一種液晶光掩膜、其應(yīng)用及制版裝置制造方法
【專利摘要】一種液晶光掩膜、其應(yīng)用及制版裝置。該光掩膜包括：成像控制器，導(dǎo)光層，第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片，液晶層和第二光學(xué)偏轉(zhuǎn)片；所述液晶層夾設(shè)于第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片與第二光學(xué)偏轉(zhuǎn)片之間；第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片與液晶層接觸的表面上設(shè)置有第一透明電極層；第二光學(xué)偏轉(zhuǎn)片與液晶層接觸的表面上設(shè)置有第二透明導(dǎo)電層；所述第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片與第二光學(xué)偏轉(zhuǎn)片的偏振方向夾角為90度；所述導(dǎo)光層設(shè)置于第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片的光入射的一側(cè)。本發(fā)明提供了一種無(wú)需更換掩膜實(shí)現(xiàn)多掩膜套印，精度高且精度可調(diào)節(jié)，穩(wěn)定性好、能長(zhǎng)時(shí)間工作的液晶光掩膜，并將其用于制版中代替菲林。
【專利說(shuō)明】一種液晶光掩膜、其應(yīng)用及制版裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明是關(guān)于一種光掩膜涉及寬泛的印刷領(lǐng)域，特別是關(guān)于一種液晶光掩膜、其應(yīng)用及制版裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]在寬泛的印刷領(lǐng)域，包括通常所指的印版印刷、電路印刷、光刻等領(lǐng)域中，光掩膜是其中重要的一環(huán)。隨著激光制版、電子束直寫等技術(shù)的發(fā)展，研究的目光逐漸轉(zhuǎn)移到直接制版的領(lǐng)域中，相比之下，依靠掩膜進(jìn)行制版印刷或曝光成像的研究相對(duì)滯后，然而，就市場(chǎng)份額和應(yīng)用廣泛性上，掩膜印刷仍舊是相關(guān)行業(yè)的重中之重，因此，解決好傳統(tǒng)制版中的相關(guān)難題，是破解行業(yè)衰落，力求產(chǎn)業(yè)升級(jí)的關(guān)鍵。
[0003]在印刷工藝過(guò)程中，制版是整個(gè)過(guò)程中耗時(shí)最長(zhǎng)，工藝最復(fù)雜，成本最高的環(huán)節(jié)，實(shí)現(xiàn)精確制版是高質(zhì)量印刷的關(guān)鍵；在半導(dǎo)體制造整個(gè)流程中，光掩膜是實(shí)現(xiàn)從版圖到電路板制備過(guò)程中最重要的環(huán)節(jié)之一，也是整個(gè)流程中成本最高的一部分。常見的光掩膜有四種，鉻板、干板、凸版和液體凸版。光掩膜主要由兩部分組成，透光基板和不透光材料。現(xiàn)有的掩膜版，一旦制備完成，其遮光和透光區(qū)域是固定不變的，因此，只適用于特定的待曝光器件。根據(jù)所制備器件的復(fù)雜程度不同，通常需要多套光掩膜實(shí)現(xiàn)曝光過(guò)程，大大增加了生產(chǎn)成本；此外，在此過(guò)程中，實(shí)現(xiàn)不同光掩膜的精確套刻尤其關(guān)鍵，通常涉及十分復(fù)雜的套刻工藝，無(wú)疑增加了生產(chǎn)的難度，降低了成品率。
[0004]近年來(lái)，透明顯示技術(shù)因其透明的顯示板這一特性及其獨(dú)特的應(yīng)用，越來(lái)越受到人們的關(guān)注。透明顯示技術(shù)的核心是透明顯示板，透明顯示板是一種能夠顯示圖像的透明板，透明顯示板中的像素單元在關(guān)閉時(shí)，板就仿佛一塊透明玻璃；當(dāng)其工作時(shí)，由于液晶的偏轉(zhuǎn)，相應(yīng)偏轉(zhuǎn)區(qū)域呈現(xiàn)灰度，從而顯示出相應(yīng)的圖案，同時(shí)，未偏轉(zhuǎn)的液晶區(qū)域仍然呈現(xiàn)透明狀態(tài)。透明液晶顯示板的這一特性為光掩膜的制備提供了新的方向。
[0005]作為現(xiàn)有技術(shù):
1.中國(guó)專利申請(qǐng)(申請(qǐng)?zhí)?01220006968.1)公開了種掩膜板，包括，圖案顯示屏，用于呈現(xiàn)掩膜圖案，控制單元，用于根據(jù)光刻工藝中所需的掩膜圖案的灰階信息控制所述圖案顯示屏，在不同區(qū)域的光透過(guò)量，以呈現(xiàn)所述掩膜圖案。圖案顯示屏包括:兩個(gè)透明基板，分別設(shè)置在所述兩個(gè)透明基板外側(cè)的偏振片，以及所述兩個(gè)透明基板之間的多個(gè)像素單元；每個(gè)像素單元包括液晶，以及驅(qū)動(dòng)液晶旋轉(zhuǎn)的第一電極和第二電極。在不施加電壓的條件下，利用液晶的旋光性，紫外光能夠全部透射，形成了掩膜圖案的完全透光圖案區(qū)。在給第一電極和第二電極施加一定電壓條件下，紫外光能夠被全部吸收，形成了掩膜圖案的不透光圖案區(qū)，進(jìn)一步的，若采用的是灰階曝光工藝，則在需要半曝光的區(qū)域，可以根據(jù)掩膜圖案的灰階信息在第一電極和第二電極兩端施加合適的電壓時(shí)，紫外光一部分被吸收，另一部分透過(guò)，從而控制紫外光的透過(guò)量，形成了掩膜圖案的半透光圖案區(qū)。
[0006]2.中國(guó)專利申請(qǐng)(申請(qǐng)?zhí)?00810247423.8)也公開了一種掩膜版及其制造方法，該掩膜版，包括:上基板；第一透明導(dǎo)電排線，位于所述上基板并朝第一方向排列；第一透明絕緣膜，位于所述第一透明導(dǎo)電排線上方并覆蓋所述上基板；下基板；第二透明導(dǎo)電排線，位于所述下基板并朝第二方向排列，所述第二方向垂直于所述第一方向；第二透明絕緣膜，位于所述第二透明導(dǎo)電排線上方并覆蓋所述下基板；所述上基板和所述下基板之間夾有液晶。所述上基板和所述下基板分別設(shè)有取向膜，并且兩個(gè)取向膜的取向方向相互垂直，并且所述液晶為手性劑和向列相液晶混合而成的膽留相液晶。中國(guó)專利(申請(qǐng)?zhí)?01020636483.1)也公開了一種掩膜版，具有類似的結(jié)構(gòu)。
[0007]3.中國(guó)專利申請(qǐng)(申請(qǐng)?zhí)?00820028195.0)公開了一種液晶板實(shí)現(xiàn)掩膜版載體的光刻裝置，利用活性液晶板作為掩膜版的載體，省去了掩膜版的制作過(guò)程，并且使其自身表面潔凈度的檢測(cè)變得很簡(jiǎn)單，一旦自身表面沾有灰塵或劃傷就會(huì)很方便的被檢測(cè)出來(lái)，從而終止光刻過(guò)程，解決了傳統(tǒng)光刻時(shí)不同圖形須更換掩膜版和檢測(cè)不到位而導(dǎo)致整批產(chǎn)品質(zhì)量的問(wèn)題。
[0008]根據(jù)上述現(xiàn)有技術(shù)可知，采用液晶板作為掩膜版具有諸多優(yōu)勢(shì)，然而，根據(jù)現(xiàn)有的技術(shù)，將其應(yīng)用于實(shí)際生產(chǎn)中，往往出現(xiàn)精度與設(shè)計(jì)精度偏差較大，線寬調(diào)試?yán)щy，灰度不準(zhǔn)確，易受溫度影響，長(zhǎng)時(shí)間加工蠕變等技術(shù)問(wèn)題。亟需一種精度高，穩(wěn)定性好的，適應(yīng)長(zhǎng)時(shí)間工作的透明液晶光掩膜。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0009]本發(fā)明的目的是提供一種精度高，穩(wěn)定性好的，適應(yīng)長(zhǎng)時(shí)間工作的透明液晶光掩膜，以實(shí)現(xiàn)無(wú)需更換掩膜實(shí)現(xiàn)多掩膜套印，精度高，且精度可調(diào)節(jié)，能實(shí)現(xiàn)灰度曝光，且灰度可控的，穩(wěn)定性好、能長(zhǎng)時(shí)間工作的透明液晶光掩膜，以解決前述現(xiàn)有技術(shù)的弊端。
[0010]具體的，本發(fā)明通過(guò)如下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn):
首先，本發(fā)明提供了一種液晶光掩膜，其特征在于，所述光掩膜包括，成像控制器，導(dǎo)光層，第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片，液晶層和第二光學(xué)偏轉(zhuǎn)片；所述液晶層夾設(shè)于第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片與第二光學(xué)偏轉(zhuǎn)片之間；第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片與液晶層接觸的表面上設(shè)置有第一透明電極層；第二光學(xué)偏轉(zhuǎn)片與液晶層接觸的表面上設(shè)置有第二透明導(dǎo)電層；所述第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片與第二光學(xué)偏轉(zhuǎn)片的偏振方向夾角為90度；所述導(dǎo)光層設(shè)置于第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片的光入射的一側(cè)；所述成像控制器用于在第一透明電極層和第二透明電極層施加相應(yīng)電信號(hào)，使所述液晶層中相應(yīng)區(qū)域的液晶發(fā)生偏轉(zhuǎn)，形成所述目標(biāo)圖像，遮掩曝光光源照射光線；未發(fā)生液晶偏轉(zhuǎn)的區(qū)域成光透過(guò)狀態(tài)。。
[0011]具體的，所述導(dǎo)光層將入射光經(jīng)整理為平行光，所述平行光入射第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片。
[0012]可選的，為實(shí)現(xiàn)光掩膜的工作可靠性，防止因灰塵或劃傷引起的光掩膜損壞，降低生產(chǎn)成本，將導(dǎo)光層設(shè)置為可更換的部件，以使核心的第一、第二光學(xué)偏振片及其所夾設(shè)的液晶層免于更換，所述導(dǎo)光層與第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片形成物理接觸，所述物理接觸依靠靜電力或膠黏作用實(shí)現(xiàn)，實(shí)現(xiàn)無(wú)損接觸，快速更換。
[0013]可選的，為實(shí)現(xiàn)光掩膜的長(zhǎng)時(shí)間工作的穩(wěn)定性，尤其是因長(zhǎng)時(shí)間的曝光引起液晶層升溫而造成液晶層螺旋扭曲力的變化，所述導(dǎo)光層與第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片之間形成真空層，用于降低導(dǎo)光層與第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片的熱傳導(dǎo)，保證單一圖案曝光與套印曝光的精度一致。
[0014]進(jìn)一步的，所述液晶層為為扭曲向列型液晶層。
[0015]具體的，所述導(dǎo)光層為菲涅耳透鏡。[0016]為防止應(yīng)用過(guò)程中帶來(lái)的污染，造成污點(diǎn)、壞點(diǎn)及面板損壞等，所述光掩膜還包括去污層，所述去污層設(shè)置于第二光學(xué)偏轉(zhuǎn)片光出射一側(cè)。
[0017]此外，本發(fā)明還提供了一種上述的液晶光掩膜的應(yīng)用，其特征在于，所述液晶光掩膜用于印刷制版中代替菲林作為光掩膜。
[0018]最后，本發(fā)明提供了一種制版裝置，其特征在于，所述制版裝置包含上述的高性能液晶光掩模，所述液晶光掩膜用于印刷制版中代替菲林作為光掩膜。
[0019]本發(fā)明相比于現(xiàn)有技術(shù)具有明顯的有益效果，列舉如下:
(I)提高制版精度:省去了感光膠片及其制備的工藝過(guò)程包括暗室膠片曝光沖洗、修版、曬版等繁瑣的操作環(huán)節(jié)，有效的減少了此過(guò)程中的化學(xué)試劑使用，減少了環(huán)境污染，即為一種綠色制版技術(shù)；降低了生產(chǎn)成本、減少了圖像轉(zhuǎn)移次數(shù)，提高了圖像質(zhì)量，由于不使用膠片，印刷品的印刷質(zhì)量有明顯改善，因?yàn)閳D像和網(wǎng)點(diǎn)不受傳統(tǒng)印前工藝中的那些質(zhì)量衰減的影響。輸出的印版，質(zhì)量更好，因?yàn)榉屏稚系幕覊m、擦痕等影響因素已經(jīng)不存在，網(wǎng)點(diǎn)邊緣干凈銳利，忠實(shí)原稿。(2)套準(zhǔn)校色準(zhǔn)確，成版率高。減少印刷調(diào)試時(shí)間和材料損耗。由于不需要印版定位，因此印版的質(zhì)量更好，而且不會(huì)因定位不準(zhǔn)而需重新制版，避免上機(jī)印刷時(shí)花費(fèi)大量時(shí)間校版。(3)適用范圍廣，精度可控性高。通過(guò)調(diào)節(jié)印刷圖像成像裝置的最小顯示單元的大小，能實(shí)現(xiàn)精度的可控選擇，適用于不同印刷需求，調(diào)整制版周期，合理提聞生廣效率。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0020]圖1為本發(fā)明實(shí)施例1的液晶光掩膜的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖2為本發(fā)明實(shí)施例1的液晶光掩膜的第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片與第二光學(xué)偏轉(zhuǎn)片偏振方向示意圖；
圖3為本發(fā)明實(shí)施例2的液晶光掩膜的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖4為本發(fā)明實(shí)施例3的液晶光掩膜的機(jī)構(gòu)不意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0021]為使本發(fā)明的技術(shù)方案及其技術(shù)效果更加清楚、明確，下面結(jié)合圖1一4對(duì)本發(fā)明【具體實(shí)施方式】做進(jìn)一步詳述。應(yīng)當(dāng)理解，下述【具體實(shí)施方式】?jī)H用以解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明。
[0022]實(shí)施例1
參見圖1，本具體實(shí)施例1提供了一種液晶光掩膜，其特征在于，所述光掩膜包括，成像控制器(未不出)，導(dǎo)光層106,第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片101,液晶層103和第二光學(xué)偏轉(zhuǎn)片102 ;所述液晶層102夾設(shè)于第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片101與第二光學(xué)偏轉(zhuǎn)片102之間；所述液晶層103為扭曲向列型液晶層。第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片101與液晶層103接觸的表面上設(shè)置有第一透明電極層104 ;第二光學(xué)偏轉(zhuǎn)片102與液晶層103接觸的表面上設(shè)置有第二透明導(dǎo)電層105。
[0023]參見圖2,第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片101與第二光學(xué)偏轉(zhuǎn)片102的偏振方向夾角為90度；所述導(dǎo)光層106設(shè)置于第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片101的光入射的一側(cè).成像控制器用于在第一透明電極層104和第二透明電極層105施加相應(yīng)電信號(hào)，使所述液晶層103中相應(yīng)區(qū)域的液晶發(fā)生偏轉(zhuǎn)，形成所述目標(biāo)圖像，遮掩曝光光源照射光線；未發(fā)生液晶偏轉(zhuǎn)的區(qū)域成光透過(guò)狀態(tài)。
[0024]導(dǎo)光層106將入射光經(jīng)整理為平行光，所述平行光入射第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片101，所述導(dǎo)光層106可以為菲涅耳透鏡。為實(shí)現(xiàn)光掩膜的工作可靠性，防止因灰塵或劃傷引起的光掩膜損壞，降低生產(chǎn)成本，將導(dǎo)光層設(shè)置為可更換的部件，以使核心的第一、第二光學(xué)偏振片及其所夾設(shè)的液晶層免于更換，所述導(dǎo)光層106與第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片101形成物理接觸，所述物理接觸依靠靜電力或膠黏作用實(shí)現(xiàn)，實(shí)現(xiàn)無(wú)損接觸，快速更換。
[0025]該液晶光掩膜用于印刷制版中代替菲林作為光掩膜，具體工作過(guò)程簡(jiǎn)要說(shuō)明如下:
將曝光光源、液晶光掩膜和印版同軸設(shè)置，使上述三個(gè)部分所在的平面相互平行，啟動(dòng)曝光光源，使其穩(wěn)定工作一段時(shí)間后，通過(guò)外部數(shù)據(jù)輸入成像控制器，成像控制器在第一透明電極層和第二透明電極層施加相應(yīng)電信號(hào)，使所述液晶層中相應(yīng)區(qū)域的液晶發(fā)生偏轉(zhuǎn)，形成所述目標(biāo)圖像。打開曝光光源的快門，此時(shí)，形成目標(biāo)圖像的區(qū)域，即液晶發(fā)生偏轉(zhuǎn)的區(qū)域遮掩曝光光源照射的光線，而未發(fā)生液晶偏轉(zhuǎn)的區(qū)域成光透過(guò)狀態(tài)。光線經(jīng)過(guò)液晶光掩膜的部分遮掩照射在印版上，被照射部分的印版上的感光材料發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)從而固化。根據(jù)感光材料的物理化學(xué)性能，曝光一定時(shí)間和強(qiáng)度后形成目標(biāo)印版成品，送入后續(xù)流程處理即可。
[0026]實(shí)施例2
參見圖3，本具體實(shí)施例2提供了一種液晶光掩膜，其特征在于，所述光掩膜包括，成像控制器，導(dǎo)光層206,第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片201,液晶層203和第二光學(xué)偏轉(zhuǎn)片202 ;所述液晶層203夾設(shè)于第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片201與第二光學(xué)偏轉(zhuǎn)片202之間；所述液晶層203為扭曲向列型液晶層。第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片201與液晶層203接觸的表面上設(shè)置有第一透明電極層204 ；第二光學(xué)偏轉(zhuǎn)片202與液晶層203接觸的表面上設(shè)置有第二透明導(dǎo)電層205 ;所述第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片201與第二光學(xué)偏轉(zhuǎn)片202的偏振方向夾角為90度(同實(shí)施例1，不再示圖)；所述導(dǎo)光層206設(shè)置于第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片201的光入射的一側(cè)；所述成像控制器用于在第一透明電極層204和第二透明電極層205施加相應(yīng)電信號(hào)，使所述液晶層203中相應(yīng)區(qū)域的液晶發(fā)生偏轉(zhuǎn)，形成所述目標(biāo)圖像，遮掩曝光光源照射光線；未發(fā)生液晶偏轉(zhuǎn)的區(qū)域成光透過(guò)狀態(tài)。所述導(dǎo)光層206將入射光經(jīng)整理為平行光,所述平行光入射第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片201,所述導(dǎo)光層206為菲涅耳透鏡。為實(shí)現(xiàn)光掩膜的工作可靠性，防止因灰塵或劃傷引起的光掩膜損壞，降低生產(chǎn)成本，將導(dǎo)光層設(shè)置為可更換的部件，以使核心的第一、第二光學(xué)偏振片及其所夾設(shè)的液晶層免于更換，所述導(dǎo)光層與第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片形成物理接觸，所述物理接觸依靠靜電力或膠黏作用實(shí)現(xiàn)，實(shí)現(xiàn)無(wú)損接觸，快速更換。
[0027]與實(shí)施例1不同的是，實(shí)施例2中為實(shí)現(xiàn)光掩膜的長(zhǎng)時(shí)間工作的穩(wěn)定性，尤其是因長(zhǎng)時(shí)間的曝光引起液晶層升溫而造成液晶層螺旋扭曲力的變化，所述導(dǎo)光層206與第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片201之間形成真空層207,用于降低導(dǎo)光層206與第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片201的熱傳導(dǎo)，保證單一圖案曝光與套印曝光的精度一致。
[0028]該液晶光掩膜用于印刷制版中代替菲林作為光掩膜，具體工作過(guò)程與實(shí)施例1相同。
[0029]實(shí)施例3
參見圖4，本具體實(shí)施例2提供了一種液晶光掩膜，其特征在于，所述光掩膜包括，成像控制器，導(dǎo)光，206,第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片301,液晶層303和第二光學(xué)偏轉(zhuǎn)片302 ;所述液晶層303夾設(shè)于第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片301與第二光學(xué)偏轉(zhuǎn)片302之間；所述液晶層303為扭曲向列型液晶層。第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片301與液晶層303接觸的表面上設(shè)置有第一透明電極層304 ;第二光學(xué)偏轉(zhuǎn)片302與液晶層303接觸的表面上設(shè)置有第二透明導(dǎo)電層305 ;所述第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片301與第二光學(xué)偏轉(zhuǎn)片302的偏振方向夾角為90度；所述導(dǎo)光層306設(shè)置于第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片301的光入射的一側(cè)；所述成像控制器用于在第一透明電極層304和第二透明電極層305施加相應(yīng)電信號(hào)，使所述液晶層303中相應(yīng)區(qū)域的液晶發(fā)生偏轉(zhuǎn)，形成所述目標(biāo)圖像，遮掩曝光光源照射光線；未發(fā)生液晶偏轉(zhuǎn)的區(qū)域成光透過(guò)狀態(tài)。所述導(dǎo)光層306將入射光經(jīng)整理為平行光，所述平行光入射第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片301，所述導(dǎo)光層306為菲涅耳透鏡。為實(shí)現(xiàn)光掩膜的工作可靠性，防止因灰塵或劃傷引起的光掩膜損壞，降低生產(chǎn)成本，將導(dǎo)光層設(shè)置為可更換的部件，以使核心的第一、第二光學(xué)偏振片及其所夾設(shè)的液晶層免于更換，所述導(dǎo)光層與第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片形成物理接觸，所述物理接觸依靠靜電力或膠黏作用實(shí)現(xiàn)，實(shí)現(xiàn)無(wú)損接觸，快速更換。為實(shí)現(xiàn)光掩膜的長(zhǎng)時(shí)間工作的穩(wěn)定性，尤其是因長(zhǎng)時(shí)間的曝光引起液晶層升溫而造成液晶層螺旋扭曲力的變化，所述導(dǎo)光層306與第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片301之間形成真空層307，用于降低導(dǎo)光層306與第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片301的熱傳導(dǎo)，保證單一圖案曝光與套印曝光的精度一致。
[0030]與實(shí)施例2不同的是，為防止應(yīng)用過(guò)程中帶來(lái)的污染，造成污點(diǎn)、壞點(diǎn)及面板損壞等，所述光掩膜還包括去污層308，所述去污層設(shè)置于第二光學(xué)偏轉(zhuǎn)片光出射一側(cè)。
[0031]該液晶光掩膜用于印刷制版中代替菲林作為光掩膜，具體工作過(guò)程與實(shí)施例1相同。
[0032]以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例，凡依本發(fā)明申請(qǐng)專利范圍所做的均等變化與修飾，皆應(yīng)屬本發(fā)明的涵蓋范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種液晶光掩膜,其特征在于,所述光掩膜包括:成像控制器，導(dǎo)光層，第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片，液晶層和第二光學(xué)偏轉(zhuǎn)片；所述液晶層夾設(shè)于第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片與第二光學(xué)偏轉(zhuǎn)片之間；第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片與液晶層接觸的表面上設(shè)置有第一透明電極層；第二光學(xué)偏轉(zhuǎn)片與液晶層接觸的表面上設(shè)置有第二透明導(dǎo)電層；所述第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片與第二光學(xué)偏轉(zhuǎn)片的偏振方向夾角為90度；所述導(dǎo)光層設(shè)置于第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片的光入射的一側(cè)；所述成像控制器用于在第一透明電極層和第二透明電極層施加相應(yīng)電信號(hào)，使所述液晶層中相應(yīng)區(qū)域的液晶發(fā)生偏轉(zhuǎn)，形成所述目標(biāo)圖像，遮掩曝光光源照射光線；未發(fā)生液晶偏轉(zhuǎn)的區(qū)域成光透過(guò)狀態(tài)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶光掩膜，其特征在于，所述導(dǎo)光層將入射光整理為平行光，所述平行光入射第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片。
3.根據(jù)權(quán)利要求1-2所述的液晶光掩膜,其特征在于,所述導(dǎo)光層與第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片形成物理接觸。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3所述的液晶光掩膜，其特征在于，所述物理接觸依靠靜電力或膠黏作用實(shí)現(xiàn)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4所述的液晶光掩膜,其特征在于,所述導(dǎo)光層與第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片之間形成真空層，用于降低導(dǎo)光層與第一光學(xué)偏轉(zhuǎn)片的熱傳導(dǎo)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5所述的液晶光掩膜，其特征在于，所述液晶層為扭曲向列型液晶層。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-6所述的液晶光掩膜，其特征在于，所述導(dǎo)光層為菲涅耳透鏡。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-7所述的液晶光掩膜，其特征在于，所述光掩膜還包括去污層，所述去污層設(shè)置于第二光學(xué)偏轉(zhuǎn)片光出射一側(cè)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-8所述的液晶光掩膜的應(yīng)用，其特征在于，所述液晶光掩膜用于印刷制版中代替菲林作為光掩膜。
10.一種制版裝置，其特征在于，所述制版裝置包含權(quán)利要求1-8所述的高性能液晶光掩模，所述液晶光掩膜用于印刷制版中代替菲林作為光掩膜。
【文檔編號(hào)】G03F7/20GK103955087SQ201410197564
【公開日】2014年7月30日 申請(qǐng)日期:2014年5月12日 優(yōu)先權(quán)日:2014年5月12日
【發(fā)明者】楊濤 申請(qǐng)人:青島斯博銳意電子技術(shù)有限公司