技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種用于去除光阻殘留物的清洗液及其組成。這種去除光阻殘留物的清洗液含有(a)季胺氫氧化物(b)醇胺(c)有機(jī)溶劑(d)C2?C6多元醇(e)咪唑及其衍生物。該清洗液能夠更為有效地去除晶圓上的光阻殘留物，且對(duì)金屬銅、鋁等基本不腐蝕；在半導(dǎo)體晶片清洗等領(lǐng)域具有良好的應(yīng)用前景。

技術(shù)研發(fā)人員：何春陽;劉兵;王鵬程
受保護(hù)的技術(shù)使用者：安集微電子（上海）有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2015.12.28
技術(shù)公布日：2017.07.04