0.6～1.1pa。濺射時(shí)長(zhǎng)8到11分鐘，優(yōu)選10分鐘，靶材至基板距離為15到20cm。所獲得的三氧化鎢薄膜厚度在100nm到150nm之間，顏色透明，且x射線衍射分析無(wú)明顯衍射峰。

應(yīng)理解還可采用電子束發(fā)或者溶膠凝膠法制備三氧化鎢薄膜。

質(zhì)子植入

將濺射好的三氧化鎢薄膜連接電源負(fù)極，正極采用pt電極，一起放入0.5m/l～1.0m/l的酸性溶液，優(yōu)選0.5m/l的硫酸溶液。施加電壓，電壓控制1.5v到3v之間，施加時(shí)間5秒到20秒，獲得藍(lán)色的薄膜。三氧化鎢表面酸根離子的清洗，將深藍(lán)色的三氧化鎢薄膜從酸溶液中取出，依次用去離子水，乙醇溶液清洗，清洗次數(shù)不少于3次。

或者通過(guò)金屬鎢靶的反應(yīng)濺射來(lái)注入氫質(zhì)子，例如氬氣:氧氣:氫氣的比例為40:10:5的環(huán)境中制備注入質(zhì)子的藍(lán)色氧化鎢薄膜。

質(zhì)子傳導(dǎo)層的制備

質(zhì)子傳導(dǎo)層可以采用，如五氧化二鉭，五氧化二釹等薄膜材料時(shí)間可采用磁控濺射的方法制備，濺射系統(tǒng)其本底壓強(qiáng)不大于10^-4pa。濺射氣體選用氬氣和氧氣，靶材采用金屬鉭靶或五氧化二鉭陶瓷靶，優(yōu)選金屬鉭靶。濺射功率不小于150w，優(yōu)選200w，濺射室氣壓控制0.6～1.1pa。濺射時(shí)長(zhǎng)50到70分鐘，優(yōu)選60分鐘，靶材至基板距離為15到20cm。所獲得的五氧化二鉭薄膜厚度在380nm到780nm之間，無(wú)顏色透明薄膜材料，且x射線衍射分析無(wú)明顯衍射峰(附圖3，附圖6)。五氧化二鉭薄膜和三氧化鎢薄膜薄膜界面接觸良好(附圖4)。

采用有機(jī)質(zhì)子導(dǎo)電薄膜時(shí)，可直接貼合三氧化鎢薄膜層；例如市售nafion膜可以直接用作導(dǎo)質(zhì)子薄膜(50～300μm)，使用前用稀硫酸浸泡一小時(shí)以上，浸泡完畢用水洗，干燥備用；或者市售nafion水溶液與聚乙烯醇縮丁醛(pbv)的乙醇進(jìn)行溶液混合，用作卷對(duì)卷貼合器件使用。nafion水溶液與聚乙烯醇縮丁醛(pbv)混合傳導(dǎo)層使用時(shí)候的響應(yīng)時(shí)間(圖7)，及不同濃度nafion所對(duì)應(yīng)的電阻率變化(圖8)。

催化層pd的制備

濺射系統(tǒng)其本底壓強(qiáng)不大于10^-5pa。濺射氣體選用氬氣，功率16w到20w，壓強(qiáng)控制0.5pa到0.8pa之間，優(yōu)選0.6pa，濺射時(shí)間60秒。獲得厚度6nm左右的催化層。

鎂釔合金調(diào)光層的制備

濺射系統(tǒng)其本底壓強(qiáng)不大于10^-5pa。濺射氣體選用氬氣。鎂釔合金的制備采用高純金屬鎂靶和高純金屬釔靶共濺射。為達(dá)到鎂釔原子比為1比2，金屬鎂靶濺射功率采用20w，金屬釔靶濺射功率60w，氣壓控制0.5pa到1.0pa，優(yōu)選0.8pa，濺射時(shí)間120秒，獲得厚度為50nm左右的合金層。

電路連接

采用普通導(dǎo)電膠，當(dāng)采用逐層復(fù)合時(shí)，連接ito玻璃和鎂釔合金調(diào)光鏡層，用五氧化二鉭做質(zhì)子導(dǎo)電層；采用卷對(duì)卷貼合時(shí)，用導(dǎo)質(zhì)子高分子薄膜作為傳導(dǎo)層(附圖7)，連接最外層的導(dǎo)電電極。外部電路采用直流電源，電源輸出端極性可調(diào)，電壓輸出幅值不大于10v，優(yōu)選3v(附圖7)。

本發(fā)明通過(guò)逐層復(fù)合，層與層之間緊密結(jié)合無(wú)空氣，不易脫落，且各層厚度均一，性質(zhì)穩(wěn)定。

以下結(jié)合附圖和下述具體實(shí)施例進(jìn)一步說(shuō)明本發(fā)明，應(yīng)理解，附圖及下述具體實(shí)施例僅用于說(shuō)明本發(fā)明，而非限制本發(fā)明。

實(shí)例一，逐層復(fù)合模式：

1)基板的選擇與清洗

基板采用市售普通ito玻璃；

將ito玻璃放到去離子水中，超聲清洗10分鐘；

將ito玻璃取出放到乙醇溶液中，超聲清洗10分鐘；

重復(fù)上述清洗步驟三次；

2)三氧化鎢電致變色層的制備

制備采用磁控濺射設(shè)備，濺射系統(tǒng)其本底壓強(qiáng)不大于10^-4pa，濺射氣體選用氬氣和氧氣，純度99.999％以上；

金屬鎢靶采用4英寸圓形靶，純度99.9％，純氬氣環(huán)境預(yù)濺射30分鐘；

將清洗干凈的ito玻璃基板送入送樣室，通過(guò)送樣室送入濺射室；

三氧化鎢薄膜的正式濺射，濺射功率200w，濺射室氣壓控制0.7pa，氬氣氧氣流量控制42比4。濺射時(shí)長(zhǎng)10分鐘，靶材至基板距離為17cm；

三氧化鎢薄膜厚度130nm，sem(掃描電子顯微鏡)表面表征圖4；

3)質(zhì)子植入

將濺射好的三氧化鎢薄膜鏈接電源負(fù)極，正極采用pt電極，一起放入0.5m/l的硫酸溶液

施加電壓，電壓控制2.5v之間，施加時(shí)間20秒；

三氧化鎢表面酸根離子的清洗，將深藍(lán)色的三氧化鎢薄膜從酸溶液中取出，放入去離子水中清洗10分鐘，然后放入乙醇中清洗10分鐘；

重復(fù)上述清洗步驟三次，后用氮?dú)獯蹈桑?/p>

4)五氧化二鉭質(zhì)子傳導(dǎo)層的制備

濺射系統(tǒng)其本底不大于10^-4pa，濺射氣體選用氬氣和氧氣，純度99.999％以上；

金屬鉭采用4英寸圓形靶，純度99.9％，純氬氣環(huán)境預(yù)濺射30分鐘；

五氧化二鉭薄膜的正式濺射，濺射功率200w，濺射室氣壓控制0.7pa，氬氣氧氣流量控制42比5。濺射時(shí)長(zhǎng)60分鐘，靶材距離ito距離17.5cm；

五氧化二鉭薄膜厚度400nm，sem(掃描電子顯微鏡)表面表征圖5；

5)催化層pd的制備

濺射系統(tǒng)其本底壓強(qiáng)10^-5pa，濺射氣體選用氬氣，純度99.999％以上；

pd靶采用純度99.9％的金屬鈀，2英寸圓形靶；

pd靶在氬氣環(huán)境下預(yù)濺射，濺射功率16w，濺射時(shí)間80秒，氣壓控制0.5pa之間；

在五氧化二鉭表面正式濺射pd，功率16w，壓強(qiáng)控制0.5pa，濺射時(shí)間60秒；

所獲得pd催化層厚度為6nm；

6)鎂釔合金調(diào)光鏡層的制備

濺射系統(tǒng)其本底壓強(qiáng)10^-5pa，濺射氣體選用氬氣，純度99.999％以上；

鎂釔合金的制備采用高純金屬鎂靶和高純金屬釔靶共濺射；

金屬鎂靶濺射功率采用20w，金屬釔靶濺射功率60w，氣壓控制0.8pa，預(yù)濺射3分鐘；

在pd層表面正式濺射鎂釔合金，濺射功率鎂靶采用20w，釔靶采用60w，濺射氣氛純氬氣，氣壓控制0.8pa，濺射時(shí)間120秒；

所獲得鎂釔合金薄膜厚度50nm；

7)電路連接

采用普通導(dǎo)電膠，貼合ito玻璃和鎂釔合金調(diào)光鏡層；

外部電路控制的鏈接，外部電路采用直流電源，電源輸出端極性可調(diào)，電壓輸出幅值2-10v。

實(shí)例二，卷對(duì)卷貼合模式：

1)基板的選擇與清洗

基板采用有機(jī)透明導(dǎo)電薄膜；

將有機(jī)透明導(dǎo)電薄膜貼合平鋪在玻璃基板上；

2)三氧化鎢電致變色層的制備

制備采用磁控濺射設(shè)備；

濺射系統(tǒng)其本底壓強(qiáng)不大于10^-4pa，濺射氣體選用氬氣和氧氣，純度99.999％；

金屬鎢靶采用4英寸圓形靶，純度99.999％，純氬氣環(huán)境預(yù)濺射30分鐘；

將有機(jī)透明導(dǎo)電薄膜送入送樣室，通過(guò)送樣室送入濺射室；

三氧化鎢薄膜的正式濺射，濺射功率200w，濺射室氣壓控制0.7pa，氬氣氧氣流量控制42比4。濺射時(shí)長(zhǎng)10分鐘，靶材至基板距離為17cm；

三氧化鎢薄膜厚度130nm；

3)質(zhì)子植入

將濺射好的三氧化鎢薄膜鏈接電源負(fù)極，正極采用pt電極，一起放入0.5m/l的硫酸溶液

施加電壓，電壓控制2.5v之間，施加時(shí)間20秒；

三氧化鎢表面酸根離子的清洗，將深藍(lán)色的三氧化鎢薄膜從酸溶液中取出，放入去離子水中清洗10分鐘，然后放入乙醇中清洗10分鐘；

重復(fù)上述清洗步驟三次，后用氮?dú)獯蹈桑?/p>

4)鎂釔合金調(diào)光鏡層的制備

制備采用磁控濺射設(shè)備；

濺射系統(tǒng)其本底壓強(qiáng)10^-5pa,濺射氣體選用氬氣，純度99.999％；

鎂釔合金的制備采用高純金屬鎂靶和高純金屬釔靶共濺射；

將有機(jī)透明導(dǎo)電材料送入濺射室；

鎂釔合金濺射，濺射功率鎂靶采用20w，釔靶采用60w，濺射氣氛純氬氣，氣壓控制0.8pa，濺射時(shí)間120秒；

所獲得鎂釔合金薄膜厚度100nm；

5)催化層pd的制備

濺射系統(tǒng)其本底壓強(qiáng)10^-5pa，濺射氣體選用氬氣，純度99.999％；

pd靶采用純度99.9％的金屬鈀，2英寸圓形靶；

pd靶在氬氣環(huán)境下預(yù)濺射，濺射功率16w，濺射時(shí)間80秒，氣壓控制0.5pa之間；

將鎂釔合金層放入磁控濺射室，對(duì)其濺射金屬pd；

正式濺射pd，功率16w，壓強(qiáng)控制0.5pa，濺射時(shí)間60秒；

所獲得pd催化層厚度為6nm；

6)卷對(duì)卷貼合

將三氧化鎢薄膜層，有機(jī)透明質(zhì)子導(dǎo)電材料nafion，鎂釔合金層依次貼合，無(wú)氣泡，無(wú)褶皺。貼合方式附圖9；

7)電路連接

采用普通導(dǎo)電膠，鏈接外部電路，采用直流電源，電源輸出端極性可調(diào)，電壓輸出幅值6v。

在本發(fā)明基于上述，可以用于節(jié)能智能窗，隱私窗簾，汽車玻璃，衛(wèi)星，軍事掩蔽等領(lǐng)域，以及任何一種嵌入此器件的設(shè)備等。

在本發(fā)明中，若無(wú)具體說(shuō)明，所有靶材和氣體均來(lái)自市售，純度達(dá)到99.999％以上。磁控濺射設(shè)備的選擇能滿足上述功率，本底氣壓，濺射氣壓，流量比等即可。