米級光柵玻璃光刻膠精密涂覆方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種米級光柵玻璃高均勻性光刻膠精密涂覆方法，包括步驟：準備好光刻膠→將光刻膠投入壓力罐→利用壓縮空氣將壓力罐內的光刻膠從噴槍噴嘴中噴出→往復噴涂在米級光柵玻璃上形成濕膜→旋轉米級光柵玻璃進行甩膠→進烘箱烘干。本發(fā)明能在米級光柵玻璃上進行光刻膠高均勻性精密涂覆。
【專利說明】米級光柵玻璃光刻膠精密涂覆方法

【技術領域】
[0001] 本發(fā)明涉及玻璃光刻膠涂膜工藝，特別是米級大尺寸光學玻璃光刻膠的高均勻性 精密涂覆方法。

【背景技術】
[0002] 現有的在玻璃上進行光刻膠涂覆工藝，通常采用旋涂、輥涂，對玻璃尺寸大小和形 狀有要求。一般需要玻璃為圓形或者正方形或長方形，且尺寸無法達到米級大尺寸。采用 旋涂法對米級玻璃進行光刻膠涂覆，不規(guī)則形狀玻璃會有邊緣效應且在米級光柵玻璃上無 法高均勻性精密涂覆，粗糙度大。采用輥涂法，光刻膠的厚度均勻性達不到米級光柵的精密 度要求（膜厚 5〇〇_7〇〇nm，±3% )


【發(fā)明內容】

[0003] 為了克服上述現有技術的不足，本發(fā)明提供一種米級光柵玻璃高均勻性光刻膠精 密涂覆方法，該工藝簡單，易操作。
[0004] 本發(fā)明的技術解決方案如下：
[0005] -種米級光柵玻璃光刻膠精密涂覆方法，其特征在于，該方法包括如下步驟：
[0006] ①準備光刻膠，并將其投入壓力罐；
[0007] ②利用壓縮空氣將壓力罐內的光刻膠從噴槍噴嘴中噴出，往復噴涂在米級光柵玻 璃上形成濕膜；
[0008] ③旋轉米級光柵玻璃進行甩膠；
[0009] ④送進烘箱烘干。
[0010] 與現有技術相比，本發(fā)明的有益效果是：提高了玻璃光刻膠涂覆在米級尺度的高 均勻性、同時保證精密涂覆。

【具體實施方式】
[0011] 下面結合實施例對本發(fā)明做詳細的說明，本實施例在以本發(fā)明技術方案為前提下 進行實施，給出了詳細的實施方式和具體的操作過程，但本發(fā)明的保護范圍不限于下述的 實施例。
[0012] 本發(fā)明采用的涂覆工藝為：準備好光刻膠一將光刻膠投入壓力罐一利用壓縮空氣 將壓力罐內的光刻膠從噴槍噴嘴中噴出一往復噴涂在米級光柵玻璃上形成濕膜一旋轉米 級光柵玻璃進行甩膠一進烘箱烘干。本發(fā)明能在米級光柵玻璃上進行光刻膠高均勻性精密 涂覆。
[0013] 用壓縮空氣將光刻膠從噴槍噴嘴中噴出，往復噴涂在米級玻璃上形成一層濕膜。 平板玻璃上噴涂要獲得膜層均勻性低于±3%，需要加入特殊溶劑及各種流平劑、表面活性 劑等助劑。但是光刻膠對溶劑要求高，大部分溶劑以引起不溶性顆粒等并且對光刻膠性能 產生影響。噴涂工序完成后在對米級玻璃進行旋涂甩膠，達到濕膜流平的目的。
[0014] 因測試設備對尺寸有限制，用此方法涂覆光刻膠的Φ219_防濺射板上四邊及中 央各處取8個不同位置，擦除光刻膠形成1 cm直徑左右的空洞，用臺階儀測試出的膜厚數據 詳見表1。表1數據顯示：8個測試數據最大值512nm，最小值501nm，中間厚度505nm，厚度 均勻性達到±1. 33%。
[0015] 表1 Φ219·ι防濺射板涂覆光刻膠膜厚
[0016]

【權利要求】
1. 一種米級光柵玻璃光刻膠精密涂覆方法，其特征在于，該方法包括如下步驟： ① 準備光刻膠，并將其投入壓力罐； ② 利用壓縮空氣將壓力罐內的光刻膠從噴槍噴嘴中噴出，往復噴涂在米級光柵玻璃上 形成濕膜； ③ 旋轉米級光柵玻璃進行甩膠； ④ 送進烘箱烘干。
【文檔編號】G03F7/16GK104267579SQ201410472662
【公開日】2015年1月7日 申請日期:2014年9月17日 優(yōu)先權日:2014年9月17日
【發(fā)明者】熊懷, 唐永興, 沈斌, 陳知亞 申請人:中國科學院上海光學精密機械研究所