技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種焦面檢測(cè)裝置、焦面標(biāo)定方法與硅片曝光方法，該裝置包括光源單元，用于對(duì)掩模板進(jìn)行照射產(chǎn)生成像光束；成像單元，用于將掩模板上的調(diào)焦圖形成像在調(diào)焦圖像傳感器上；調(diào)焦驅(qū)動(dòng)單元，用于垂向調(diào)節(jié)投影物鏡或者運(yùn)動(dòng)臺(tái)單元以完成調(diào)焦；運(yùn)動(dòng)臺(tái)單元，其上設(shè)置有帶有反射標(biāo)記的反射裝置，所述運(yùn)動(dòng)臺(tái)單元用于將所述反射裝置移動(dòng)至投影物鏡的正下方；控制單元，用于對(duì)調(diào)焦圖像傳感器采集的圖形數(shù)據(jù)進(jìn)行分析和處理，并反饋控制調(diào)焦驅(qū)動(dòng)單元。本發(fā)明能夠快速且準(zhǔn)確的對(duì)最佳焦面偏移量進(jìn)行標(biāo)定和補(bǔ)償。

技術(shù)研發(fā)人員：王天寅;許琦欣;李玉龍
受保護(hù)的技術(shù)使用者：上海微電子裝備有限公司
文檔號(hào)碼：201510856628
技術(shù)研發(fā)日：2015.11.30
技術(shù)公布日：2017.06.09