雙面角反射器陣列的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明的微鏡陣列是一種能夠?qū)⒈煌队拔锏溺R像高亮度且鮮明地進(jìn)行投影的角反射器型的微鏡陣列，其中，該微鏡陣列由基板和呈陣列狀形成于基板的多個(gè)單位光學(xué)元件(四棱柱)構(gòu)成，上述各個(gè)單位光學(xué)元件形成為與基板的表面垂直的凸?fàn)罨虬紶睿瑠A著該凸?fàn)顔挝还鈱W(xué)元件或凹狀單位光學(xué)元件的側(cè)面的一個(gè)角部(角)并相互正交的兩個(gè)側(cè)面形成為光反射面，這些光反射面分別形成為基板厚度方向的縱向長(zhǎng)度(h)相對(duì)于基板表面方向的橫向?qū)挾?w)之比(h/w)為1.5以上的長(zhǎng)方形形狀。
【專利說明】雙面角反射器陣列

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及一種利用排列在基板上的、具有相互正交的一對(duì)光反射面的單位光學(xué) 元件來使被投影物的鏡像在空間內(nèi)成像的微鏡陣列。

【背景技術(shù)】
[0002] 作為將三維或二維的物體、圖像等成像于空間內(nèi)的成像光學(xué)元件，開發(fā)有在構(gòu)成 光學(xué)元件的元件面的基板（基盤）上配置多個(gè)"進(jìn)行由一個(gè)以上的鏡面引起的光的反射的 單位光學(xué)元件"而成的微鏡陣列。其中，呈陣列狀排列了多個(gè)凹狀單位光學(xué)元件或凸?fàn)顔挝?光學(xué)元件而成的微鏡陣列由于結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、預(yù)計(jì)制造成本降低，因此近年來受到關(guān)注，該凹狀 單位光學(xué)元件或凸?fàn)顔挝还鈱W(xué)元件具有與該基板垂直或以接近于垂直的角度配置的"相互 正交的兩個(gè)鏡面"（構(gòu)成直角的角的、一對(duì)鄰接的光反射面。即"角反射器"。）（參照專利 文獻(xiàn)1、2)。
[0003] 在該微鏡陣列中，"兩面角反射器陣列"也是利用了下述作用的構(gòu)件：在從上述陣 列的單側(cè)入射的光通過元件面（基板）時(shí)，該光在構(gòu)成各個(gè)單位光學(xué)元件（角反射器）的 一對(duì)光反射面之間反射兩次，該反射兩次后的光（通過光）在上述陣列的相反側(cè)（相對(duì)于 元件面呈面對(duì)稱）的空間位置成像。例如，在為圖4所示的、呈棋盤格狀排列了許多從基板 2 (元件面P)的一個(gè)表面沿其厚度方向突出的透明的凸?fàn)畹恼⒎襟w11 (縱、橫、高度之比 為大約1 :1 :1)而成的凸型角反射器陣列20的情況下，該正立方體11的四個(gè)側(cè)面中的至少 兩個(gè)面（在該例子中為第1側(cè)面11a、第2側(cè)面lib)形成為鏡面（光反射性的側(cè)面），從而 如圖5所示，上述凸型角反射器陣列20能夠在其上方的空間〔即觀察者的視點(diǎn)（空心箭頭 E)側(cè)的空間〕使被投影物的鏡像（反轉(zhuǎn)像）成像為沒有像差的實(shí)像（正立像）。
[0004] 另外，上述凸型角反射器陣列20是基于如上所述的原理而成的構(gòu)件，因此如圖4、 5所示，自上述基板2的表面突出的正立方體11為了使構(gòu)成凸型角反射器的直角的凸角部 (角11c)朝向觀察者的正面（跟前）而被配置為使正立方體11的上表面（上表面的各個(gè) 邊）相對(duì)于觀察者旋轉(zhuǎn)了 45°的狀態(tài)。另外，從觀察者方向觀察，構(gòu)成上述凸型角反射器陣 列20的各個(gè)單位光學(xué)元件（正立方體11)以呈傾斜棋盤格狀排列的方式排列。
[0005] 現(xiàn)有摶術(shù)f獻(xiàn)
[0006] 專利f獻(xiàn)
[0007] 專利文獻(xiàn)1 :國際公開第W02007/116639號(hào)
[0008] 專利文獻(xiàn)2 :日本特開2011 - 191404號(hào)公報(bào)


【發(fā)明內(nèi)容】

[0009] 發(fā)明要解決的問是頁
[0010] 可是，在角反射器型的微鏡陣列中，由于由除"參與成像的光反射面"以外的部位 (在圖4中，為與第1側(cè)面11a、第2側(cè)面lib相對(duì)的"第3側(cè)面（鏡面）lid"和"第4側(cè)面 (鏡面）lie"）進(jìn)行的光反射，通過上述元件面的光有時(shí)產(chǎn)生雜散光（多重反射光）等。 toon] 另外，以往的微鏡陣列由于結(jié)構(gòu)上的制約，能夠用于成像的光量受限，所獲得的成 像（由觀察者觀察到的鏡像）有可能較暗且不鮮明。此處存在改進(jìn)的余地。
[0012] 本發(fā)明是鑒于這種情況而做成的，其目的在于提供一種能夠?qū)⒈煌队拔锏溺R像高 亮度且鮮明地進(jìn)行投影的角反射器型的微鏡陣列。
[0013] 用于解決問題的方案
[0014] 為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明的微鏡陣列采用如下結(jié)構(gòu)：該微鏡陣列由平板狀的基 板和多個(gè)呈陣列狀形成于該基板的單位光學(xué)元件構(gòu)成，用于使配置于上述基板的一個(gè)面?zhèn)?的被投影物的鏡像成像在與上述一個(gè)面相反的那一側(cè)的另一個(gè)面?zhèn)鹊目臻g內(nèi)，其中，上述 各個(gè)單位光學(xué)元件形成為與上述基板的表面垂直的凸?fàn)罨虬紶?，夾著該凸?fàn)畹膯挝还鈱W(xué)元 件或凹狀的單位光學(xué)元件的側(cè)面的角部的、相互正交的兩個(gè)側(cè)面形成為光反射面，這些光 反射面分別形成為基板厚度方向的縱向長(zhǎng)度相對(duì)于基板表面方向的橫向?qū)挾戎葹?. 5 以上的長(zhǎng)方形形狀。
[0015] 本發(fā)明人著眼于在以往的角反射器型的微鏡陣列中、其投影圖像有時(shí)變暗的情 況。而且，推測(cè)上述"變暗"現(xiàn)象的原因會(huì)不會(huì)與供透過元件面的光一次次（合計(jì)兩次）反 射的鏡面（光反射面）的面積有關(guān)，并反復(fù)進(jìn)行了研究。其結(jié)果，本發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，為了使光 反射面的反射光量增大，該光反射面的縱橫比（縱向長(zhǎng)度（元件面厚度方向的長(zhǎng)度）/橫向 寬度（元件面方向的寬度）之比〕是很重要的，將在以往的正立方體狀（縱橫比大約為1) 的角反射器中只有"1左右"的上述縱橫比設(shè)為"1. 5以上"而使其有效光反射面積增大，從 而參與上述成像的光的量增加，能夠獲得亮度高且鮮明的成像（鏡像），獲得了本發(fā)明。
[0016] 發(fā)明的效果
[0017] 像以上那樣，構(gòu)成本發(fā)明的微鏡陣列的各個(gè)單位光學(xué)元件是具有相互正交的兩個(gè) 光反射面（側(cè)面）的角反射器，該各個(gè)光反射面形成為"基板厚度方向的縱向長(zhǎng)度相對(duì)于基 板表面方向的橫向?qū)挾戎?（即"縱橫比"）為1.5以上的長(zhǎng)方形形狀。因此，本發(fā)明的微 鏡陣列的由上述各個(gè)光反射面（一次次）反射并透過到元件面的相反側(cè)的光的量（參與成 像的光的量）增加。由此，本發(fā)明的微鏡陣列與以往的微鏡陣列相比，能夠形成亮度高且鮮 明的被投影物的鏡像。
[0018] 另外，在本發(fā)明的微鏡陣列中，也特別是上述單位光學(xué)元件的各個(gè)光反射面分別 形成為基板厚度方向的縱向長(zhǎng)度相對(duì)于基板表面方向的橫向?qū)挾戎葹?. 5?5. 0的長(zhǎng)方 形形狀的技術(shù)方案能夠形成亮度更高且更鮮明的被投影物的鏡像。
[0019] 另外，在上述各個(gè)單位光學(xué)元件中的光反射面（側(cè)面）的"基板厚度方向的縱向長(zhǎng) 度相對(duì)于基板表面方向的橫向?qū)挾戎?（縱橫比）小于1. 5的情況下，存在上述被投影物 的鏡像變暗且不鮮明的傾向。另外，若上述縱橫比超過5. 0,則發(fā)現(xiàn)存在難以獲得亮度的提 高效果的傾向。其理由雖不確定，但是推測(cè)是不是由于雜散光等的增加而使鏡像變得不鮮 明。而且，縱橫比超過5. 0時(shí)，存在形狀加工較難、且加工精度易于降低的傾向。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0020] 圖1是表示本發(fā)明的實(shí)施方式中的微鏡陣列的表面結(jié)構(gòu)的立體圖。
[0021] 圖2是本發(fā)明的實(shí)施方式的微鏡陣列中的單位光學(xué)元件的排列方向的局部剖視 圖。
[0022] 圖3是說明本發(fā)明的實(shí)施例中的鏡像的亮度的測(cè)量方法的示意圖。
[0023] 圖4是表示以往的微鏡陣列的表面結(jié)構(gòu)的立體圖。
[0024] 圖5是說明微鏡陣列的鏡像的成像方式的示意圖。

【具體實(shí)施方式】
[0025] 接著，基于附圖詳細(xì)說明本發(fā)明的實(shí)施方式。
[0026] 圖1是表示本發(fā)明的實(shí)施方式中的微鏡陣列的表面結(jié)構(gòu)的立體圖，圖2是表示上 述微鏡陣列中的單位光學(xué)元件的側(cè)面（截面）形狀的、單位光學(xué)元件的排列方向的局部剖 視圖。
[0027] 如圖1所示，本實(shí)施方式中的微鏡陣列（10)是由平板狀的基板2和呈陣列狀形成 于該基板2(元件面P)的一個(gè)表面（上表面）的多個(gè)凸?fàn)顔挝还鈱W(xué)元件（長(zhǎng)方體狀的四 棱柱1)構(gòu)成的凸型角反射器陣列10。而且，在上述各個(gè)四棱柱1中，構(gòu)成角反射器的一對(duì) (兩個(gè)）光反射面（四棱柱1側(cè)方的第1側(cè)面la、第2側(cè)面lb)分別形成為"基板厚度方向 的縱向長(zhǎng)度（高度h)相對(duì)于基板表面方向的橫向?qū)挾龋▽挾葁)之比"〔以下，稱作"縱橫 比（h/w) "〕為1. 5以上的長(zhǎng)方形形狀。這是本發(fā)明的凸型角反射器陣列10的特征。
[0028] 進(jìn)一步詳細(xì)地說明上述凸型角反射器陣列10,如圖2的剖視圖所示，基板2與各個(gè) 四棱柱1(長(zhǎng)方體狀）使用透明的樹脂一體成形。作為在該陣列10中使用的樹脂，選擇例 如丙烯酸系樹脂等的、借助于熱量等成形加工較容易（熱塑性樹脂）的、且成形后的光學(xué)元 件的可見光透過率為80%以上的樹脂。另外，在成形加工中，采用了借助于模具的鑄造、在 成形為平板狀之后實(shí)施切削（切割等）的方法等，其中，優(yōu)選采用切割。在此，切割是指使 用了切割鋸（切刀）的雕刻加工，優(yōu)選采用特別是使用圓形的旋轉(zhuǎn)刀來在基材上挖出直線 狀的槽的加工方法。
[0029] 上述基板2是用于呈陣列狀配置上述各個(gè)四棱柱1 (單位光學(xué)元件）的支承體，通 常是具有恒定厚度的平坦的板狀（厚度〇. 5_?10. 0_左右），構(gòu)成了光學(xué)元件的元件面 (在圖中為附圖標(biāo)記P)。另外，該基板2也如上所述由成形后的可見光透過率為80%以上 的透明的樹脂材料形成。
[0030] 上述各個(gè)四棱柱1(單位光學(xué)元件）是自上述基板2的一個(gè)表面呈凸?fàn)钔怀龅?、縱 向較長(zhǎng)的正四棱柱狀（筒狀），其各個(gè)側(cè)面（第1側(cè)面la、第2側(cè)面lb以及與此相對(duì)的第 3側(cè)面Id、第4側(cè)面le)形成為與上述基板2的表面（在圖中為上表面）垂直或以接近于 垂直的角度（90° ±1.0°左右）立起。另外，該四棱柱1的各個(gè)側(cè)面中的、構(gòu)成一個(gè)角部 (圖中的角lc)的兩個(gè)側(cè)面（第1側(cè)面la和第2側(cè)面lb)的外側(cè)表面（和對(duì)應(yīng)的內(nèi)側(cè)面） 成為光反射性的鏡面，該角lc成為角反射器。
[0031] 另外，這些光反射性的側(cè)面（上述第1側(cè)面la、第2側(cè)面lb)為了提高光反射效 率而期望通過研磨等鏡面加工來提高平滑度。另外，為了提高上述第1側(cè)面la和第2側(cè)面 lb的光反射效率，也可以在其外側(cè)表面上形成光反射性的覆膜（金屬覆膜等）。
[0032] 另外，如上所述，上述四棱柱1的各個(gè)光反射面（第1側(cè)面la和第2側(cè)面lb)分 別形成為上述縱橫比（h/w)為1.5以上的長(zhǎng)方形。而且，該第1側(cè)面la和第2側(cè)面lb的 高度h ( S卩，上述四棱柱1的自基板2突出的突出量）通常設(shè)定為200 μ m以上，優(yōu)選設(shè)定為 250 μ m以上，進(jìn)一步優(yōu)選設(shè)定為300 μ m以上，通過擴(kuò)大該第1側(cè)面la和第2側(cè)面lb的面 積，能夠使上述四棱柱1 (單位光學(xué)元件）更多地反射從下表面或上表面入射的光并使其向 相反側(cè)反射（透過）。另外，上述各個(gè)光反射面（第1側(cè)面la和第2側(cè)面lb)的縱橫比（h/ w)通常期望為1. 5以上，優(yōu)選為2. 0以上，進(jìn)一步優(yōu)選為2. 5以上，但是若考慮到上述四棱 柱1 (單位光學(xué)元件）的加工性、加工精度等，則優(yōu)選的是其最大值抑制為5. 0以下。
[0033] 另外，上述凸型角反射器陣列10中的各個(gè)四棱柱1的各側(cè)面的寬度w通常設(shè)定為 50 μ m?300 μ m，相鄰的四棱柱1彼此的間隔s通常設(shè)定為10 μ m?200 μ m。另外，各個(gè)四 棱柱1的各個(gè)側(cè)面的寬度w-般是越窄越能夠高精度地成像，但是由于參與光反射的側(cè)面 (鏡面）的各自的面積也變小，因此存在整體能夠反射的光量減少、且鏡像的亮度也降低的 傾向。
[0034] 另外，未參與從上述凸型角反射器陣列10的下表面或上表面入射的光的反射的、 各個(gè)四棱柱1的第3側(cè)面Id、第4側(cè)面le在本例的情況下成為難以反射光的（未進(jìn)行全反 射的）粗糙面。另外，這些未參與光的反射的面（第3側(cè)面Id、第4側(cè)面le)并不特別限定 于粗糙面，也可以是鏡面（光反射面）。
[0035] 根據(jù)上述凸型角反射器陣列10,構(gòu)成角反射器的上述第1側(cè)面la和第2側(cè)面lb 分別形成為縱橫比（h/w)為1.5以上的光反射面（鏡面），從而由這些光反射面反射并向元 件面P的相反側(cè)透過的光的量增加。由此，本實(shí)施方式中的凸型角反射器陣列10與使用了 正立方體狀（縱橫比=1)的單位光學(xué)元件的以往的凸型角反射器陣列（20)相比，能夠使 亮度高且鮮明的被投影物的鏡像成像。
[0036] 另外，在上述實(shí)施方式中，構(gòu)成凸型角反射器陣列10的各個(gè)單位光學(xué)元件的形狀 示出了高度h為200 μπι以上且高度h/橫向?qū)挾萕(縱橫比）為1.5以上的正四棱柱1(長(zhǎng) 方體狀）的例子，但是本發(fā)明的各個(gè)單位光學(xué)元件只要是構(gòu)成角反射器的第1側(cè)面la和第 2側(cè)面lb均使"縱橫比（h/w)為1. 5以上（或者1. 5?5. 0) "即可，未參與鏡像的成像的 其他面的形狀能夠任意地設(shè)定。例如，既可以將四棱柱1的上表面（頂面）形成為傾斜狀 并將上述第3側(cè)面Id和第4側(cè)面le形成為梯形狀，也可以將該第3側(cè)面Id和第4側(cè)面le 形成為合為一體而成的三棱柱狀。
[0037] 另外，在上述實(shí)施方式中，構(gòu)成凸型角反射器陣列10的各個(gè)單位光學(xué)元件示出了 在基板2上的全部區(qū)域中為同一形狀〔縱橫比（h/w)為1.5以上〕的例子，但是未必必須將 上述基板2上的所有單位光學(xué)元件全部形成為相同的形狀。例如，也可以形成為：使位于上 述基板2的周緣部的一部分單位光學(xué)元件（四棱柱狀）的縱橫比（h/w)小于1. 5的凸型角 反射器陣列、使上述正四棱柱狀的單位光學(xué)元件（1)與上述三棱柱狀的單位光學(xué)元件混合 而成的凸型角反射器陣列；將各個(gè)單位光學(xué)元件的一部分或全部設(shè)為凹狀角反射器而成的 凹型角反射器陣列等。本發(fā)明也包括將基板（元件面）上的各個(gè)單位光學(xué)元件中的一部分 形成為"具有縱橫比（h/w)為1.5以上的一對(duì)光反射面（側(cè)面）的角反射器"的形態(tài)。
[0038] 接著，與比較例一起說明制作了上述凸型角反射器陣列的實(shí)施例。但是，本發(fā)明并 不限定于以下實(shí)施例。
[0039] 實(shí)施例
[0040] 在以下實(shí)施例1中，使用透明的壓克力板來制作單位光學(xué)元件的"基板厚度方向 的高度（h)相對(duì)于基板表面方向的橫向?qū)挾龋╳)之比"（縱橫比）不同的、數(shù)種凸型角反射 器陣列（實(shí)施例1?實(shí)施例7和比較例1)，比較了使用這些凸型角反射器陣列對(duì)顯示于液 晶顯示器（LCD)的預(yù)定的圖像進(jìn)行投影時(shí)的鏡像（空間圖像）的明亮度（亮度）。另外，在 本實(shí)施例中，上述單位光學(xué)元件為與基板垂直的正四棱柱（長(zhǎng)方體），因此各個(gè)"光反射面 的縱橫比"與上述單位光學(xué)元件的縱橫比相同，用h/w表示。
[0041] 首先，準(zhǔn)備壓克力板，通過切割（切削）制作出實(shí)施例1?實(shí)施例7和比較例1的 凸型角反射器陣列。
[0042][壓克力板]
[0043] 丙烯酸系樹脂制基板（平板）：50mm X 50mm X厚度2mm
[0044] [凸型角反射器陣列的制作]
[0045] 將上述壓克力板粘貼并固定于粘合帶（切割帶：日東電工公司制，二b 7 7亍一 7)，在該狀態(tài)下，將上述壓克力板固定體設(shè)置于切割裝置（DISCO公司制）的卡盤臺(tái)。然后， 在后述的[切割條件]所示的條件下，呈預(yù)定的格子狀雕刻（挖出）深度100 μ m?350 μ m 的槽（根據(jù)實(shí)施例和比較例而不同的、相當(dāng)于上述正四棱柱的高度（突出量）和"光反射面 的高度h")，獲得如圖1所示的、實(shí)施例1?實(shí)施例7和比較例1的凸型角反射器陣列。所 獲得的凸型角反射器陣列的單位光學(xué)元件（光反射面）的"高度h"與"寬度w"以及縱橫 比（h/w)如后述的"表1"所示。
[0046] 另外，將縱橫比（h/w)為"1"的立方體狀單位光學(xué)元件（相當(dāng)于圖4的以往例）作 為"比較例1"的樣品。另外，使用顯微鏡（基恩士公司制，VHX - 200)和激光顯微鏡（基恩 士公司制，VK - 9700)對(duì)所制作的凸型角反射器陣列進(jìn)行觀察、測(cè)量后，各個(gè)單位光學(xué)元件 (正四棱柱）中的上表面的正方形的一邊（相當(dāng)于"光反射面的橫向?qū)挾葁"）為100 μ m， 相鄰的各個(gè)單位光學(xué)元件之間的距離s為30 μ m。
[0047] [切割條件]
[0048] ?切割刀片（DISCO 公司制，NBC - Z2050)厚度 25 μ m
[0049] ?測(cè)桿轉(zhuǎn)速：30000rpm
[0050] ?臺(tái)輸送速度：3. Omm/sec
[0051] ?冷卻：噴淋式冷卻器（水）lL/min，噴淋式噴嘴（水）0· 5L/min
[0052] [鏡像（空間圖像）的明亮度測(cè)量]
[0053] 將所獲得的實(shí)施例1?實(shí)施例7和比較例1的凸型角反射器陣列（10)像圖3那 樣水平設(shè)置，在其下側(cè)的預(yù)定位置以傾斜45°的狀態(tài)配置LCD。然后，使預(yù)定亮度的評(píng)價(jià)用 圖像（lcmX lcm見方的白色）顯示于上述IXD，從距鏡像50cm的上方以正對(duì)鏡像朝向下方 45°的角度測(cè)量利用元件面P投影在與上述LCD成面對(duì)稱的空間位置的鏡像（在圖中用虛 線表示）的明亮度（亮度）。另外，上述鏡像的明亮度的測(cè)量在暗室中進(jìn)行。另外，鏡像的 明亮度的測(cè)量使用了亮度計(jì)（拓普康公司制，BM - 9)。
[0054] [鏡像（文字）的可視性評(píng)價(jià)]
[0055] 緊接著上述"鏡像的明亮度測(cè)量"，以相同的配置（參照?qǐng)D3)使預(yù)定亮度的評(píng)價(jià)用 圖像（在白色的背景上顯示一個(gè)文字即2mmX2mm見方的黑色的文字"日東電工"明朝體） 顯示于上述IXD，從距鏡像50cm的上方以正對(duì)鏡像朝向下方45°的角度目視觀察利用元件 面P投影在與上述LCD成面對(duì)稱的空間位置的鏡像（在圖中用虛線表示）。另外，上述鏡像 的可視性評(píng)價(jià)在室內(nèi)熒光燈下（300勒克斯以上）進(jìn)行。另外，在評(píng)價(jià)中，將能夠目視確認(rèn) 文字的情況表示為"〇"，將無法目視確認(rèn)的情況表示為" X "。
[0056] 將上述測(cè)量結(jié)果表示在以下"表1"中。
[0057] [表 1]
[0058]

【權(quán)利要求】
1. 一種微鏡陣列，其由平板狀的基板和多個(gè)呈陣列狀形成于該基板的單位光學(xué)元件構(gòu) 成，用于使配置于上述基板的一個(gè)面?zhèn)鹊谋煌队拔锏溺R像成像在與上述一個(gè)面相反的那一 側(cè)的另一個(gè)面?zhèn)鹊目臻g內(nèi)，其特征在于， 上述各個(gè)單位光學(xué)元件形成為與上述基板的表面垂直的凸?fàn)罨虬紶?，夾著該凸?fàn)畹?單位光學(xué)元件或凹狀的單位光學(xué)元件的側(cè)面的角部的、相互正交的兩個(gè)側(cè)面形成為光反射 面，這些光反射面分別形成為基板厚度方向的縱向長(zhǎng)度相對(duì)于基板表面方向的橫向?qū)挾戎?比為1. 5以上的長(zhǎng)方形形狀。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的微鏡陣列，其特征在于， 上述單位光學(xué)元件的各個(gè)光反射面分別形成為基板厚度方向的縱向長(zhǎng)度相對(duì)于基板 表面方向的橫向?qū)挾戎葹?. 5?5. 0的長(zhǎng)方形形狀。
【文檔編號(hào)】G02B27/24GK104160304SQ201380011206
【公開日】2014年11月19日 申請(qǐng)日期:2013年2月6日 優(yōu)先權(quán)日:2012年2月29日
【發(fā)明者】十二紀(jì)行, 長(zhǎng)藤昭子 申請(qǐng)人:日東電工株式會(huì)社