包括高和低光澤度區(qū)的其上疊加有物理微觀結(jié)構(gòu)的基材的制作方法
【專利摘要】本文公開了聚合物基材，所述聚合物基材具有第一主側(cè)面，所述第一主側(cè)面包括第一高光澤度區(qū)并且還包括具有模塑紋理化表面的第二低光澤度區(qū)，所述第一區(qū)和所述第二區(qū)以預(yù)先確定的圖案設(shè)置在所述第一主表面上；并且其中所述基材的所述第一主側(cè)面還包括疊加在所述第一高光澤度區(qū)上和所述第二低光澤度區(qū)上的至少一個物理微觀結(jié)構(gòu)。
【專利說明】包括高和低光澤度區(qū)的其上疊加有物理微觀結(jié)構(gòu)的基材

【背景技術(shù)】
[0001 ] 其上具有物理微觀結(jié)構(gòu)的基材已用于各種用途。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0002]本文公開了聚合物基材，所述基材具有第一主側(cè)面，所述第一主側(cè)面包括第一高光澤度區(qū)并且還包括具有模塑紋理化表面的第二低光澤度區(qū)，所述第一區(qū)和所述第二區(qū)以預(yù)先確定的圖案設(shè)置在所述第一主表面上；并且其中所述基材的第一主側(cè)面還包括疊加在所述第一高光澤度區(qū)上和所述第二低光澤度區(qū)上的至少一個物理微觀結(jié)構(gòu)。本發(fā)明還公開了制備此類聚合物基材的方法。
[0003]在以下【具體實施方式】中，本發(fā)明的這些方面和其他方面將顯而易見。然而，在任何情況下，都不應(yīng)將上述
【發(fā)明內(nèi)容】
視為是對可受權(quán)利要求書保護的主題的限制，無論此主題是在最初提交的專利申請的權(quán)利要求書中給出還是在修訂的專利申請的權(quán)利要求書中給出，或者是在申請過程中給出。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0004]圖1為示例性基材的一部分的示意性側(cè)視剖視圖，所述部分包括第一高光澤度區(qū)和第二低光澤度區(qū)，并且還包括疊加在所述第一區(qū)和所述第二區(qū)上的示例性物理微觀結(jié)構(gòu)。
[0005]圖2為示例性基材的一部分的示意性側(cè)視剖視圖，所述部分包括第一高光澤度區(qū)和第二低光澤度區(qū)，并且還包括疊加在所述第一區(qū)和所述第二區(qū)上的另一示例性物理微觀結(jié)構(gòu)。
[0006]圖3為示例性基材的第一主側(cè)面的俯視平面圖，所述第一主側(cè)面包括第一高光澤度區(qū)和第二低光澤度區(qū)，并且還包括疊加在所述第一區(qū)和所述第二區(qū)上的示例性物理微觀結(jié)構(gòu)。
[0007]圖4為另一示例性基材的第一主側(cè)面的俯視平面圖，所述第一主側(cè)面包括第一高光澤度宏觀區(qū)域和第二低光澤度宏觀區(qū)域，并且還包括疊加在所述第一區(qū)域和所述第二區(qū)域上的示例性物理微觀結(jié)構(gòu)。
[0008]圖5為示例性物理微觀結(jié)構(gòu)的透視圖，所述物理微觀結(jié)構(gòu)包括疊加在第一高光澤度區(qū)域和第二低光澤度區(qū)域上的手撕圖案。
[0009]圖6為示例性物理微觀結(jié)構(gòu)的透視圖，所述物理微觀結(jié)構(gòu)包括疊加在第一高光澤度區(qū)域和第二低光澤度區(qū)域上的液體保持圖案。
[0010]圖7為示例性物理微觀結(jié)構(gòu)的透視圖，所述物理微觀結(jié)構(gòu)包括疊加在第一高光澤度區(qū)域和第二低光澤度區(qū)域上的共延的相交手撕液體保持圖案。
[0011]圖8為用于制備微結(jié)構(gòu)化的帶材背襯和帶材的示例性方法的圖解視圖。
[0012]在多張圖中，類似的參考標(biāo)號表示類似的元件。一些元件可能以相同或相等的倍數(shù)存在；在此類情況下，參考標(biāo)號可能僅標(biāo)出一個或多個代表性元件，但應(yīng)當(dāng)理解，此類參考標(biāo)號適用于所有此類相同的元件。除非另外指明，否則本文檔中的所有圖和附圖均未按比例繪制，并且被選擇用于示出本發(fā)明的不同實施例。具體地講，除非另外指明，否則僅用示例性術(shù)語描述各種部件的尺寸，并且不應(yīng)從附圖推斷各種部件的尺寸之間的關(guān)系。盡管本發(fā)明中可能使用了諸如頂部、底部、上部、下部、下方、上方、正面、背面、向上和向下以及第一和第二的術(shù)語，但應(yīng)當(dāng)理解，除非另外指明，否則這些術(shù)語僅以它們的相對意義使用。術(shù)語向外和向內(nèi)分別指大致遠離基材I的內(nèi)部的方向和朝向基材I的內(nèi)部的方向。除非另外特別限定，否則諸如相同、相等、均一、恒定等等的術(shù)語在應(yīng)用于可定量性質(zhì)或?qū)傩詴r意指在+/-5%內(nèi)。如本文中用作性質(zhì)或?qū)傩缘男揎椪Z，除非另外特別限定，否則術(shù)語“大致”意指性質(zhì)或?qū)傩钥梢子谟善胀夹g(shù)人員識別，而不需要絕對精確或完全匹配(例如對于可定量特性在+/-520%內(nèi))；術(shù)語“基本上”意指高度近似(例如對于可定量特性在+/-510%內(nèi))，但同樣不需要絕對精確或完全匹配。關(guān)于光澤度所使用的術(shù)語，如高/較高以及低/較低，在下文進行具體定義。

【具體實施方式】
[0013]圖1和圖2中示出各自包括第一主側(cè)面100和第二主側(cè)面400的示例性基材I的側(cè)剖視透視圖，第一主側(cè)面100和第二主側(cè)面400分別包括第一和第二朝向相反的主表面101和401。第一主側(cè)面100的第一主表面101包括高光澤度的第一區(qū)110。第一主表面101還包括低光澤度的第二區(qū)130。所謂高光澤度和低光澤度具體地是指區(qū)130的光澤度低于區(qū)110的光澤度。區(qū)130可通過包括模塑表面紋理而表現(xiàn)出此較低的光澤度。由此而論，具有模塑表面紋理的區(qū)130是指具有特征結(jié)構(gòu)的區(qū)域，所述特征結(jié)構(gòu)以將區(qū)130的光澤度從平表面所表現(xiàn)出的光澤度降低的方式從平坦表面偏離(沿著基材I的z軸，如圖1中所示)，如稍后在本文中詳細論述。所謂模塑紋理化表面是指通過模塑基材I或在其模塑期間獲得基材I的主表面101的紋理賦予特征結(jié)構(gòu)。因此，模塑紋理化表面可區(qū)別于從對現(xiàn)有表面進行處理所獲得(例如，從對此類表面進行研磨、消融或物理粗化，或從將紋理賦予材料沉積其上所獲得)的紋理化表面。第一區(qū)110和第二區(qū)130提供有預(yù)先確定的圖案。
[0014]基材I的第一主側(cè)面100還包括疊加在第一區(qū)110和第二區(qū)130上的至少一個物理微觀結(jié)構(gòu)200。所謂疊加是指此一個或多個微觀結(jié)構(gòu)200延伸進入和/或穿過第一高光澤度區(qū)110中的至少一些，并且還延伸進入和/或穿過第二低光澤度區(qū)130中的至少一些(最容易地可從例如圖3的代表性圖示中看出)。
[0015]在各實施例中，具有模塑紋理化表面的低光澤度區(qū)130可表現(xiàn)出小于約40、20、
10、5或2光澤度單位的光澤度。在一些實施例中，低光澤度區(qū)130可表現(xiàn)出表面打毛(外觀)，如普通技術(shù)人員將能夠識別的。在各實施例中，高光澤度區(qū)110可表現(xiàn)出至少20、40、60或80光澤度單位的光澤度。在各實施例中，低光澤度區(qū)130可表現(xiàn)出的光澤度比高光澤度區(qū)110的光澤度低至少5、10、20、40或60光澤度單位(與相應(yīng)區(qū)域的光澤度單位的絕對值無關(guān))例如以便提供足夠的光澤度對比，使得觀察者可感知從高光澤度區(qū)和低光澤度區(qū)反射的可見光所展現(xiàn)的差異。
[0016]此類光澤度測量可例如通過可在局部規(guī)模上提供光澤度測量或可提供可與光澤度單位關(guān)聯(lián)的參數(shù)的無論什么方法和設(shè)備來局部進行(此類方法可包括例如輪廓測定法、共焦顯微鏡法等)。或此類光澤度測量可在共同由高光澤度區(qū)所形成的宏觀區(qū)域上進行或相似地可在共同由低光澤度區(qū)所形成的宏觀區(qū)域上進行(此類宏觀區(qū)域稍后在本文中論述)。此類測量可用常規(guī)光澤度計進行，例如可以商品名micro-tri GLOSS得自馬里蘭州哥倫比亞市的畢克助劑及儀器公司(BYK Additives and Instruments, Columbia, MD)的光澤度計(并且可例如按照與存在于ASTM測試方法D2457-08和D523-08 (均規(guī)定于2008年)中的工序大致類似的方式進行)。應(yīng)當(dāng)理解，此類光澤度測量通常在60度入射角下進行；然而(例如，在物理微觀結(jié)構(gòu)200的特定設(shè)計可(例如通過遮蔽效應(yīng))不當(dāng)?shù)胤恋K以60度的光澤度測量的情況下)，可以使得物理微觀結(jié)構(gòu)的任何效應(yīng)最小化的角度例如85度進行光澤度測量)。還將認識到，根據(jù)區(qū)表面紋理的性質(zhì)和/或疊加在該特定區(qū)上的任何微觀結(jié)構(gòu)200的性質(zhì)，區(qū)/區(qū)域的光澤度可取決于入射光相對于紋理和/或微觀結(jié)構(gòu)(即，相對于基材x-y軸，如圖1-3中所示)的任何取向的取向。在此類情況下，可獲得平均光澤度，該平均光澤度源自以相對于基材χ-y軸的各種取向所進行的光澤度測量。
[0017]區(qū)110和區(qū)130的表面紋理可通過輪廓測定法來表征，如普通技術(shù)人員所理解。如果表面紋理具有取向依賴性，則此類輪廓測定法可沿著相對于基材I的Χ-y軸的若干取向進行。(此表面紋理的此類輪廓測定法測量可忽略物理微觀結(jié)構(gòu)200的任何貢獻)。此類輪廓測定表征的結(jié)果通常以表面粗糙度表示，例如Ra，其為公認的平均表面粗糙度參數(shù)。在各實施例中，高光澤度區(qū)110可具有的Ra小于0.2 μ m、0.1 μ m、0.05 μ m或0.02 μ m。在各實施例中，低光澤度區(qū)130可具有的Ra大于0.2 μ m、0.4 μ m、0.8μπι、2μπι*4μπι。(應(yīng)當(dāng)理解，以上提出的低光澤度和高光澤度的定義僅需區(qū)130具有低于區(qū)110的光澤度，而無需相應(yīng)的區(qū)表現(xiàn)出光澤度或Ra的任何絕對值。因此，不應(yīng)推斷例如0.2 μ m的Ra為“高”光澤度與“低”光澤度之間的定義邊界。相反，表面粗糙度Ra僅為可用于表征高和低光澤度區(qū)的附加參數(shù)。
[0018]另外，可參照圖3來論述基材I的細節(jié)，圖3示出基材I的第一主表面101的平面圖，所述主表面101包括第一高光澤度區(qū)110 (其通過不含任何表面陰影來指示)和其中低光澤度(即，低于區(qū)110的光澤度)由模塑紋理化表面(所述紋理化表面通過圖3中的表面點畫來指示)賦予的第二區(qū)130。
[0019]第一高光澤度區(qū)110和第二低光澤度區(qū)130可以任何所需圖案設(shè)置在基材I的第一主表面101上。由此而論，術(shù)語區(qū)涵蓋任何尺寸的表面部分，包括微觀區(qū)(例如，過小(例如尺寸小至幾平方微米)而不能被肉眼看見的區(qū))。在一些實施例中，高光澤度區(qū)110可布置為共同包括具有高光澤度的宏觀區(qū)域111 (即，大于約2mm2的區(qū))，無論形成區(qū)域111的區(qū)110是否呈鄰接布置或無論它們是否彼此被例如區(qū)130的一些部分和/或被微觀結(jié)構(gòu)200分離。相似地，低光澤度區(qū)130可布置為共同包括具有低光澤度的宏觀區(qū)域131 (例如，具有表面打毛)，無論區(qū)130是否呈鄰接布置或無論它們是否彼此被例如區(qū)110的一些部分和/或被微觀結(jié)構(gòu)200分離。
[0020]在各實施例中，具有模塑紋理化表面的低光澤度宏觀區(qū)域131可表現(xiàn)出小于約40、20、10、5或2光澤度單位的光澤度。在一些實施例中，低光澤度區(qū)宏觀區(qū)131可表現(xiàn)出表面打毛(外觀)，如普通技術(shù)人員可識別的。在各實施例中，高光澤度宏觀區(qū)域111可表現(xiàn)出至少20、40、60或80光澤度單位的光澤度。在各實施例中，低光澤度宏觀區(qū)域131可表現(xiàn)出比高光澤度宏觀區(qū)域111低至少5、1、20、40或60光澤度單位的光澤度(例如，與相應(yīng)宏觀區(qū)域的光澤度單位的絕對值無關(guān))，從而提供足夠的光澤度對比以可觀察到例如反射光標(biāo)記?？墒褂酶吖鉂啥葏^(qū)和低光澤度區(qū)的任何合適的布置。應(yīng)理解，例如，高光澤度宏觀區(qū)域111可包括一些數(shù)量的低光澤度(例如，微觀)區(qū)130 ;然而，只要宏觀區(qū)域111由高光澤度區(qū)110占主導(dǎo)地位以便表現(xiàn)出宏觀高光澤度，則仍然認為區(qū)域111是高光澤度區(qū)域。類似的考慮對于低光澤度宏觀區(qū)域131也適用。
[0021]在一些實施例中，此類宏觀區(qū)域111和131可組合布置以共同提供任何合適的裝飾性圖案。此類裝飾性圖案可包括對象或場景的表示、抽象圖案、隨機圖案、規(guī)則圖案，等等。(棋盤圖案在圖3的示例性實施例中示出)。
[0022]在一些實施例中，高光澤度區(qū)/區(qū)域和低光澤度區(qū)/區(qū)域可組合布置為共同提供如圖4示例性方式中所示的至少一個信息標(biāo)記600。此類信息標(biāo)記可包括例如徽標(biāo)、商品名等(無論此類標(biāo)記的形式為文本或符號或圖片或兩者的混合形式)。應(yīng)當(dāng)理解，這些特征結(jié)構(gòu)可允許基材I顯示出未印刷的信息標(biāo)記(類似于例如水印)，所述標(biāo)記至少當(dāng)可見光照射到基材I的第一主側(cè)面上或從該第一主側(cè)面反射時能夠被觀察到，并且所述標(biāo)記在無需將任何顏料、墨、標(biāo)簽等沉積到基材I上的情況下獲得。在一些實施例中，信息標(biāo)記可包括文本串(無論是單獨的或是與其他視覺元件組合)，如圖4的文本串601所例示。在另外的實施例中，基材I可具有縱向軸線“L”，而文本串可具有長軸線“1”，如圖4所示。在具體實施例中，文本串的長軸線可以相對于基材I的縱向軸線約20度至約70度的角度取向，如圖4中所示。在另外的實施例中，文本串的長軸線可以相對于基材I的縱向軸線約35度至約60度的角度取向。
[0023]在這些實施例的任一個中，低光澤度區(qū)域131可單獨或共同提供背景，其中某些高光澤度區(qū)域111單獨或共同在所述背景上提供特定的能夠觀察到的特征結(jié)構(gòu)(例如，圖像或字母)。或者，反之亦然?；蛘?，可采用兩種方式的組合。
[0024]任何合適的模塑特征結(jié)構(gòu)可用于降低區(qū)130相對于區(qū)110的光澤度。由此而論，特征結(jié)構(gòu)可為表示從平坦表面(沿著基材I的Z軸)離開或偏離的任何事物，該偏離處在某個程度上適于用以散射可見光并從而減少了來自表面的鏡面反射。此類特征結(jié)構(gòu)可隨機提供或可包括預(yù)先確定的圖案。區(qū)130的此類特征結(jié)構(gòu)可包括例如相對于區(qū)130內(nèi)的主表面101的平均水平(沿著垂直于基材I的主平面的軸線(z軸))向外突出的那些(例如，如針對區(qū)130進行測量和平均，并且不包括來自物理微觀結(jié)構(gòu)200的任何貢獻)。此類特征結(jié)構(gòu)還可包括相對于此平均水平向內(nèi)凹陷的那些。此類突出特征結(jié)構(gòu)可表征為例如突出部、小丘、節(jié)結(jié)、錐體、桿、柱子、隆起塊、脊等；此類凹陷特征結(jié)構(gòu)可表征為例如凹陷、空穴、凹坑、裂隙、壟溝、裂縫、凹口等。紋理化表面可具有突出和凹陷特征結(jié)構(gòu)的組合(例如，壟溝和脊、突出和凹陷錐體、兩者間具有凹坑的節(jié)結(jié)等)。
[0025]應(yīng)當(dāng)理解，以足以散射光的大小范圍(例如，在約0.2微米至約30微米的范圍內(nèi))存在的此類特征結(jié)構(gòu)可提供此類功能。此類特征結(jié)構(gòu)可包括例如可為局部平坦的(即，在幾微米或更小的范圍上)但具有此類小尺寸和/或被布置為共同提供低光澤度的表面。此一般類型的基材的實例在例如美國專利申請公布2010/0302479中有所描述?；蛘?，此類特征結(jié)構(gòu)可包括例如在幾微米或更小的尺寸范圍上為非平面的(彎曲的)平面(例如，呈節(jié)結(jié)等形式的那些)。此一般類型的基材的實例在例如美國專利申請公布2007/0014997中有所描述?？墒褂镁哂袃煞N類型的特征結(jié)構(gòu)和/或具有局部平坦和/或局部弧形表面的任何組合的特征結(jié)構(gòu)的基材。(應(yīng)注意的是其中存在表面紋理，可將鄰近物理微觀結(jié)構(gòu)的區(qū)中的主表面101的平均Z軸水平用作參考基準平面以表征物理微觀結(jié)構(gòu)的高度)。
[0026]雖然未排除第一高光澤度區(qū)110具有一些模塑表面紋理，但此類區(qū)將具有少于第二區(qū)130的表面紋理，使得其表現(xiàn)出的光澤度高于區(qū)130表現(xiàn)出的光澤度，如上文所述。在一些實施例中，高光澤度區(qū)110可不含表面紋理，例如其可為平表面(例如，在0.2 μ m或更大尺寸范圍上)。在一些實施例中，此類表面可為例如光學(xué)平滑表面(例如，諸如在通過抵靠非常平滑的模具表面(諸如拋光的金屬輥等)而模塑熔融聚合物的材料來形成基材I的過程中獲得)。
[0027]通常采用高透光性基材來控制光澤度，例如以使得來自基材的鏡面反射可妨礙透射穿過基材的光的程度最小化。此類問題往往產(chǎn)生于例如顯示器中或其中透射光和反射光之間的互相作用較重要的類似應(yīng)用中。相比之下，本申請涉及光澤度的控制例如以便增強可包括物理微觀結(jié)構(gòu)的基材的外觀。可用于例如帶材等的此類基材可能往往透光性不良(例如，半透明或甚至不透明)。因此，至今未知其可用于以本文所公開的方式調(diào)控此類基材的光澤度。然而，發(fā)明人現(xiàn)已發(fā)現(xiàn)特別是在某些應(yīng)用中(例如，遮蔽膠帶，其在歷史上已采用具有糙面外觀的紙基材)，最終用戶可注意到相對高光澤度的基材(即，例如未經(jīng)受本文所公開的賦予基材較低光澤度的方法而制備的塑性膜)具有發(fā)光外觀，該發(fā)光外觀可被一些用戶感知為有些“塑性”并因此是不太可取的。因此，提供如本文所公開的具有低光澤度(例如，表面打毛)的區(qū)可為有利的。此外，提供具有高和低光澤度的區(qū)以共同形成圖案(例如裝飾性圖案)可進一步提高基材的吸引力。另外，此類光澤度對比圖案可被構(gòu)造用于提供在制備基材時形成的信息標(biāo)記，使得無需后形成印刷、壓印或標(biāo)記操作來提供標(biāo)記。所有這些可提供顯著的優(yōu)點并且還可使生產(chǎn)包括所述基材的偽造產(chǎn)品變得困難。并且，所有這些可在光澤度對比圖案不妨礙疊加在其上的微觀結(jié)構(gòu)的性能的情況下進行，反之亦然。
[0028]微觀結(jié)構(gòu)200可包括任何所需的物理微觀結(jié)構(gòu)。所謂物理微觀結(jié)構(gòu)是指用于基材I的正常使用中以對物質(zhì)提供物理效應(yīng)(例如，流體調(diào)控和/或撕裂透過基材I傳播以及如下所述的其他情況)的微觀結(jié)構(gòu)。因此，在正常使用中實現(xiàn)性質(zhì)方面的光學(xué)效應(yīng)(即，其調(diào)控所需的光學(xué)效應(yīng)的電磁輻射例如可見光)的微觀結(jié)構(gòu)被明確地從此定義中排除。(然而以上定義事實上是指任何微觀結(jié)構(gòu)，包括物理微觀結(jié)構(gòu)，當(dāng)然可表現(xiàn)出一些偶然的光學(xué)效應(yīng)，如果僅根據(jù)在一些條件下可見的話)。
[0029]物理微觀結(jié)構(gòu)的概念同時涵蓋突出高于基材I的主表面101的結(jié)構(gòu)(如圖2的突出部201所例示)；和凹陷在基材I的主表面101以下(如圖3的凹陷部202所例示)的“結(jié)構(gòu)”(即，特征結(jié)構(gòu))。當(dāng)然可存在這兩種的組合。所謂微觀結(jié)構(gòu)還指結(jié)構(gòu)為預(yù)先確定的模塑結(jié)構(gòu)(例如，通過抵靠模具表面模塑聚合物型熱塑性樹脂獲得，所述模具表面包括期望設(shè)置在基材I的第一主側(cè)面100上的微觀結(jié)構(gòu)的陰面)，其沿著至少兩個正交方向的尺寸在約5至約400微米的范圍內(nèi)。這些正交方向中的一者常?？纱怪庇诒骋rI的平面(即，沿z軸)，因此該尺寸可包括例如突出高度或凹陷深度。作為一個具體實例，對于如果凹陷微觀結(jié)構(gòu)包括例如細長凹槽的情況，此類方向為凹槽深度。通常，此類凹槽的側(cè)向?qū)挾?側(cè)向是指沿著橫跨凹槽寬度的方向)可包括第二正交方向。因此，如果凹槽的深度和凹槽的側(cè)向?qū)挾榷咴谘刂疾鄣拈L度的任何位置在約5微米和約400微米之間，則凹槽根據(jù)定義為微結(jié)構(gòu)化的特征結(jié)構(gòu)，而與其長度可為極長的事實無關(guān)。同樣的考慮適用于例如呈細長肋形式(關(guān)于肋的高度、寬度和長度)的突出微觀結(jié)構(gòu)。
[0030]在各實施例中，至少一個物理微觀結(jié)構(gòu)200的表面可包括紋理(如低光澤度區(qū)130所包括的類似或相同類型)；或此類表面可根據(jù)需要為平的，例如光學(xué)光滑的。將認識到，物理微觀結(jié)構(gòu)200可對基材I的宏觀區(qū)域的光澤度施加至少一些輕微的效應(yīng)，如上所述。然而，當(dāng)表征區(qū)110和130的性質(zhì)，例如這些區(qū)的表面特征結(jié)構(gòu)相對于所述區(qū)中表面的平均水平的高度、表面粗糙度Ra等時，可省略物理微觀結(jié)構(gòu)200。(就這一點而言，應(yīng)注意的是區(qū)的任何特定特征結(jié)構(gòu)關(guān)于其提供降低光澤度的紋理的能力的高度或深度應(yīng)相對于所述區(qū)中的主表面的平均水平進行測量，這一點會在區(qū)130相對于區(qū)110垂直偏離(沿著基材I的z軸)的情況下發(fā)揮作用)。
[0031]如所提及的，物理微觀結(jié)構(gòu)200可具有對物質(zhì)提供任何所需物理效應(yīng)的預(yù)期功能。在各實施例中，物理微觀結(jié)構(gòu)200因此可用于研磨物件(即，提供所謂的結(jié)構(gòu)化研磨齊U)以建立至物件的導(dǎo)電通路(即，提供所謂的z軸導(dǎo)體)，以建立至對物件的導(dǎo)熱通路，以過濾固體粒子，以機械附接至物件(即，提供機械緊固件，諸如配合表面緊固件或鉤環(huán)緊固件的鉤組件)，以粘結(jié)性地附接至物件(即，提供所謂的結(jié)構(gòu)化粘合劑)等。
[0032]在一些實施例中，物理微觀結(jié)構(gòu)可用于促進和/或傳播沿著基材I的撕裂(例如，以允許基材I的一部分與基材I的另一部分分離)。在一些實施例中，物理微觀結(jié)構(gòu)200可因此包括微結(jié)構(gòu)化的手撕圖案，其可使基材I更易于撕裂(例如，橫跨基材I的橫向?qū)挾龋ǔＱ刂鐖D5所示的橫向軸線“T”)，從而使得基材I可用作例如手撕膠帶的背襯。圖5中示出示例性手撕圖案203，其中物理微觀結(jié)構(gòu)200/手撕圖案203包括多個弱線210。每個單獨的弱線210可為通過基材I的第一主側(cè)面100中的凹陷部所提供的不連續(xù)弱線或可為由基材I的第一主側(cè)面100中的多個凹陷部共同提供的不連續(xù)弱線。所謂“凹陷部”是指這樣的特征結(jié)構(gòu)，其表面的至少一些凹陷至基材I的第一主側(cè)面100的第一主表面101的下方(即，向內(nèi)朝基材I的內(nèi)部)，以包括開放式向外表面腔體。在一些實施例中，提供弱線210的凹陷部可包括例如橫跨基材I的橫向?qū)挾冗B續(xù)延伸的細長凹槽211 (即，從基材I的一個副邊緣到基材I的另一個副邊緣)。在一些實施例中，弱線210可通過由橫跨第一側(cè)面100的橫向?qū)挾乳g隔開的凹陷部共同構(gòu)成而成為不連續(xù)的。在各實施例中，弱線210可沿著基材I的縱向范圍間隔開，在另外的實施例中，每個弱線可在與基材I的橫向軸線T為加或減45、20、10或5度內(nèi)取向。
[0033]在一些實施例中，物理微觀結(jié)構(gòu)200可用于調(diào)控流體(無論是液體或氣體)。在這種類型的各實施例中，物理微觀結(jié)構(gòu)200可用于促進液體的芯吸，過濾來自液體或氣體的固體粒子，加熱或冷卻液體或氣體，遞送治療性藥物，獲得生物樣品，改變氣體運動以改變其聲學(xué)特性等。在特定實施例中，物理微觀結(jié)構(gòu)200可包括液體保持微觀結(jié)構(gòu)(例如，油漆保持微觀結(jié)構(gòu))，所述液體保持微觀結(jié)構(gòu)用于捕集和保持液體以延遲或降低液體沿著基材I的主側(cè)面100流動的能力。此類性質(zhì)可使基材I用作例如遮蔽膠帶的背襯。此類型的流體調(diào)控微觀結(jié)構(gòu)可包括由呈微結(jié)構(gòu)化的液體保持圖案103形式的物理微觀結(jié)構(gòu)200界定(即，限定，無論是連續(xù)還是不連續(xù))的多個微接收槽107，其包括微結(jié)構(gòu)化的分隔部102 (例如，如圖6中的示例性方式所示)。在一些實施例中，微結(jié)構(gòu)化的分隔部102可包括彼此不會物理性相交的多個第一細長分隔部104，和彼此不會物理性相交的多個第二細長分隔部106。第一分隔部104的至少一些可與第二分隔部106的至少一些在相交部150處相交，從而界定微接收槽107。(在各實施例中，分隔部104和/或106可為連續(xù)的或不連續(xù)的；因此，在包括不連續(xù)分隔部的實施例中，相交部150可包括分隔部104和106的長軸線相交的空間點，而非分隔部104和106的實際物理性相交部)。在各實施例中，微結(jié)構(gòu)化的分隔部102可包括沿著其長度在某處的范圍約10微米至約200微米的高度。在另外的實施例中，微結(jié)構(gòu)化的分隔部102可包括沿著其長度在某處的范圍約20微米至約80微米的高度。在另外的實施例中，微結(jié)構(gòu)化的分隔部102可包括沿著其長度在某處的范圍在約30微米至約50微米的高度。在一些實施例中，細長分隔部104和106可包括細長肋(如圖6的示例性設(shè)計)。
[0034]微結(jié)構(gòu)化的手撕圖案和微結(jié)構(gòu)化的液體保持圖案的其他細節(jié)可見于2011年3月8日提交的標(biāo)題為Microstructured Tape (微結(jié)構(gòu)化帶)的美國專利申請13/042536,該申請的全文以引用方式并入本文。
[0035]如上所述，在一些實施例中，基材I可包括多個物理微觀結(jié)構(gòu)200 ;例如以便對物質(zhì)提供多于一種的物理效應(yīng)。例如上述示例性物理微觀結(jié)構(gòu)的任何此類組合均涵蓋在本文的公開內(nèi)容中。
[0036]在特定實施例中，基材I的第一主側(cè)面100的至少一個物理微觀結(jié)構(gòu)200可同時包括液體保持圖案103和手撕圖案203，所述圖案可為共延的且相交的。所謂共延的是指兩個圖案重疊；即，它們同時存在于第一主側(cè)面100的至少一些宏觀區(qū)(即，大于約2mm2的區(qū))中。所謂相交的是指液體保持圖案的至少一些分隔部的長軸線與手撕圖案的至少一些弱線的長軸線在分隔部和弱線的細長長度內(nèi)的某個位置處相交。每個圖案的微觀結(jié)構(gòu)可但并非必須與其他圖案的微觀結(jié)構(gòu)物理性相交。在圖7中以示例性方式示出包括呈微結(jié)構(gòu)化的手撕圖案和微結(jié)構(gòu)化的液體保持圖案的至少一個物理微觀結(jié)構(gòu)的基材1，所述圖案是共延的且相交的。每個圖案的各種結(jié)構(gòu)和特征結(jié)構(gòu)可具有如上所述的屬性和性質(zhì)。
[0037]例如結(jié)合光澤度受控區(qū)使用共延、相交的物理微觀結(jié)構(gòu)，在與本申請同日提交的標(biāo)題為Microstructured Tape Comprising Coextensive, Intersecting Paint-Retent1nand Hand-Tear Patterns (包括共延、相交的油漆保持和手撕圖案的微結(jié)構(gòu)化帶)美國臨時專利申請N0.xx/xxxxxx中有更加詳細的描述，該申請的全文以引用方式并入本文。
[0038]基材I及其主表面101，包括第一區(qū)110和第二區(qū)130以及物理微觀結(jié)構(gòu)200，被定義為構(gòu)成由單一塑性材料制成的單一塑性單元。這是指主表面101及其第一區(qū)110和第二區(qū)130 (包括第二區(qū)130的紋理化特征結(jié)構(gòu))以及物理微觀結(jié)構(gòu)200 (無論微觀結(jié)構(gòu)200是否包括突出特征結(jié)構(gòu)、凹陷特征結(jié)構(gòu)或兩者)整體連接至基材I并且通過與其模塑而形成。此類單一塑性單元可例如通過如下方式來便利地形成:提供聚合物熱塑性膜或熔融聚合物的熱塑性擠出物并且模塑第一主表面，以在同一時間將基材I及其主表面101的第一區(qū)110和第二區(qū)130和物理微觀結(jié)構(gòu)200全部形成為整體單元。在各實施例中，從第二主側(cè)面400的第二主表面401到物理微觀結(jié)構(gòu)200的最外側(cè)部分的基材I的整體厚度可為至少約25微米、至少約50微米、至少約60微米或至少約70微米。在另外的實施例中，基材I的整體厚度可為至多約1000微米、500微米、250微米、150微米、100微米或50微米。在一些實施例中，包括基材I及其第二主表面401的材料、包括區(qū)130的紋理化特征結(jié)構(gòu)的材料以及包括物理微觀結(jié)構(gòu)200的材料均具有相同的組成。
[0039]基材I的塑性材料可為例如可模塑聚合物熱塑性材料并且根據(jù)定義為非泡沫或多孔材料的。在一些實施例中，塑性材料可為非纖維質(zhì)的，這意味著其含有小于約5重量％的纖維素材料(例如，纖維素、紙、再生纖維素、木質(zhì)纖維、木屑等，由此而論，醋酸纖維素等不被視為纖維素材料)。在一些特定實施例中，塑性材料可為可熔融加工的，例如可擠出的?？赡壕酆衔餆崴苄圆牧峡捎啥喾N材料中的任一種構(gòu)成或包括多種材料中的任一種。均聚物、共聚物和聚合物的共混物可為可用的，并可含有多種添加劑。合適的熱塑性聚合物可包括例如聚烯烴(諸如聚丙烯或聚乙烯、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、乙烯-醋酸乙烯基酯共聚物、丙烯酸酯改性的乙烯醋酸乙烯基酯聚合物、乙烯-丙烯酸共聚物、尼龍、聚氯乙烯)和工程聚合物(諸如聚酮或聚甲基戊烷)。還可使用這類聚合物的混合物。
[0040]在一些實施例中，塑性材料可為多烯屬材料，在本文中定義為任何烯屬聚合物(例如，聚乙烯、聚丙烯等)的任何均聚物、共聚物、共混物等。在一些實施例中，多烯屬材料可含有至少約90重量％、至少約95重量％或至少約98重量％的聚乙烯，不計可能存在的任何礦物填料的重量。(由此而論，“聚乙烯”意指由至少95%的乙烯單元構(gòu)成的聚合物。在另外的實施例中，聚乙烯是乙烯均聚物。)在一些實施例中，多烯屬材料可主要由乙烯均聚物構(gòu)成，注意這個要求(除了不包括任何礦物填料的重量之外)不排除存在加工助劑、增塑劑、抗氧化劑、著色劑、顏料等，其中的至少一些可含有一些較少含量的非聚乙烯聚合物。
[0041]在各實施例中，基材I可由至少20、40、60、80、90、95或99重量％的半結(jié)晶聚合物構(gòu)成，所述半結(jié)晶聚合物具有的結(jié)晶百分比(如通過例如差示掃描量熱法所測量)可為至少約20、40、60或80 %。應(yīng)當(dāng)理解基材例如包含顯著量的半結(jié)晶聚合物的那些，可表現(xiàn)出高的光散射程度。因此在各實施例中，基材I可表現(xiàn)出至少約20、40、80或95%的霧度(如例如以與ASTM測試方法D-1033-llel中所概述工序類似的方式測量(注意:霧度可至少略受表面紋理化的影響，因此基材I的測量霧度可代表來自區(qū)110和130兩者的貢獻)。
[0042]在各實施例中，基材I可包含降低透過基材I的透光率的一種或多種遮光劑。此類試劑可包括不透明填料(例如，礦物填料諸如碳酸鈣、二氧化鈦或高嶺土、填料諸如炭黑等)?；腎還可包含有效量的向基材賦予易于識別的顏色或色調(diào)的一種或多種著色劑(例如，墨、染料、顏料等)(即，除白色之外的明顯顏色)。將認識到，許多此類著色劑還可起到遮光功能，這取決于例如關(guān)于它們的濃度。在各種實施例中，基材I可包括小于約40 %、20 %、10 %、5 %、2 %、I %、0.5 %或0.1 %的可見光透射率，例如以與ASTM測試方法D-1033-llel(規(guī)定于2011年)中所述工序類似的方式測試。(此類透光率是由半結(jié)晶聚合物的光散射域效應(yīng)、遮光劑效應(yīng)或兩者所導(dǎo)致的透光率降低所引起)。
[0043]圖8中示出用于制備基材I的示例性設(shè)備和方法400以及得自其的產(chǎn)物。擠出機430可用于擠出熔融聚合物的熱塑性擠出物431，其一個主表面隨后接觸模具輥410，所述輥在其表面上帶有將賦予基材I的第一主側(cè)面100的所需特征結(jié)構(gòu)的陰面。另外，擠出物431的反向主表面接觸背襯輥420，所述輥可具有特定的紋理化特征結(jié)構(gòu)和/或微觀結(jié)構(gòu)(除非希望向基材I的第二主側(cè)面400賦予特定紋理化特征結(jié)構(gòu)和/或特定微觀結(jié)構(gòu))。例如，背襯棍420的表面可包括例如常規(guī)的表面打毛表面或常規(guī)的拋光表面,其任何一者均為更加所需的(例如，以提高壓敏粘合劑到如此形成的基材I表面上的可涂敷性和可粘附性)。方便的是，可例如通過將熔化的擠出物431擠入輥410和420之間的窄間隙(輥隙)來基本同時實現(xiàn)擠出物與兩個模塑表面的接觸。普通技術(shù)人員將理解，除了輥410和/或輥420之外，如果需要可使用由帶、臺板等提供的此類表面。模具表面可為金屬(例如，形式為如圖8的示例性構(gòu)造中的金屬輥)，或可包括較軟的材料，例如設(shè)置在金屬背襯輥上的聚合物帶或套管或涂層。例如通過本領(lǐng)域的技術(shù)人員所熟悉的雕刻、壓花紋、金剛石車削、激光刻蝕、電鍍或電極沉積等可獲得其上帶有期望特征結(jié)構(gòu)的陰面的此類模具表面。
[0044]更詳細地講，為了在基材I的第一主側(cè)面100的第一主表面101的區(qū)130上提供(降低光澤度的)模塑表面紋理化特征結(jié)構(gòu)，可對模具主表面的各部分進行處理以包括此類紋理的陰面。這可通過任何合適的方法(例如，雕刻、壓花紋、電鍍、無電沉積、化學(xué)蝕刻、激光刻蝕、噴砂等)進行。或者，聯(lián)接到快速工具伺服的加工工具可用于以在所需區(qū)產(chǎn)生無序或無規(guī)紋理化結(jié)構(gòu)的方式來加工所選主表面區(qū)，如美國專利申請公布2008/0049341的實施例8和9中所述。
[0045]已與模具表面接觸以將上述特征結(jié)構(gòu)和結(jié)構(gòu)賦予其上的熔化的擠出物432可硬化以形成基材I?？煞奖愕氖?，模塑擠出物例如通過沿循圍繞如圖8中的背襯輥420所示的相當(dāng)大部分的路徑保持與背襯輥接觸，以允許此類硬化。(或者，如果希望熔融的擠出物保持與模具表面盡可能長時間的接觸，則模塑擠出物可沿循圍繞模具輥410的相當(dāng)大部分的路徑)。如果需要，可提供退繞輥425以有助于在模塑的硬化基材I從模具輥或背襯輥移出時對其進行處理?；腎可隨后用于任何用途。任選地，可例如通過使用涂布機433將壓敏粘合劑300設(shè)置在例如基材I的第二主側(cè)面400上(以形成圖7的示例性圖示中所示的產(chǎn)品，例如膠帶)。壓敏粘合劑300的沉積可在線上與模塑在同一工序進行，如圖8的示例性構(gòu)造所示。或者，可以在線下在單獨工序中進行。
[0046]任何合適的壓敏粘合劑材料或組合物可用于壓敏粘合劑300中。壓敏粘合劑在室溫下通常發(fā)粘并且可通過施加至多輕微的指壓粘附到表面，并且因此可與非壓敏粘合劑的其它類型的粘合劑區(qū)別開。對可用的壓敏粘合劑的一般性描述可在如下文獻中找到:聚合物科學(xué)和工程百科全書(Encyclopedia of Polymer Science and Engineering),第 13 卷，國際科學(xué)出版社(美國紐約，1988 年)(ffiley-1nterscience Publishers (NewYork, 1988))。可用的壓敏粘合劑的其它描述可在如下文獻中找到:聚合物科學(xué)和技術(shù)百科全書(Encyclopedia of Polymer Science and Technology),第 I 卷，國際科學(xué)出版社(美國紐約，1964 年)(Interscience Publishers (New York, 1964))?？赡芊奖愕氖?，選擇粘合劑材料以給表面提供良好的粘附力，同時可以用適度的力去除而無殘留(例如可見的殘留)。
[0047]無論是通過圖8中所示一般類型的方法或通過其他合適的方法制備，如此形成的膠帶可便利地以卷的形式提供。在一些實施例中，此類膠帶及其卷可不包括任何類型的隔離襯片(例如，帶有隔離表面的紙或塑性膜，所述隔離表面通過膜本身或者通過其上的低能涂層提供，此類隔離襯片在粘合劑領(lǐng)域是公知的)。即，在此類實施例中，卷是自卷繞卷，這意味著其依靠其本身直接卷繞，壓敏粘合劑300的向外表面301與物理微觀結(jié)構(gòu)200的最外表面和/或與基材I的第一主側(cè)面100的主表面101可剝離地接觸。此類帶材可用作例如遮蔽膠帶，這將是普通技術(shù)人員容易理解的。應(yīng)當(dāng)理解，在基材I成型為帶材的這種情況中，上述方法允許能夠在視覺上觀察到的圖案，例如待設(shè)置在帶材向外側(cè)(即，當(dāng)帶材呈卷的形式時以及在其粘附于表面之后可見的一側(cè))上的信息標(biāo)記。此類標(biāo)記等可這樣提供，而無需將墨、顏料、標(biāo)簽等沉積到帶材上并且不會無法接受地妨礙物理微觀結(jié)構(gòu)200起作用。
[0048]可在基材I的第一主側(cè)面100上進行或施加任何涂層、處理等，只要其不會無法接受地妨礙物理微觀結(jié)構(gòu)200起作用且不會無法接受地改變區(qū)130或110的光澤度。此類處理可包括例如金屬涂層、涂底漆層、處理物(例如，電暈、等離子體等)等。然而，在一些實施例中，基材I的主側(cè)面100上不存在涂層、處理或任何類型的附加層。在一些實施例中，基材I在其任一主側(cè)面內(nèi)/上不包括任何類型的光學(xué)微觀結(jié)構(gòu)(即，物理微觀結(jié)構(gòu)200僅為存在于基材I上的微觀結(jié)構(gòu)，而與區(qū)130中表面紋理的存在無關(guān))。在一些實施例中，基材I在基材I的內(nèi)部內(nèi)包含任何類型的賦予糙面的粒子。在各實施例中，基材I不包括具有粘性附接功能、非粘性附接功能、研磨功能或液體芯吸功能的物理微觀結(jié)構(gòu)。
[0049]示例件實施例的列表
[0050]實施例1:一種聚合物基材，所述聚合物基材包括具有第一主表面的第一主側(cè)面，所述第一主側(cè)面包括:第一高光澤度區(qū)；和第二低光澤度區(qū)，所述第二低光澤度區(qū)包括導(dǎo)致所述第二低光澤度區(qū)具有的光澤度低于所述第一高光澤度區(qū)的光澤度的模塑紋理化表面，所述第一區(qū)和所述第二區(qū)以預(yù)先確定的圖案設(shè)置在所述第一主表面上；并且其中所述基材的所述第一主側(cè)面還包括疊加在所述第一高光澤度區(qū)上和所述第二低光澤度區(qū)上的至少一個物理微觀結(jié)構(gòu)。
[0051]實施例2:根據(jù)實施例1所述的基材，其中所述第二低光澤度區(qū)包括小于約10光澤度單位的85度光澤度。
[0052]實施例3:根據(jù)實施例1所述的基材，其中所述第二低光澤度區(qū)包括小于約20光澤度單位的85度光澤度。
[0053]實施例4:根據(jù)實施例1所述的基材，其中所述第二低光澤度區(qū)包括小于約5光澤度單位的85度光澤度。
[0054]實施例5:根據(jù)實施例1至4中任一項所述的基材，其中所述第一高光澤度區(qū)包括大于約40光澤度單位的85度光澤度。
[0055]實施例6:根據(jù)實施例1至4中任一項所述的基材，其中所述第一高光澤度區(qū)包括大于約30光澤度單位的85度光澤度。
[0056]實施例7:根據(jù)實施例1至4中任一項所述的基材，其中所述第一高光澤度區(qū)包括大于約60光澤度單位的85度光澤度。
[0057]實施例8:根據(jù)實施例1至7中任一項所述的基材，其中所述第二低光澤度區(qū)包括比所述第一高光澤度區(qū)的光澤度低至少約10光澤度單位的85度光澤度。
[0058]實施例9:根據(jù)實施例1至7中任一項所述的基材，其中所述第二低光澤度區(qū)包括比所述第一高光澤度區(qū)的光澤度低至少約20光澤度單位的85度光澤度。
[0059]實施例10:根據(jù)實施例1至7中任一項所述的基材，其中所述第二低光澤度區(qū)包括比所述第一高光澤度區(qū)的光澤度低至少約40光澤度單位的85度光澤度。
[0060]實施例11:根據(jù)實施例1至10中任一項所述的基材，其中所述第一高光澤度區(qū)包括小于0.05微米的表面粗糙度Ra。
[0061]實施例12:根據(jù)實施例1至11中任一項所述的基材，其中所述第二低光澤度區(qū)包括大于0.8微米的表面粗糙度Ra。
[0062]實施例13:根據(jù)實施例1至12中任一項所述的基材，其中所述第一高光澤度區(qū)在所述基材的所述第一側(cè)面上共同形成第一高光澤度宏觀區(qū)域，并且其中所述第二低光澤度區(qū)在所述基材的所述第一側(cè)面上共同形成第二低光澤度宏觀區(qū)域；并且當(dāng)可見光照射到所述基材的所述第一主側(cè)面上并從所述第一主側(cè)面反射時，其中所述第一高光澤度宏觀區(qū)域和所述第二低光澤度宏觀區(qū)域組合以共同形成能夠在視覺上觀察到的圖案。
[0063]實施例14:根據(jù)實施例13所述的基材，其中當(dāng)可見光照射到所述基材的所述第一主側(cè)面上并從所述第一主側(cè)面反射時，所述第一高光澤度宏觀區(qū)域和所述第二低光澤度宏觀區(qū)域組合以共同形成能夠觀察到的信息標(biāo)記。
[0064]實施例15:根據(jù)實施例14所述的基材，其中所述標(biāo)記包括徽標(biāo)。
[0065]實施例16:根據(jù)實施例14所述的基材，其中所述基材具有縱向軸線并且其中所述標(biāo)記包括至少一個具有長軸線的文本串，所述長軸線相對于所述基材的所述縱向軸線以約20度至約70度的角度取向。
[0066]實施例17:根據(jù)實施例13所述的基材，其中當(dāng)可見光照射到所述基材的所述第一主側(cè)面上并從所述第一主側(cè)面反射時，所述第一高光澤度宏觀區(qū)域和所述第二低光澤度宏觀區(qū)域組合以共同形成能夠觀察到的裝飾性圖案。
[0067]實施例18:根據(jù)實施例1至17中任一項所述的基材，其中所述基材包括小于約10%的可見光透射率。
[0068]實施例19:根據(jù)實施例1至17中任一項所述的基材，其中所述基材選自包括小于約4 %、2 %、I %和0.5 %的可見光透射率的基材。
[0069]實施例20:根據(jù)實施例1至19中任一項所述的基材，其中所述聚合物基材的所述聚合物材料包含至少2重量％的遮光劑。
[0070]實施例21:根據(jù)實施例1至20中任一項所述的基材，其中所述聚合物基材的所述聚合物材料包含有效量的至少一種著色劑，使得當(dāng)可見光照射到所述基材的所述第一主側(cè)面上并從所述第一主側(cè)面反射時，所述基材顯示出易于識別的非白色的顏色。
[0071]實施例22:根據(jù)實施例1至21中任一項所述的基材，其中所述基材的所述聚合物材料為半結(jié)晶熱塑性聚合物。
[0072]實施例23:根據(jù)實施例1至22中任一項所述的基材，其中所述基材為帶材背襯。
[0073]實施例24:根據(jù)實施例23所述的基材，所述基材還包含設(shè)置在所述帶材背襯的所述第二主側(cè)面上的壓敏粘合劑。
[0074]實施例25:根據(jù)實施例1至24中任一項所述的基材，其中所述至少一個物理微觀結(jié)構(gòu)為微結(jié)構(gòu)化的手撕圖案。
[0075]實施例26:根據(jù)實施例1至24中任一項所述的基材，其中所述至少一個物理微觀結(jié)構(gòu)為微結(jié)構(gòu)化的液體保持圖案。
[0076]實施例27:根據(jù)實施例1至24中任一項所述的基材，其中所述至少一個物理微觀結(jié)構(gòu)包括微結(jié)構(gòu)化的手撕圖案和微結(jié)構(gòu)化的液體保持圖案，其中所述微結(jié)構(gòu)化的手撕圖案和所述微結(jié)構(gòu)化的液體保持圖案是共延的且相交的。
[0077]實施例28:—種制備聚合物基材的方法，所述聚合物基材具有第一主側(cè)面，所述第一主側(cè)面具有第一高光澤度區(qū)并具有第二模塑紋理化低光澤度區(qū)且具有疊加在所述第一區(qū)和所述第二區(qū)上的至少一個物理微觀結(jié)構(gòu)，所述方法包括:使熔融聚合物擠出物的第一主表面與包括所述第一區(qū)和所述第二區(qū)的陰面以及所述物理微觀結(jié)構(gòu)的陰面的第一模具表面接觸，使得所述擠出物的所述第一主表面抵靠所述第一模具表面模塑，從而形成具有第一主側(cè)面的聚合物基材，所述第一主側(cè)面具有第一高光澤度區(qū)并具有第二模塑紋理化低光澤度區(qū)且具有疊加在所述第一區(qū)和所述第二區(qū)上的至少一個物理微觀結(jié)構(gòu)。
[0078]本領(lǐng)域的技術(shù)人員將顯而易見，本文所公開的具體示例性結(jié)構(gòu)、特征、細節(jié)、配置等在許多實施例中可修改和/或組合。發(fā)明人所設(shè)想的所有此類變型和組合均在所構(gòu)思的發(fā)明的范圍內(nèi)。因此，本發(fā)明的范圍不應(yīng)限于本文所述的特定說明性結(jié)構(gòu)，而應(yīng)至少擴展至由權(quán)利要求的語言所描述的結(jié)構(gòu)以及這些結(jié)構(gòu)的等同形式。如果在本說明書和通過引用而并入本文的任何文件中的公開內(nèi)容之間存在沖突或矛盾之處，則以本說明書為準。
【權(quán)利要求】
1.一種聚合物基材，所述聚合物基材包括具有第一主表面的第一主側(cè)面，所述第一主側(cè)面包括: 第一高光澤度區(qū)；和 第二低光澤度區(qū)，所述第二低光澤度區(qū)包括導(dǎo)致所述第二低光澤度區(qū)具有的光澤度低于所述第一高光澤度區(qū)的光澤度的模塑紋理化表面， 所述第一區(qū)和所述第二區(qū)以預(yù)先確定的圖案設(shè)置在所述第一主表面上； 并且， 其中所述基材的所述第一主側(cè)面還包括疊加在所述第一高光澤度區(qū)上和所述第二低光澤度區(qū)上的至少一個物理微觀結(jié)構(gòu)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基材，其中所述第二低光澤度區(qū)包括小于約10光澤度單位的85度光澤度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基材，其中所述第一高光澤度區(qū)包括大于約40光澤度單位的85度光澤度。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基材，其中所述第二低光澤度區(qū)包括比所述第一高光澤度區(qū)的光澤度低至少約10光澤度單位的85度光澤度。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基材，其中所述第一高光澤度區(qū)包括小于0.05微米的表面粗糙度Ra。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基材，其中所述第二低光澤度區(qū)包括大于0.8微米的表面粗糙度Ra。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基材，其中所述第一高光澤度區(qū)在所述基材的所述第一側(cè)面上共同形成第一高光澤度宏觀區(qū)域，并且其中所述第二低光澤度區(qū)在所述基材的所述第一側(cè)面上共同形成第二低光澤度宏觀區(qū)域； 并且 其中當(dāng)可見光照射到所述基材的所述第一主側(cè)面上并從所述第一主側(cè)面反射時，所述第一高光澤度宏觀區(qū)域和所述第二低光澤度宏觀區(qū)域組合以共同形成能夠在視覺上觀察到的圖案。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的基材，其中當(dāng)可見光照射到所述基材的所述第一主側(cè)面上并從所述第一主側(cè)面反射時，所述第一高光澤度宏觀區(qū)域和所述第二低光澤度宏觀區(qū)域組合以共同形成能夠觀察到的信息標(biāo)記。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的基材，其中所述標(biāo)記包括徽標(biāo)。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的基材，其中所述基材具有縱向軸線并且其中所述標(biāo)記包括至少一個具有長軸線的文本串，所述長軸線相對于所述基材的所述縱向軸線以約20至約70度的角度取向。
11.根據(jù)權(quán)利要求7所述的基材，其中當(dāng)可見光照射到所述基材的所述第一主側(cè)面上并從所述第一主側(cè)面反射時，所述第一高光澤度宏觀區(qū)域和所述第二低光澤度宏觀區(qū)域組合以共同形成能夠觀察到的裝飾性圖案。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基材，其中所述基材包括小于約10%的可見光透射率。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基材，其中所述聚合物基材的所述聚合物材料包含至少2重量％的遮光劑。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基材，其中所述聚合物基材的所述聚合物材料包含有效量的至少一種著色劑，使得當(dāng)可見光照射到所述基材的所述第一主側(cè)面上并從所述第一主側(cè)面反射時，所述基材顯示出易于識別的非白色的顏色。
15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基材，其中所述聚合物基材的所述聚合物材料為半結(jié)晶熱塑性聚合物。
16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基材，其中所述基材為帶材背襯。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的基材，所述基材還包含設(shè)置在所述帶材背襯的所述第二主側(cè)面上的壓敏粘合劑。
18.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基材，其中所述至少一個物理微觀結(jié)構(gòu)為微結(jié)構(gòu)化的手撕圖案。
19.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基材，其中所述至少一個物理微觀結(jié)構(gòu)為微結(jié)構(gòu)化的液體保持圖案。
20.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基材，其中所述至少一個物理微觀結(jié)構(gòu)包括微結(jié)構(gòu)化的手撕圖案和微結(jié)構(gòu)化的液體保持圖案，其中所述微結(jié)構(gòu)化的手撕圖案和所述微結(jié)構(gòu)化的液體保持圖案是共延的且相交的。
21.一種制備聚合物基材的方法，所述聚合物基材具有第一主側(cè)面，所述第一主側(cè)面具有第一高光澤度區(qū)并具有第二模塑紋理化低光澤度區(qū)且具有疊加在所述第一區(qū)和所述第二區(qū)上的至少一個物理微觀結(jié)構(gòu)，所述方法包括: 使熔融聚合物擠出物的第一主表面與包括所述第一區(qū)和所述第二區(qū)的陰面以及所述物理微觀結(jié)構(gòu)的陰面的第一模具表面接觸，使得所述擠出物的所述第一主表面抵靠所述第一模具表面來模塑，從而形成具有第一主側(cè)面的聚合物基材，所述第一主側(cè)面具有第一高光澤度區(qū)并具有第二模塑紋理化低光澤度區(qū)且具有疊加在所述第一區(qū)和所述第二區(qū)上的至少一個物理微觀結(jié)構(gòu)。
【文檔編號】G02B1/04GK104203555SQ201380011227
【公開日】2014年12月10日 申請日期:2013年1月30日 優(yōu)先權(quán)日:2012年2月28日
【發(fā)明者】G·M·克拉克, J·T·巴圖西亞克 申請人:3M創(chuàng)新有限公司