技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明揭示了一種掩膜版的版圖修正方法、掩膜版及其制造方法。本發(fā)明提供的掩膜版的版圖修正方法，包括提供前端版圖，所述前端版圖中存在非零圖形密度的第一單元；對(duì)所述前端版圖進(jìn)行檢查，若所述前端版圖中存在圖形密度為零的第二單元，則對(duì)所述第二單元添加SRAF圖形，所述SRAF圖形小于的光刻設(shè)備的分辨率。與現(xiàn)有技術(shù)相比，添加SRAF圖形后，能夠使得各個(gè)單元的圖形密度變得接近。那么由此進(jìn)一步獲得的掩膜版，能夠使得光罩整體的圖形密度變得均勻，提高了光罩的合格率，基本上避免了報(bào)廢。

技術(shù)研發(fā)人員：張士健;郁志芳;劉麗;戴文旗;徐佳明
受保護(hù)的技術(shù)使用者：中芯國(guó)際集成電路制造（上海）有限公司;中芯國(guó)際集成電路制造（北京）有限公司
文檔號(hào)碼：201510567725
技術(shù)研發(fā)日：2015.09.08
技術(shù)公布日：2017.03.15