用于吸附待處理物件的真空吸盤中的緩沖片的制作方法
【專利摘要】公開了一種用于吸附待處理物件的真空吸盤中的緩沖片。本發(fā)明的緩沖片結(jié)合至吸附和固定待處理物件的真空吸盤的上面，并且包括無紡片以及含有碳納米管的ESD涂層，該ESD涂層在無紡片上以使待處理物件被安裝。根據(jù)本發(fā)明，由于施用了包含具有導電性的碳納米管的ESD涂層，因此抗靜電效果優(yōu)異。
【專利說明】用于吸附待處理物件的真空吸盤中的緩沖片
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]實施方式涉及一種緩沖片，更具體地涉及用于支持平面顯示板、半導體晶片等中的工件的真空吸盤的緩沖片。
【背景技術(shù)】
[0002]一般來說，可以在對用于顯示裝置(廣泛用于筆記本電腦、臺式電腦、和電視)的玻璃基板進行精確切割操作或精確噴涂操作中無需移動的情況下固定玻璃基板的位置。此夕卜，可以在對半導體晶片進行精確切割操作或精確噴涂操作中無需移動的情況下固定半導體晶片的位置。
[0003]真空支持的方法一般用于固定工件如玻璃基板或半導體晶片。該方法是利用真空吸盤3以如將在圖1中所示的真空支持的方式來固定工件4。在此，在真空吸盤3的表面上形成通風孔I以支持工件4，其中通風孔I經(jīng)由吸入孔2接受負壓和靜壓。
[0004]也就是說，工件4置于真空吸盤3的通風孔I上并且通過與吸入孔2連接的真空泵(未示出)減壓，使得真空吸盤3的內(nèi)部可以成為減壓狀態(tài)以在無需移動的情況下固定工件4。
[0005]順便說明，常規(guī)的真空吸盤3由硬質(zhì)材料如金屬制造，其可能會通過接觸而對工件4如玻璃造成損傷。此外，包括工件4在內(nèi)的電子商品可能會因在工件4和真空吸盤3之間產(chǎn)生的靜電而損壞和具有高剝離電壓。
[0006]為了解決這些問題，可以在真空吸盤3和工件4之間插入緩沖片5。當支持工件4時，緩沖片5吸收震動，使得工件不會損壞。此外，緩沖片5具有導電性，因此其防止因靜電造成的損傷并降低剝離電壓。緩沖片5是多孔材料，因此當被真空吸盤支持時工件可以保持其支持力，并且真空吸盤的通風孔不會被在LCD制造期間產(chǎn)生的異物堵塞。此外，緩沖片5的周期性更換可以比較簡單。
[0007]常規(guī)的緩沖片5由橡膠片制造。然而，橡膠片摩擦系數(shù)大。因此，當在加工中或加工后轉(zhuǎn)移工件時操作效率可能較差。此外，橡膠孔隙率差，因此難以支持工件。為了解決這些問題，可以將聚乙烯粉末的燒制多孔膜有機體(organizer) (sunmap, NITTO DENKOC0.LTD.)用于緩沖片5。該膜是多孔的以使來自真空吸盤的支持力傳遞至工件，而且摩擦系數(shù)也低。
[0008]然而，由于其材料的性質(zhì)，聚乙烯膜可能不具有導電性。因此，需要單獨加入導電材料以防止與玻璃基板的靜電。但是，常規(guī)的緩沖片具有約lOlhm/sq的電阻，其不足以抗靜電。此外，聚乙烯膜較昂貴并且通風性能低。

【發(fā)明內(nèi)容】

_9] 本發(fā)明的技術(shù)目的
[0010]本發(fā)明構(gòu)思提供了用于一種具有優(yōu)良的支持工件的吸附力以及優(yōu)良的抗靜電效果的真空吸盤的緩沖片。[0011]本發(fā)明構(gòu)思還提供了一種用于材料廉價且操作效率優(yōu)異的真空吸盤的緩沖片。
[0012]本發(fā)明的技術(shù)方案
[0013]根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的示例性實施方式，用于真空吸盤的緩沖片結(jié)合至通過支持來固定工件的真空吸盤的上表面上。工件設(shè)置于緩沖片上。緩沖片包括無紡布片和ESD涂層。ESD涂層包括碳納米管并且設(shè)置于無紡布片上。
[0014]無紡布片可以包括聚乙烯和聚對苯二甲酸乙二醇酯。在此，無紡布片可以由被低密度聚乙烯包封的聚對苯二甲酸乙二醇酯單元組形成。
[0015]在無紡布片和ESD層之間可以進一步包括底層(primer layer)以提高ESD涂層的粘附力。
[0016]ESD層通過施加CNT涂覆溶液形成。CNT涂覆溶液包括溶劑。CNT涂覆溶液包括與溶劑混合的苯氧基、丙烯基氨基甲酸酯分散體(AUD)、羧基改性的乙烯基共聚物、水性聚氨酯、聚酯、和聚乙烯醇縮丁醛中的至少一種樹脂。此外，CNT涂覆溶液還包括碳納米管。在此，樹脂可以占CNT涂覆溶液的10重量％至20重量％，并且碳納米管可以占CNT涂覆溶液的0.1重量％至0.5重量％。
[0017]與此同時，ESD涂層的表面電阻可以是106ohm/sq至108ohm/sq。
[0018]本發(fā)明的技術(shù)效果
[0019]通過施加包括碳納米管的ESD涂層，根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的示例性實施方式的用于支持工件的真空吸盤的緩沖片具有優(yōu)良的抗靜電效果。
[0020]此外，使用多孔氈以使真空吸盤的支持力可以極好地傳遞至工件，并且可以降低成本。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0021]根據(jù)以下與附圖結(jié)合的詳細說明，將會更清楚地理解本發(fā)明構(gòu)思的示例性實施方式，在附圖中:
[0022]圖1是常規(guī)的支持工件的真空吸盤的截面示意圖；
[0023]圖2是根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的示例性實施方式的用于支持工件的真空吸盤的緩沖片的截面圖；
[0024]圖3是根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的另一種示例性實施方式的用于支持工件的真空吸盤的緩沖片的截面圖；以及
[0025]圖4是對示例性實施方式和比較實施方式之間的抗剝離電荷進行對比的圖表?！揪唧w實施方式】
[0026]在下文中將參考附圖對多種實例實施方式進行更全面的描述，在附圖中示出了一些實例實施方式。
[0027]圖1是根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的示例性實施方式的用于支持工件的真空吸盤的緩沖片100的截面圖。如在圖2中所示的，緩沖片100包括無紡布片110和ESD涂層130。
[0028]緩沖片100結(jié)合至通過支持固定工件的真空吸盤3的上表面上。工件設(shè)置于緩沖片100上。在對用于液晶顯示器的玻璃基板或半導體晶片進行精確切割操作或精確噴涂操作中，以及在對偏振板和延遲板、或那些具有玻璃基板的板進行結(jié)合操作中，真空吸盤表現(xiàn)出支持與固定工件的功能。
[0029]無紡布片110是通過以平行方向或不確定方向排列纖維并利用合成樹脂將它們粘合而制造的氈形片。
[0030]無紡布材料具有由微細纖維形成的多孔結(jié)構(gòu)，使得可以將由真空吸盤提供的壓力傳遞至工件。此外，氈具有疏松的高密度結(jié)構(gòu)，其易于形成熱并且價格便宜。
[0031]ESD涂層130涂覆于無紡布片110上并且由碳納米管131組成。
[0032]ESD涂層130是通過在無紡布片110上施加CNT涂覆溶液形成的。
[0033]在此，CNT涂覆溶液包括通過混合乙醇和去離子水形成的溶劑。此外，可以將苯氧基、丙烯基氨基甲酸酯分散體(AUD)、羧基改性的乙烯基共聚物、水性聚氨酯、聚酯、和聚乙烯醇縮丁醛中的至少一種樹脂以及導電性碳納米管131與溶劑混合以形成CNT涂覆溶液。
[0034]水性聚氨酯可以使用，例如，Sancure ?12954或Sancure?898。聚酯可以使用，例如，Vylon200、305，并且聚乙烯醇縮丁醛可以使用BM_2、60H、08HX。
[0035]放入溶液中的樹脂可以占CNT涂覆溶液的5wt%至30wt%。如果放入的樹脂量低于5wt%，則CNT涂覆溶液的粘附力弱，并且碳納米管的混合與分散不均勻。此外，如果放入的樹脂量高于30wt%，則盡管CNT涂覆溶液的粘附力增加但是粘度變高并且揮發(fā)性變差，因此操作效率降低。
[0036]放入溶液中的碳納米管可以占CNT涂覆溶液的0.lwt%至5wt%。碳納米管的放入量低于0.lwt%可以導致滑片10的導電性能降低。反之，碳納米管的放入量高于5.0被％可以由于增加了用于制造滑片10的時間和成本而降低經(jīng)濟可行性?？紤]到降低成本，相比于使用單壁碳納米管，優(yōu)選使用多壁碳納米管。
[0037]碳納米管具有優(yōu)良的導電性。因此，控制包括碳納米管的緩沖片100防止產(chǎn)生靜電，因此工件如LCD板容易脫落，此后操作過程變得更快。此外，碳納米管不易被污染。
[0038]在此，放入溶液的乙醇可以占CNT涂覆溶液的30wt%至45wt%，并且放入的去離子水可以占CNT涂覆溶液的30wt%至45wt%。將碳納米管施加至以上物質(zhì)作為導電材料并且混合至溶劑中以制備CNT涂覆溶液。因為致癌物的揮發(fā)可能性低，所以產(chǎn)品的制造過程和使用是相對安全的。
[0039]在CNT涂覆溶液中放入少量的勻涂劑和消光劑。勻涂劑有助于待施加的CNT涂覆溶液變薄變平，例如，可以按CNT涂覆溶液的0.01wt%至0.5wt%放入勻涂劑如Dynol ?604和 607。
[0040]無紡布片110包括聚乙烯(PE)和聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)。無紡布片110發(fā)射基材并且通過利用熱量的自粘合而形成網(wǎng)。
[0041]更希望的是，無紡布片110由被低密度聚乙烯包封的聚對苯二甲酸乙二醇酯單元結(jié)構(gòu)組形成。
[0042]在無紡布片110和ESD涂層130之間插入底層120。底層120用于提高ESD涂層130的粘附力并且是通過將涂底劑施加至無紡布片并使涂底劑硬化而形成的，其中涂底劑是通過將氯化聚烯烴和改性橡膠混合至油溶液而形成的。溶液可以是通過混合甲苯和二甲苯形成的。
[0043]可以將噴涂、沉淀、凹版涂覆、輥涂、旋涂等用于ESD涂層130的涂覆方法。
[0044]例如，在凹版涂覆方法中，可以使用具有通過加工普通金屬輥可接受墨水的適合深度和數(shù)量的詳細線條樣式的袋。在旋轉(zhuǎn)處于浸泡在填充有期望墨水的容器中的狀態(tài)下的金屬輥時，利用墨水填充袋，然后將織物放在其上并在利用其它輥壓制的同時壓制織物。
[0045]可以在無紡布片110上以適合的次數(shù)重復涂覆ESD涂層130。因此，可以調(diào)節(jié)ESD涂層130的導電性。在此，優(yōu)選地將ESD涂層的電阻調(diào)節(jié)為106ohm/sq至108ohm/sq。如果電阻小于106ohm/Sq，則緩沖片100可能是不能用于防止靜電的導電材料，并且如果電阻大于108ohm/sq,則緩沖片100的抗靜電效果可能會降低。
[0046]可以在無紡布片110的被工件粘附的一面上形成ESD涂層130。也可以在無紡布片110的兩面上形成ESD涂層130。優(yōu)選的是在無紡布片110的被工件粘附的一面上形成ESD涂層130，因為無紡布片110的另一面將與真空吸盤結(jié)合，因此，其不必具有抗靜電效果,并且成本較低。
[0047]圖3是根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的另一種示例性實施方式的用于支持工件的真空吸盤的緩沖片200的截面圖。參照圖3，緩沖片200包括無紡布片110、在無紡布片110的至少一面上形成的經(jīng)電暈處理的層220、和在經(jīng)電暈處理的層220上形成的包括碳納米管的ESD涂層 130。
[0048]無紡布片110和ESD涂層130的材料和結(jié)構(gòu)與圖1的無紡布片和ESD涂層的材料和結(jié)構(gòu)相同，因此,此處將省略重復的解釋。電暈處理是一種通過在放電電極和輥之間施加高頻和高壓輸出來產(chǎn)生電暈放電以及通過在產(chǎn)生的電暈放電下通過材料來對材料進行表面處理的方法。經(jīng)電暈處理的層220提高了 CNT涂覆溶液的粘附力、改善了涂斑、并且降低了層狀ESD涂層130的厚度。
[0049]在下文中將通過詳細的實驗來詳細地描述本發(fā)明。
[0050]作為如在圖1中所示的緩沖片100的示例性實施方式，通過混合作為水溶劑的41.86wt%的乙醇、作為水溶劑的42.5wt%的去離子水、作為勻涂劑的0.04wt%的Dynol?604U5.0wt%的水性聚氨酯Sancure?898、和0.6wt%的多壁碳納米管來形成CNT涂覆溶液，并且施加和硬化CNT涂覆溶液以形成ESD涂層130。ESD涂層130涂覆于無紡布片110上，并且對示例性的產(chǎn)品進行了性能實驗。
[0051]作為比較實施方式，使用了由聚乙烯粉末的燒制多孔膜有機體(sunmap, NITTODENKO C0.LTD.)組成的膜。
[0052]試驗結(jié)果如下:
[0053][表 I]
【權(quán)利要求】
1.一種用于支持工件的真空吸盤的緩沖片，包括: 無紡布片；以及 在所述無紡布片上的包括碳納米管的ESD涂層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于支持工件的真空吸盤的緩沖片，其中所述無紡布片包括聚乙烯和聚對苯二甲酸乙二醇酯。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于支持工件的真空吸盤的緩沖片，其中所述無紡布片由被低密度聚乙烯包封的聚對苯二甲酸乙二醇酯的單元組形成。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3所述的用于支持工件的真空吸盤的緩沖片，其中在所述無紡布片和所述ESD涂層之間進一步包括底層以提高所述ESD涂層的粘附力。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至3所述的用于支持工件的真空吸盤的緩沖片，其中所述ESD涂層通過施加CNT涂覆溶液形成，所述CNT涂覆溶液包括溶劑，與所述溶劑混合的苯氧基、丙烯基氨基甲酸酯分散體(AUD)、羧基改性的乙烯基共聚物、水性聚氨酯、聚酯、和聚乙烯醇縮丁醛中的至少一種樹脂，以及碳納米管， 其中所述樹脂占所述CNT涂覆溶液的5wt%至30wt%，所述碳納米管占所述CNT涂覆溶液的 0.lwt% 至 0.5wt%。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至3所述的用于支持工件的真空吸盤的緩沖片，其中所述ESD涂層的表面電阻是106ohm/sq至108ohm/sq。
【文檔編號】G02F1/13GK103608912SQ201280028646
【公開日】2014年2月26日 申請日期:2012年6月11日 優(yōu)先權(quán)日:2011年6月10日
【發(fā)明者】李在德, 崔日煥, 金承烈 申請人:拓普納諾斯株式會社