專利名稱：蓋構件，透鏡裝置和制造方法
技術領域：
本發(fā)明涉及蓋構件(cover member)，具有所述蓋構件的透鏡裝置，和制造所述蓋 構件的方法。
背景技術：
作為透鏡裝置的實例，其中結合透鏡和成像器件的照相機組件(module)是已知 的(參見，例如，日本專利申請公布2005-79931)。該照相機組件包括安置在拍攝圖像的成 像器件前面的透鏡，并且取決于透鏡組件例如在交通工具上安裝的透鏡組件的用途，還包 括安置在透鏡前面的透明蓋。作為由這種照相機組件代表的透鏡裝置中的透鏡和蓋，歸因 于易生產(chǎn)性，廣泛使用由樹脂制成的那些透鏡和蓋代替由玻璃制成的那些透鏡和蓋。圖1是示例透鏡裝置的一個實例的透視圖。圖1示例了其中為了易于理解透鏡裝 置的內部結構而將透鏡裝置部分去除的狀態(tài)。圖1中示例的透鏡裝置10包括安裝(attach)到電路板11的成像器件12，基于 目標光(subject light)而在成像器件12上形成圖像的3個透鏡13，支持透鏡13的透鏡 支持構件14，固定到電路板11并且包圍成像器件12和透鏡支持構件14的基座(base)構 件15，和保護透鏡的盤狀蓋構件20，和裝置外殼17。3個透鏡13安置在成像器件12的前面，即，在目標側，并且蓋構件20安置在透鏡 13前面。透鏡13和蓋構件20由透明樹脂材料形成。裝置外殼17的形狀近似為六面體，而 電路板11，成像器件12，透鏡13，透鏡支持構件14，基座構件15和蓋構件20嵌入裝置外殼 17中。然而，安裝蓋構件20以在內部封閉在裝置外殼17的前表面中安置的孔17a，并且蓋 構件20的中心部分暴露在外部。此外，在蓋構件20和裝置外殼17之間，插入0形環(huán)18來 防止透鏡裝置10受到水和灰塵的影響。蓋構件20是代替透鏡13暴露在外部的部件，因此，期望改進抵抗由外部異物所 致的摩擦和碰撞的耐擦傷性能和抗裂性能。此處，已知的是，將透鏡在液體形式的涂布材 料中浸漬，然后從涂布材料提起，使得對透鏡表面涂布硬涂層(例如，日本專利申請公布 2000-189884 和 2000-210614)。圖2A和圖2B是示例在圖1中所示的透鏡裝置中安置的常規(guī)蓋構件的圖。圖2A 是蓋構件20的正視圖，而圖2B是示例蓋構件20的中間部分的縱向截面的圖。圖2A和圖2B中示例的蓋構件20包括透射在成像器件12上形成圖像的光的中 心部分211，和包圍中心部分211的周邊部分212。中心部分211和周邊部分212由透明樹 脂材料整體模塑。在中心部分211和周邊部分212之間，形成臺階(計叩)21加。由于在裝 置外殼17的孔17a的邊緣上鄰接蓋構件20的臺階212a(參見圖1)，確定了相對于裝置外 殼17的位置，并且防止了蓋構件20的位移。此處，當對如圖2A和圖2B中所示的具有臺階形狀的蓋構件涂布涂層時，存在的可 能性是產(chǎn)生由圖2A和圖2B中的附圖標記2 所示的蓄積液(liquid pool)。附帶地，在圖 2B中的橫截面視圖中，涂布材料22的厚度增大，從而容易看到在中心部分211的前表面上的涂布材料22的形狀。換言之，假設將蓋構件基材21浸漬在液體形式的涂布材料中，然后從涂布材料提 起，存在的可能性是沿著蓋構件基材21向下流動的涂布材料在臺階21 的拐角上部蓄積， 從而導致蓄積液22a，從而在中心部分211的涂布材料的厚度方面，形成蓄積液22a的部分 厚于其余部分。在此情況下，當用于在成像器件12上形成圖像的光通過形成蓄積液2 的 部分時，光的方向被干擾，從而在形成的圖像中產(chǎn)生扭曲(distortion)。

發(fā)明內容
本發(fā)明的目的是解決上述問題并且提供一種其中抑制對通過光的干擾的蓋構件， 一種包括所述蓋構件的透鏡裝置，和一種制造所述蓋構件的方法。根據(jù)本發(fā)明的第一方面，一種被安置在光學部件前面的蓋構件包括中心部分；和周邊部分，所述周邊部分包圍所述中心部分，同時具有與所述中心部分毗連 (border)的臺階；其中所述中心部分在與所述周邊部分接界的那一側的一部分形成為傾斜表面，并且所 述傾斜表面的起點和終點中的每一個形成為彎曲表面，并且所述蓋構件具有涂布表面。在本發(fā)明的蓋構件中，所述中心部分在與周邊部分接界的那一側的部分形成為傾 斜表面，并且此傾斜表面的起點和終點中的每一個形成為彎曲表面。因此，當形成蓋構件 時，將蓋構件以其中傾斜表面處于中心部分下方的姿勢浸漬在涂布材料中并且提起，沿著 中心部分向下流動的涂布材料在沿著傾斜表面流下以后進一步向下流動。由于此原因，在 中心部分上沒有形成蓄積液，因而在蓋構件的中心部分中的涂布材料的厚度變得厚度均 勻。因此，抑制了對通過中心部分的光的干擾。優(yōu)選的是，蓋構件還包括用于識別傾斜表面的位置的標記。當將蓋構件安裝于透鏡裝置時，通過使用標記作為目標，可以可靠地使蓋構件的 傾斜表面及其附近部分偏離用于在成像器件上形成圖像的光通過的區(qū)域。另外，根據(jù)本發(fā)明的第二方面，透鏡裝置包括成像透鏡，其基于目標光形成圖像；和蓋構件，其被安置在所述成像透鏡前面，其中所述蓋構件包括中心部分；和周邊部分，所述周邊部分包圍所述中心部分，同時具有與所述中心部分毗連的臺 階；其中所述中心部分在與所述周邊部分接界的那一側的一部分形成為傾斜表面，并且所 述傾斜表面的起點和終點中的每一個形成為彎曲表面，并且所述蓋構件具有涂布表面。根據(jù)本發(fā)明的透鏡裝置，抑制了對通過蓋構件的光的干擾，并且抑制了圖像扭曲。根據(jù)本發(fā)明的第三方面，一種被安置在光學部件前面的蓋構件的制造方法包 括
形成蓋構件基材，所述蓋構件基材具有中心部分和周邊部分，所述周邊部分包圍 所述中心部分，同時具有與所述中心部分毗連的臺階，其中所述中心部分在與所述周邊部 分接界的那一側的一部分形成為傾斜表面，并且所述傾斜表面的起點和終點中的每一個形 成為彎曲表面；和通過下列方式以膜狀涂布材料涂布所述蓋構件基材將所述蓋構件基材以所述傾 斜表面朝下的姿勢浸漬在液體形式的涂布材料中，并且從所述涂布材料中提起所述蓋構件 基材，從而使得附著于所述蓋構件基材上的所述涂布材料凝固?？梢灾圃炱渲幸种屏藢νㄟ^中心部分的光的干擾的蓋構件。在所述制造方法中，優(yōu)選的是，形成蓋構件基材是形成除包括所述中心部分、所 述周邊部分和所述傾斜表面以外還包括涂布材料蓄積部(pool section)的蓋構件基材，所 述涂布材料蓄積部被安置在當傾斜表面朝下時跨過所述周邊部分低于所述傾斜表面的位 置處，并且引導所述涂布材料沿所述傾斜表面和所述周邊部分進一步向下流動，從而蓄積 所述涂布材料，并且所述制造方法還包括在所述涂布以后去除所述涂布材料蓄積部。在涂布中，當將蓋構件基材浸漬在涂布材料中，然后提起時，沿著傾斜表面流下并 且進一步向下流動的涂布材料被弓I導至涂布材料蓄積部，從而進一步遠離中心部分形成蓄 積液。在中心部分中包括涂布材料的厚度變得更加均勻。因此，進一步抑制了對通過中心 部分的光的干擾。另外，涂布材料蓄積部沒有保留在完成的蓋構件中。另外，根據(jù)本發(fā)明的制造方法的一種方式，所述去除是去除所述涂布材料蓄積 部，同時在所述蓋構件基材上留下涂布材料蓄積部的殘斷片，從而形成標記，所述標記由所 述殘斷片形成并且用于識別所述傾斜表面。通過使用在所述去除以后保留的殘斷片作為標記，僅通過去除涂布材料蓄積部， 就可以形成用于可靠地使蓋構件的傾斜表面及其附近部分偏離用于在成像器件上形成圖 像的光通過的區(qū)域的標記。因此，簡化了制造工藝。如上所述，根據(jù)本發(fā)明，實現(xiàn)了其中抑制對通過光的干擾的蓋構件，包括所述蓋 構件的透鏡裝置，和制造所述蓋構件的方法。


圖1是示例透鏡裝置的一個實例的透視圖；圖2A和圖2B是示例在圖1中所示的透鏡裝置中安置的常規(guī)蓋構件的圖；圖3A和圖;3B是根據(jù)本發(fā)明的蓋構件的第一實施方案的外形圖；圖4是示例圖3A和圖;3B中所示的蓋構件的下部的縱向截面的放大圖；圖5是用于解釋制造圖3A和圖;3B中所示的蓋構件的方法的圖；圖6是示例處于在從涂布材料提起以后的狀態(tài)的蓋構件的圖；圖7是示例處于安裝到裝置外殼上的狀態(tài)的蓋構件和0形環(huán)之間的位置關系的 圖；圖8是示例其中蓋構件基材的前表面和后表面均被涂布的變型的圖；圖9A是根據(jù)本發(fā)明的蓋構件的第二實施方案的外形圖；圖9B是示例蓋構件40的中間部分的縱向截面的圖；和
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圖10是用于解釋制造圖9A和圖9B中所示的蓋構件的方法的圖。
具體實施例方式以下將參考附圖描述本發(fā)明的示例性實施方案。圖3A和圖;3B是根據(jù)本發(fā)明的蓋構件的第一實施方案的外形圖。圖3A是蓋構件 30的正視圖，而圖:3B是示例蓋構件30的中間部分的縱向截面的圖。此外，圖4是示例圖 3A和圖;3B中所示的蓋構件的下部的縱向截面的放大圖。圖3A和圖;3B中所示的蓋構件30是要代替圖1中所示的透鏡裝置10的蓋構件20 安裝的構件。包括代替蓋構件20的本實施方案的蓋構件30的透鏡裝置10是根據(jù)本發(fā)明 的透鏡裝置的一個實施方案。除了蓋構件30，作為本發(fā)明的實施方案的透鏡裝置10的結構 與已經(jīng)關于圖1描述的結構相同，因此使用圖1并且將省略重復描述。圖3A和圖;3B中所示的蓋構件30是其中盤狀蓋構件基材31的前表面涂布有涂布 材料32的構件。蓋構件基材31包括中心部分311，其透射通過透鏡13(參見圖1)而在 成像器件上形成圖像的光；和周邊部分312，其包圍中心部分311。中心部分311具有均勻 厚度以使得由通過光形成的圖像不劣化。中心部分311和周邊部分312由透明樹脂材料 整體模塑。在中心部分311中，在與周邊部分312的邊界的一部分上，形成有臺階31a。然 而，在中心部分311中，與周邊部分312的邊界的其余部分的一部分形成為傾斜表面313。 此外，在蓋構件基材31中，安置有從周邊部分312的一部分突出的標記突出部(marking protrusion) 314。標記突出部314用于允許識別蓋構件30中的傾斜表面313的位置，并且 跨過中心部分311與傾斜表面313相反地安置。此標記突出部314等于根據(jù)本發(fā)明的標記 的實例。形成傾斜表面313以構成跨過中心部分311和周邊部分312之間的斜面。更具體 地，如在圖4中更清楚地示例的，傾斜表面313在以鈍角彎曲以后從中心部分311的平坦部 分延伸，并且還在以鈍角彎曲以后從周邊部分312延伸。換言之，在傾斜表面313和中心部 分311的平坦部分的表面之間形成鈍角，并且還在傾斜表面313和周邊部分312的表面之 間形成鈍角。此外，在中心部分311的平坦部分和傾斜表面313之間的邊界部分和在周邊 部分312和傾斜表面313之間的邊界部分中的每一個是由彎曲表面形成的連接部(link)， 其分別是傾斜表面313的起點和終點。此處，將描述制造在圖3A和圖;3B中所示的蓋構件30的方法。圖5是用于解釋制造在圖3A和圖;3B中所示的蓋構件的方法的圖。為了制造蓋構件30，首先，在蓋構件基材形成工藝中形成具有參考圖3A和圖;3B所 述形狀的蓋構件基材31。圖5示例了其中將支座(rimner)37與蓋構件基材31連接的狀 態(tài)。蓋構件基材31和支座37由透明樹脂整體模塑。接著，在蓋構件基材31的后表面，即，在蓋構件基材31安裝到透鏡裝置10的狀態(tài) 下的透鏡裝置10的內側，固定類似膜形狀的遮蔽構件39(參見圖6)。從而，涂布材料不接 觸蓋構件基材31的后表面。隨后，在涂布工藝中，將蓋構件基材31浸漬在液體形式的涂布材料320中。在涂 布工藝中，將蓋構件基材31以與支座37連接的狀態(tài)進行處理。更具體地，工人或裝置握住 支座37并且將蓋構件基材31以傾斜表面313朝下的姿勢浸漬到涂布材料320中。隨后，將蓋構件基材31從液體形式的涂布材料320提起，使得附著到蓋構件基材31的涂布材料凝固。圖6是示例處于從涂布材料提起以后的蓋構件的圖。在從涂布材料320提起以后的蓋構件基材31的前表面覆蓋有液體形式的涂布材 料。遮蔽構件39固定于蓋構件基材31的后表面。遮蔽構件39是整體涂布有粘合劑的構 件，并且遮蔽構件39甚至當將蓋構件基材31浸漬在涂布材料320中時(圖5)也不從蓋構 件基材31剝離。因而，涂布材料320沒有附著于蓋構件基材31的后表面。更具體地，遮蔽 構件39附著于比中心部分311更向后突出的周邊部分312，并且不接觸中心部分311。適宜的是，遮蔽構件39是排斥液體形式的涂布材料的材料，或被涂布用于排斥涂 布材料。這是因為當液體形式的涂布材料沒有附著于遮蔽構件39時，不浪費涂布材料。在從液體形式的涂布材料320提起以后，蓋構件基材31，如圖5中所示，保持其中 傾斜表面313朝下的姿勢。在從液體形式的涂布材料320提起蓋構件基材31以后直至覆蓋 所述蓋構件基材31前面的涂布材料凝固的時期內，涂布材料歸因于重力而逐漸向下流動。 如果將涂布構件基材以水平鋪展姿勢放置，則涂布材料可能以從蓋構件的一部分垂下的狀 態(tài)凝固。通過將蓋構件基材31以在垂直方向上鋪展的姿勢放置，避免了其中涂布材料從蓋 構件基材的部分垂下的狀態(tài)。此外，在其中傾斜表面313朝下的姿勢中，沿著蓋構件基材31的中心部分311的 表面流下的涂布材料流向傾斜表面313并且聚集。此外，如圖4中所示，形成傾斜表面313 以構成跨過中心部分311的平坦部分和周邊部分312之間的斜面，并且中心部分311的平 坦部分和傾斜表面313之間的部分和周邊部分312和傾斜表面313之間的部分中的每一個 是由彎曲表面形成的連接部。因此，不存在保持處于液體形式的涂布材料的拐角。由于此 原因，流向傾斜表面313并且聚集的液體形式的涂布材料沿著傾斜表面313向下流向位于 更下面的周邊部分312。因而，在蓋構件基材31的中心部分311上沒有形成蓄積液。通過從液體形式的涂布材料320提起蓋構件基材31，從而使得附著于蓋構件基材 31的涂布材料凝固，蓋構件基材31將覆蓋有類似膜形狀的固體涂布材料。隨后，當從蓋構 件基材31剝離遮蔽構件39并且分離支座37時，完成圖3A和圖中所示的蓋構件30。再次參考圖3A和圖;3B進行描述。當在制造工藝中處于液體形式時，涂布材料32 從中心部分311沿傾斜表面313流下，從而涂布材料32在中心部分311上沒有形成蓄積液 的狀態(tài)下凝固。由于此原因，在中心部分313上形成的涂布材料32具有達到了不引起圖像 扭曲程度的均勻厚度。安裝圖3A和圖;3B中所示的完成的蓋構件30以封閉圖1中所示的裝置外殼17的 孔 17a。圖7是示例處于安裝于裝置外殼狀態(tài)的蓋構件和0形環(huán)之間的位置關系的圖。如在圖7中所示，0形環(huán)18安置在蓋構件30的中心部分311和周邊部分312之 間形成臺階31 的部分中。將返回到圖3A和圖;3B繼續(xù)進行描述。圖3A示例了，在蓋構件30中，透射透鏡 13 (參見圖1)而在成像器件12上形成圖像的光通過的有效圖像范圍E。有效圖像范圍E 根據(jù)成像器件12的形狀近似為矩形，并且布置成伸展至中心部分311和周邊部分312之間 的邊界。傾斜表面313布置成比在中心部分311和周邊部分312之間的邊界的環(huán)更靠內，從而存在的可能性是，有效圖像范圍E的拐角取決于安裝到裝置外殼17上的蓋構件30的 姿勢而與傾斜表面313重疊。在本實施方案的蓋構件30中，形成用于允許識別蓋構件30 的傾斜表面313的位置的標記突出部314。因此，當將蓋構件30安裝于裝置外殼17上時， 通過使用標記突出部314作為標記，蓋構件30以其中如圖3A和;3B中所示傾斜表面313位 于中心部分311下方的姿勢安裝，或者相反，蓋構件30以其中傾斜表面313位于中心部分 311上方的姿勢安裝。這避免了其中有效圖像范圍E的拐角與傾斜表面313重疊的情況。根據(jù)包括本實施方案的蓋構件30的本實施方案的透鏡裝置10，在涂布材料厚度 均勻的部分上提供了有效圖像范圍E，因此抑制了通過蓋構件30的光的干擾，并且抑制了 通過透鏡13在成像器件12上形成的圖像的扭曲。已經(jīng)通過使用其中蓋構件基材31的后表面沒有覆蓋遮蔽構件39的實例描述了 實施方案。然而，此處，作為蓋構件的結構，可以采用其中蓋構件基材的前表面和后表面都 被涂布的結構。圖8是示例其中蓋構件基材的前表面和后表面都被涂布的變型的圖。圖8中所示的蓋構件30A通過在涂布工藝中不將遮蔽構件固定于蓋構件基材31 的情況下將蓋構件基材31浸漬在涂布材料320中而制造。因此，蓋構件基材31的前表面 和后表面都涂布有涂布材料32。關于其他特征，蓋構件30A與圖3A和圖;3B中所示的蓋構 件30相同，并且對應于蓋構件30的那些部分的圖中部分通過相同的附圖標記指示。接著，將描述本發(fā)明的第二實施方案。在第二實施方案的下列描述中，與第一實施 方案中的那些元件相同的元件由與第一實施方案中的那些元件相同的附圖標記指示，并且 將描述與第一實施方案不同的特征。圖9A是根據(jù)本發(fā)明的蓋構件的第二實施方案的外形圖。圖9A是蓋構件40的正 視圖，而圖9B是示例蓋構件40的中間部分的縱向截面的圖。與圖3A和圖;3B中所示的第一實施方案的蓋構件30相比，圖9A和圖9B中示例的 蓋構件40的不同之處在于，蓋構件基材41不具有標記突出部314，并且在于，蓋構件基材 41具有從周邊部分312的邊緣的一部分突出的標記突出部414。標記突出部414位于與標 記突出部314相反的位置，S卩，當將傾斜表面313朝下時跨過周邊部分312低于傾斜表面 313的位置。標記突出部414由殘斷片(piece)形成，所述殘斷片作為沿在液體蓄積部416 的中點的去除線Cl切割在蓋構件基材41形成的液體蓄積部416的結果保留。液體蓄積部 416最終在蓋構件40的制造工藝中去除。圖9A和圖9B示例在去除液體蓄積部416之前的 狀態(tài)，即，在即將完成之前的蓋構件40的形狀。此處，標記突出部414等于根據(jù)本發(fā)明的標 記的實例。當傾斜表面313朝下時，液體蓄積部416位于跨過周邊部分312低于傾斜表面313 的位置，并且從周邊部分312的邊緣的部分突出。液體蓄積部416具有與周邊部分312的 厚度相同的厚度。為了制造圖9A和圖9B中所示的蓋構件40，首先，在蓋構件基材形成工藝中形成蓋 構件基材41。圖10是用于解釋制造圖9A和圖9B中所示的蓋構件的方法的圖。圖10示例其中3個蓋構件基材41與支座47連接的狀態(tài)。蓋構件基材41和支座 47由透明樹脂整體模塑。從而，可以同時制造多個蓋構件40。
接著，在涂布工藝中，將蓋構件基材41浸漬在液體形式的涂布材料中。在涂布工 藝中，將支座47以與蓋構件基材41連接的狀態(tài)處理。更具體地，工人或裝置握住支座47 并且將蓋構件基材41以傾斜表面313朝下的姿勢浸漬到涂布材料中。隨后，將蓋構件基材 41從液體形式的涂布材料320提起，使得涂布材料凝固。在從液體形式的涂布材料提起蓋構件基材41以后直至涂布材料凝固的時期內， 涂布材料歸因于重力而逐漸向下流動。從中心部分311的平坦部分流向傾斜表面313并且 聚集的液體形式的涂布材料沿傾斜表面流下并且被導向到位于更下面的液體蓄積部416。 因此，如在圖9B中所示，蓄積液4 形成在液體蓄積部416上，進一步遠離蓋構件基材31 的中心部分311。因此，在中心部分311的涂布材料的厚度變得更加均勻。隨后，在去除工藝中，沿在中點的去除線Cl切割液體蓄積部416，從而從蓋構件基 材41去除液體蓄積部416。此外，通過沿去除線C2(參見圖10)切割，將蓋構件基材41從 支座47分離。結果，完成第二實施方案的蓋構件40。液體蓄積部416的去除導致其中涂布 材料的蓄積液4 沒有保留在蓋構件40中的狀態(tài)。此外，通過在去除液體蓄積部416時將 殘斷片留在蓋構件基材41中，形成標記突出部414(參見圖9A)，因而可以僅通過去除液體 蓄積部416而形成標記突出部414，從而簡化了制造工藝。附帶地，在實施方案的上述描述中，已經(jīng)描述包括成像器件的透鏡裝置作為根據(jù) 本發(fā)明的透鏡裝置的實例。然而，根據(jù)本發(fā)明的透鏡裝置不限于此實例，并且可以例如是不 具有內置成像器件并且隨后安裝的類型的透鏡裝置。在實施方案的上述描述中，已經(jīng)描述包括3個透鏡13的透鏡裝置作為根據(jù)本發(fā)明 的透鏡裝置的實例。然而，根據(jù)本發(fā)明的透鏡裝置不限于此實例，并且可以是具有1個透 鏡，或2個透鏡的透鏡裝置，或具有4個以上的透鏡的透鏡裝置。在實施方案的上述描述中，已經(jīng)描述了其中將1個或3個蓋構件基材與支座連接 的構件的形成作為根據(jù)本發(fā)明的蓋構件基材形成方法的實例。然而，本發(fā)明不限于此實例， 并且與支座連接的蓋構件基材的數(shù)量可以是2個，或4個以上。
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權利要求
1.一種被安置在光學部件前面的蓋構件，所述蓋構件包括 中心部分；和周邊部分，所述周邊部分包圍所述中心部分，同時具有與所述中心部分毗連的臺階；其中所述中心部分在與所述周邊部分接界的那一側的一部分形成為傾斜表面，并且所述傾 斜表面的起點和終點中的每一個形成為彎曲表面，并且 所述蓋構件具有涂布表面。
2.根據(jù)權利要求1所述的蓋構件，所述蓋構件還包括用于識別所述傾斜表面的位置的標記。
3.一種透鏡裝置，所述透鏡裝置包括 成像透鏡，其基于目標光形成圖像；和蓋構件，其被安置在所述成像透鏡前面，其中 所述蓋構件包括 中心部分；和周邊部分，所述周邊部分包圍所述中心部分，同時具有與所述中心部分毗連的臺階；其中所述中心部分在與所述周邊部分接界的那一側的一部分形成為傾斜表面，并且所述傾 斜表面的起點和終點中的每一個形成為彎曲表面，并且 所述蓋構件具有涂布表面。
4.一種被安置在光學部件前面的蓋構件的制造方法，所述制造方法包括形成蓋構件基材，所述蓋構件基材具有中心部分和周邊部分，所述周邊部分包圍所述 中心部分，同時具有與所述中心部分毗連的臺階，其中所述中心部分在與所述周邊部分接 界的那一側的一部分形成為傾斜表面，并且所述傾斜表面的起點和終點中的每一個形成為 彎曲表面；和通過下列方式以膜狀涂布材料涂布所述蓋構件基材將所述蓋構件基材以所述傾斜 表面朝下的姿勢浸漬在液體形式的涂布材料中，并且從所述涂布材料中提起所述蓋構件基 材，從而使得附著于所述蓋構件基材上的所述涂布材料凝固。
5.根據(jù)權利要求4所述的制造方法，其中所述形成蓋構件基材是形成除包括所述中心部分、所述周邊部分和所述傾斜表面以 外還包括涂布材料蓄積部的蓋構件基材，所述涂布材料蓄積部被安置在當所述傾斜表面朝 下時跨過所述周邊部分低于所述傾斜表面的位置處，并且引導所述涂布材料沿所述傾斜表 面和所述周邊部分進一步向下流動，從而蓄積所述涂布材料，并且 所述制造方法還包括在所述涂布以后去除所述涂布材料蓄積部。
6.根據(jù)權利要求5所述的制造方法，其中所述去除是去除所述涂布材料蓄積部，同時 在所述蓋構件基材上留下所述涂布材料蓄積部的殘斷片，從而形成標記，所述標記由所述 殘斷片形成并且用于識別所述傾斜表面。
全文摘要
本發(fā)明提供一種蓋構件，透鏡裝置和制造方法。被安置在光學部件前面的蓋構件包括中心部分；和周邊部分。所述周邊部分包圍所述中心部分，同時具有與所述中心部分毗連的臺階。所述中心部分在與所述周邊部分接界的那一側的一部分形成為傾斜表面。所述傾斜表面的起點和終點中的每一個形成為彎曲表面。所述蓋構件具有涂布表面。
文檔編號G02B13/00GK102109651SQ20101060610
公開日2011年6月29日 申請日期2010年12月23日 優(yōu)先權日2009年12月28日
發(fā)明者佐佐木直喜, 佐佐木龍?zhí)? 加邊榮一 申請人:富士膠片株式會社