技術(shù)特征：
1.一種提高疊對測量精度的方法，采用疊對測量機臺對量測圖形進行量測，其特征在于，包括：步驟S01：在晶圓上設(shè)置輔助定位圖形；所述輔助定位圖形包括第一層圖形和相對于所述第一層圖形具有一定偏移量的第二層圖形，輔助定位圖形的間距尺寸小于量測圖形的間距尺寸；步驟S02：采用疊對測量機臺對所述晶圓進行粗對準；步驟S03：對所述晶圓進行精對準；步驟S04：尋找輔助定位圖形；其中，通過疊對測量機臺對所述晶圓進行疊對測量強度的檢測；輔助定位圖形中，則有As＝K×Ov，K為斜率，Ov為疊對測量精度；由于輔助定位圖形的間距尺寸小于量測圖形的間距尺寸，能夠提高斜率K值，從而提高輔助定位圖形的疊對測量強度，這樣便于定位到量測圖形；步驟S05：利用所述輔助定位圖形作為基準，尋找量測圖形進行測量。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的提高疊對測量精度的方法，其特征在于，所述輔助定位圖形的設(shè)置方法包括：步驟S11：經(jīng)光刻和刻蝕，在所述晶圓上形成沒有偏移量的第一層圖形；步驟S12：通過特定制程固定所述的第一層圖形；步驟S13：經(jīng)光刻和刻蝕，在所述第一層圖形上部形成有固定偏移量的第二層圖形。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的提高疊對測量精度的方法，其特征在于，所述輔助定位圖形到所述量測圖形的距離不大于100um。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的提高疊對測量精度的方法，其特征在于，所述輔助定位圖形為具有周期性排列的條狀圖形。5.根據(jù)權(quán)利要求1、2或4所述的提高疊對測量精度的方法，其特征在于，所述輔助定位圖形的占空比為50％。6.根據(jù)權(quán)利要求1、2或4所述的提高疊對測量精度的方法，其特征在于，所述輔助定位圖形包含所述的第一層圖形和所述的第二層圖形。7.根據(jù)權(quán)利要求1、2或4所述的提高疊對測量精度的方法，其特征在于，所述輔助定位圖形的間距尺寸為所述量測圖形的間距尺寸3/4-4/5。8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的提高疊對測量精度的方法，其特征在于，所述第一層圖形和所述第二層圖形之間不接觸。9.根據(jù)權(quán)利要求2所述的提高疊對測量精度的方法，其特征在于，所述的第二層圖形相對于所述第一層圖形的水平偏移量為正值。10.根據(jù)權(quán)利要求2所述的提高疊對測量精度的方法，其特征在于，所述的第二層圖形相對于所述第一層圖形的水平偏移量為負值。