1.一種曝光裝置，其特征在于，包括：
一照明系統(tǒng)，用于提供曝光所用之光束；
一投影物鏡陣列，包括N個投影物鏡，用于將位于一掩模板上的圖形投影至一基板， N為大于1的自然數(shù)；
一六自由度探測器陣列，由若干六自由度探測器組成，用于測量一對準標記的水平向和垂直向位置；
一掩模臺，用于承載所述掩模板并提供位移；
一工件臺，用于承載所述基板并提供位移；所述掩模板與所述基板相對同步移動。
2.如權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，所述投影物鏡陣列由上述N個投影物鏡，沿X軸交錯排列成至少兩組。
3.如權利要求1或2所述的曝光裝置，其特征在于，所述六自由度探測器陣列由N個六自由度探測器沿X軸排列而成，每個六自由度探測器的位置對應一個投影物鏡的X向中心。
4.如權利要求1或2所述的曝光裝置，其特征在于，所述六自由度探測器陣列由2n-1個六自由度探測器沿X軸排列而成，其中n個六自由度探測器的位置分別對應一個投影物鏡的X向中心，另外n-1個六自由度探測器位于相鄰的兩個六自由度探測器的中心。
5.如權利要求1或2所述的曝光裝置，其特征在于，所述六自由度探測器陣列由n×2個六自由度探測器沿X軸排列而成，其中沿Y軸平行的兩個六自由度探測器的位置對應一個投影物鏡的X向中心。
6.如權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，所述六自由度探測器包括一水平向探測器和一垂向探測器，所述水平向探測器和垂向探測器共用一個分光成像單元。
7.如權利要求6所述的曝光裝置，其特征在于，所述分光成像單元的一光源的出射光經一照明鏡組后依次經過一第一分光棱鏡、第二分光棱鏡、成像前組，經所述基板反射后經所述成像前組后進入所述第二分光棱鏡，所述第二分光棱鏡的出射光一部分進入所述水平向探測器，另一部分經所述第一分光棱鏡進入所述垂向探測器。
8.如權利要求6所述的曝光裝置，其特征在于，所述水平向傳感器包括一濾光片、一成像后組以及一面陣CCD，所述垂直向傳感器包括一探測前組、一棱鏡組件、一探測后組以及一線陣CCD。
9.如權利要求6所述的曝光裝置，其特征在于，所述分光成像單元的一光源經過一波長選擇單元后依次經過一照明鏡組、一照明調節(jié)單元，一分光棱鏡，經所述基板反射后進入一分光單元，所述分光單元的一部分進入所述垂向探測器，另一部分經所述分光棱鏡進入所述水平向探測器。
10.如權利要求6所述的曝光裝置，其特征在于，所述垂向探測器為一干涉光探測器，所述水平向探測器是一機器視覺探測器。
11.一種曝光方法，其特征在于，包括：
步驟一、開始掃描測量，將工件臺運動至第一個曝光場的掃描起始位置；
步驟二、掃描第一列的對準標記，同時計算第一列的對準標記的水平向和垂向位置；
步驟三、掃描第二列的對準標記，同時計算第二列的對準標記的水平向和垂向位置；
步驟四、第一曝光場掃描完成后，計算第一曝光場的對準位置和調焦位置；如果對準標記的垂向位置有離焦時，對離焦量進行補償。