專利名稱：光罩掩模的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及光刻技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種光罩掩模。
背景技術(shù)：
光刻是把光罩上的圖形通過曝光多次復(fù)制到涂有光刻膠的硅片上，光刻顯影后光罩上的圖形出現(xiàn)在硅片上。一個光罩上包含了一個或多個芯片所需的圖形，硅片表面上涂 覆有光刻膠，曝光過程是激光光源發(fā)出的紫外光或深紫外光通過對準(zhǔn)的光罩，曝光的目的 是要把光罩上的圖形精確地復(fù)制(在規(guī)范之內(nèi))成光刻膠上的最終圖形。隨著硅片關(guān)鍵尺寸不斷減小，衍射和干涉成為阻止光罩上的圖形有效地轉(zhuǎn)印到硅 片上的因素，如，光罩上距離很近的結(jié)構(gòu)間的光衍射和干涉引起光學(xué)臨近效應(yīng)，使光刻圖像 的線寬受附近結(jié)構(gòu)影響。為了補償光學(xué)臨近效應(yīng)，光罩的設(shè)計者可以利用計算機算法，對光 罩上小特征尺寸生成光學(xué)臨近修正(OpticalProximity Correction, 0PC)，進行光學(xué)臨近 修正的圖形，其尺寸小于規(guī)范尺寸，屬于次設(shè)計規(guī)范圖形(sub design rule patterns)。光罩上的次設(shè)計規(guī)范圖形復(fù)制到硅片表面上的光刻膠上時，易形成剝落缺陷 (peeling defects)。有時，并不需要將次設(shè)計規(guī)范圖形復(fù)制到光刻膠上，若重新制作一光 罩，成本將大大提高，通常的做法是在激光光源與光罩之間設(shè)置一光罩掩模。如圖1所示， 現(xiàn)有技術(shù)中的光罩掩模包括不透明區(qū)域1和透明區(qū)域2，所述透明區(qū)域2設(shè)置在該光罩掩模 的中央，所述不透明區(qū)域1包圍中央透明區(qū)域2，該光罩掩模對次設(shè)計規(guī)范圖形設(shè)置在光罩 周邊的光罩來說，能起到阻止把次設(shè)計規(guī)范圖形復(fù)制到光刻膠上的目的，但是，如果僅僅需 要遮蔽中間部分的次設(shè)計規(guī)范圖形，現(xiàn)有技術(shù)中的光罩掩模不能滿足需求。

實用新型內(nèi)容本實用新型的目的在于提供一種光罩掩模，符合次設(shè)計規(guī)范圖形越來越集中在投 影掩模版中間的趨勢，滿足現(xiàn)行需要。為了達(dá)到上述的目的，本實用新型提供一種光罩掩模，包括不透明區(qū)域和透明區(qū) 域，所述透明區(qū)域包圍不透明區(qū)域。上述光罩掩模，其中，所述不透明區(qū)域設(shè)置在該光罩掩模的中央。上述光罩掩模，其中，所述不透明區(qū)域由金屬鉻材料制成。上述光罩掩模，其中，所述透明區(qū)域由石英材料制成。上述光罩掩模，其中，所述不透明區(qū)域的面積的大小根據(jù)實際需要調(diào)整。本實用新型的光罩掩模將不透明區(qū)域設(shè)置在中間，透明區(qū)域包圍不透明區(qū)域，符 合僅僅遮蔽光罩中間部分的實際需要；該光罩掩模的不透明區(qū)域其大小、位置和形狀可根 據(jù)實際情況作調(diào)整，使得光罩掩模的適用性強。

本實用新型的光罩掩模由以下的實施例及附圖給出。[0013]圖1是現(xiàn)有技術(shù)中的光罩掩模的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是實用新型光罩掩模的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
以下將結(jié)合圖2對本實用新型的光罩掩模作進一步的詳細(xì)描述。隨著半導(dǎo)體制造技術(shù)的發(fā)展，光罩的圖形密度增大，光衍射和干涉對光刻精度的 影響越來越顯著，為了補償光衍射和干涉對光刻精度的影響，次設(shè)計規(guī)范是光罩的設(shè)計者 常采取方法，但是次設(shè)計規(guī)范圖形復(fù)制到光刻膠上時帶來剝落缺陷，在不希望次設(shè)計規(guī)范 圖形復(fù)制到光刻膠上的場合，用光罩掩模阻擋激光光源發(fā)出的紫外光或深紫外光通過該次 設(shè)計規(guī)范圖形。如果是僅僅需要遮蔽中間部分(特別是中央位置)的次設(shè)計規(guī)范圖形，現(xiàn) 有技術(shù)中的光罩掩模只能阻擋激光光源發(fā)出的紫外光或深紫外光通過光罩的周邊，不能滿 足現(xiàn)行的需要。本實用新型的光罩掩模能阻止光源發(fā)出的光通過位于光罩中間位置 的次設(shè)計規(guī) 范圖形，滿足現(xiàn)行需要。本實用新型的光罩掩模包括不透明區(qū)域和透明區(qū)域，所述透明區(qū)域包圍不透明區(qū) 域。現(xiàn)以一較佳實施例詳細(xì)說明本實用新型的光罩掩模。本實施例中，光罩為長方形，光罩掩模設(shè)計成與光罩大小相等的長方形。參見圖2，光罩掩模包括不透明區(qū)域3和透明區(qū)域4，所述不透明區(qū)域3設(shè)置在該 光罩掩模的中間位置，所述透明區(qū)域4設(shè)置在該光罩掩模的周邊，且所述透明區(qū)域4包圍不 透明區(qū)域3。上述不透明區(qū)域3是指光源發(fā)出的光不能通過的區(qū)域，特別是指吸收紫外光或深 紫外光的區(qū)域。上述透明區(qū)域4是指光源發(fā)出的光能通過的區(qū)域，特別是指紫外光或深紫外光能 透射的區(qū)域。所述不透明區(qū)域3的面積的大小、該不透明區(qū)域3的形狀以及該不透明區(qū)域3的 位置設(shè)置根據(jù)實際情況可進行調(diào)整，以適應(yīng)實際需要?，F(xiàn)在，有些次設(shè)計規(guī)范圖形設(shè)置在光罩的中央，因此，上述光罩掩模的不透明區(qū)域 3通常設(shè)置在該光罩掩模的中央。本實施例中，光罩掩模的制作方法是采用石英作基板，該石英基板也用作光罩掩 模的透明區(qū)域，在石英基板上濺射金屬鉻作為光罩掩模的不透明區(qū)域。本實用新型的光罩掩模將不透明區(qū)域設(shè)置在中間，透明區(qū)域包圍不透明區(qū)域，符 合僅僅遮蔽光罩掩模中間部分的實際需要。本實用新型的光罩掩模的不透明區(qū)域其大小、位置和形狀可根據(jù)實際情況作調(diào) 整，使得光罩掩模的適用性強。
權(quán)利要求一種光罩掩模，包括不透明區(qū)域和透明區(qū)域，其特征在于，所述透明區(qū)域包圍不透明區(qū)域。
2.如權(quán)利要求1所述的光罩掩模，其特征在于，所述不透明區(qū)域設(shè)置在該光罩掩模的 中央。
3.如權(quán)利要求1所述的光罩掩模，其特征在于，所述不透明區(qū)域由金屬鉻材料制成。
4.如權(quán)利要求1所述的光罩掩模，其特征在于，所述透明區(qū)域由石英材料制成。
專利摘要本實用新型的光罩掩模包括不透明區(qū)域和透明區(qū)域，所述透明區(qū)域包圍不透明區(qū)域。本實用新型的光罩掩模將不透明區(qū)域設(shè)置在中間，透明區(qū)域包圍不透明區(qū)域，符合僅僅遮蔽光罩中間部分的實際需要；不透明區(qū)域其大小、位置和形狀可根據(jù)實際情況作調(diào)整，使得光罩掩模的適用性強。
文檔編號G03F1/54GK201562121SQ20092020808
公開日2010年8月25日 申請日期2009年8月18日 優(yōu)先權(quán)日2009年8月18日
發(fā)明者舒強, 顧一鳴 申請人:中芯國際集成電路制造(上海)有限公司