技術(shù)編號：2749182
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本實用新型涉及光刻，尤其涉及一種光罩掩模。 背景技術(shù)光刻是把光罩上的圖形通過曝光多次復(fù)制到涂有光刻膠的硅片上，光刻顯影后光罩上的圖形出現(xiàn)在硅片上。一個光罩上包含了一個或多個芯片所需的圖形，硅片表面上涂 覆有光刻膠，曝光過程是激光光源發(fā)出的紫外光或深紫外光通過對準的光罩，曝光的目的 是要把光罩上的圖形精確地復(fù)制(在規(guī)范之內(nèi))成光刻膠上的最終圖形。隨著硅片關(guān)鍵尺寸不斷減小，衍射和干涉成為阻止光罩上的圖形有效地轉(zhuǎn)印到硅 片上的因素，如，光罩上距離很近的結(jié)構(gòu)間的光...
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