專利名稱：一種電路板雙面同步曝光機(jī)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及電路板技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種電路板雙面同步曝光機(jī)。
背景技術(shù)：
一般來說，形成電路板上電子線路的步驟包括:首先設(shè)計電子線路的分布， 并繪制出電子線路的上原稿和下原稿，用于曝光使用；其次將一個雙面敷設(shè)有 銅膜的電路板進(jìn)行表面清洗，以去除油漬污物；然后進(jìn)行打孔，包括電子元件 的插孔和對位孔等，并在電路板的兩面涂覆一層感光干膜，再把上原稿和下原 稿與電路板對應(yīng)進(jìn)行曝光，利用顯影劑將感光干膜上不需要保留的部分清洗去 除以露出銅膜；最后用化學(xué)試劑將電路板上露出的銅膜蝕刻掉，再經(jīng)綠漆、防 焊等步驟即可完成。
圖l是現(xiàn)有技術(shù)中電路板曝光機(jī)在第二曝光平臺打開狀態(tài)的結(jié)構(gòu)示意圖。 圖2是現(xiàn)有技術(shù)中電路板曝光機(jī)在第一曝光平臺打開狀態(tài)的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖1 和圖2所示，該曝光機(jī)10的曝光室101中安裝有上燈管20和下燈管21，通過上燈 管20和下燈管21對電路板30上下兩面的照射，該電路板30兩面的感光干膜沒有 被上原稿和下原稿覆蓋的部分將會因?yàn)槭芄舛l(fā)生硬化，由于上燈管20和下燈 管21是兩面同步進(jìn)行曝光，因此上燈管20和下燈管21與電路板30兩面之間的光 照距離和光照時間是否相等，會直接影響電路板30兩面感光干膜的同步硬化程 度，進(jìn)而影響電路板30的質(zhì)量。
該曝光機(jī)10安裝有第一曝光平臺40和第二曝光平臺41，第一曝光平臺 40高于第二曝光平臺41，兩個曝光平臺都可以通過軌道在曝光室101和換板 臺102之間進(jìn)出。第一曝光平臺40和第二曝光平臺41為透明平臺，可以放置下原稿，而且分別設(shè)置了第一透明蓋體400和第二透明蓋體401，可以用于放 置上原稿。
工作時，可以將準(zhǔn)備曝光的電路板30放置在第二曝光平臺41上，再蓋上 第二透明蓋體401，然后推入曝光室101進(jìn)行3到5秒的曝光，最后送出曝光 室101到換板臺102。接著再掀起第一透明蓋體400在第一曝光平臺40內(nèi)放 置電路板30，并推入曝光室101曝光，如此交替進(jìn)出曝光。
由于兩個曝光平臺不是處在同一個水平面上，曝光室101內(nèi)的兩個燈管距 離電路板30的距離會有明顯差異，所以需要通過電腦控制上燈管20和下燈管 21的照射時間，例如，上燈管20對應(yīng)距離較短的電路板30時需要提前關(guān)閉， 而當(dāng)上燈管20對應(yīng)距離較短的電路板30時需要延長關(guān)閉，以保證電路板30 兩面曝光度能夠達(dá)到平均的、正?；钠毓赓|(zhì)量。
但是通過電腦控制這種方式很難達(dá)到精確曝光的標(biāo)準(zhǔn)，因?yàn)殡娐钒?0在 曝光室101中的曝光時間僅有3到5秒，上燈管20和下燈管21與電路板30 兩面的距離差異明顯，通過電腦控制曝光時間很有困難，而且上燈管20和下 燈管21長期使用會形成不同的老化程度以及電壓不穩(wěn)的問題，電腦就更難控 制了。
這樣，電路板30制成的電子線路出現(xiàn)毛邊或者線性變形的失誤率很高， 難以達(dá)到高精密、高品質(zhì)的要求，而且兩個曝光平臺都需要掀起透明蓋體才能 放置電路板30,導(dǎo)致工作效率較低。

實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的在于提出一種電路板雙面同步曝光機(jī)，可以保證電路板 在同一水平面上曝光，提高了曝光的精確度和電子線路的質(zhì)量。
為達(dá)此目的，本實(shí)用新型采用以下技術(shù)方案
一種電路板雙面同步曝光機(jī)，包括換板臺、曝光室、上原稿臺和下原稿臺，換板臺與曝光室之間通過軌道連接，上原稿臺和下原稿臺位于軌道之上，上原 稿臺為透光體，還包括透明的掀蓋，用于固定上原稿，下原稿臺包括活動臺和 透光平臺，活動臺設(shè)有開口，用于放置透光平臺，透光平臺為透光體，用于固 定下原稿和放置電路板，曝光室內(nèi)設(shè)置上燈管和下燈管，上燈管和下燈管與上 原稿臺在軌道上移動的水平線之間的距離相等。
還包括升降裝置，位于換板臺下方，用于提升透光平臺，上原稿臺還包括 真空吸盤，用于吸附透光平臺。
升降裝置包括吸盤，用于吸附透光平臺。
透光平臺不少于兩個。
還包括承接臂，位于曝光室中上原稿臺的下方，用于下放透光平臺。
采用了本實(shí)用新型的技術(shù)方案，不僅保證了電路板在同一水平面上曝光， 提高了曝光的精確度和電子線路的質(zhì)量，而且不用掀蓋就可以放置電路板，提 高了工作效率。


圖l是現(xiàn)有技術(shù)中電路板曝光機(jī)在第二曝光平臺打開狀態(tài)的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2是現(xiàn)有技術(shù)中電路板曝光機(jī)在第一曝光平臺打開狀態(tài)的結(jié)構(gòu)示意圖。 圖3是本實(shí)用新型具體實(shí)施方式
中曝光機(jī)初始狀態(tài)的結(jié)構(gòu)示意圖。 圖4是本實(shí)用新型具體實(shí)施方式
中曝光機(jī)中間狀態(tài)的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖并通過具體實(shí)施方式
來進(jìn)一步說明本實(shí)用新型的技術(shù)方案。 圖3是本實(shí)用新型具體實(shí)施方式
中曝光機(jī)初始狀態(tài)的結(jié)構(gòu)示意圖。圖4是本
實(shí)用新型具體實(shí)施方式
中曝光機(jī)中間狀態(tài)的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖3和圖4所示，曝
5光機(jī)50包括曝光室501和換板臺502,兩者之間設(shè)置有軌道，上原稿臺60和下原 稿臺61位于軌道之上，上原稿臺60要高于下原稿臺61，上原稿臺60可以通過軌 道往返于曝光室501和換板臺502之間。
上原稿臺60為透光體，并配有一個透明的掀蓋608，可以放置上原稿并蓋住。
下原稿臺61包括活動臺610、第一透光平臺602和第二透光平臺603，活動 臺設(shè)有開口，可以放置第一透光平臺602或者第二透光平臺603，第一透光平臺 602和第二透光平臺603都為透光體，可以用來固定下原稿和放置電路板。
曝光室內(nèi)的上、下方設(shè)置上燈管80和下燈管81,上燈管80和下燈管81與上
原稿臺在軌道上移動的水平線之間的距離相等。
還設(shè)置有一個升降裝置91，升降裝置91位于換板臺下方，并且在升降裝 置上方設(shè)置有數(shù)個吸盤918，能夠固定并提升第一透光平臺602或者第二透光 平臺603。
上原稿臺60也設(shè)置有數(shù)個真空吸盤70，可以用來吸附透光平臺。 在曝光室501內(nèi)的上原稿臺60的下方位置安裝有承接臂90，用來下放第 一透光平臺602或者第二透光平臺603。
下面具體描述電路板雙面同步曝光機(jī)的工作過程。
將上原稿臺60的掀蓋608掀開，放入一個上原稿，并蓋上掀蓋608固定。
下原稿臺61位于換板臺502上，將下原稿和需要曝光的電路板30對應(yīng)好 位置后，放置在活動臺610上的第一透光平臺602上。
升降裝置91上升，頂?shù)降谝煌腹馄脚_602的下方，以吸盤918吸附第一 透光平臺602，再將第一透光平臺602頂離活動臺610。
此時上原稿臺60同步位移到換板臺502與第一透光平臺602對應(yīng)的位置， 升降裝置91繼續(xù)上升，將第一透光平臺602頂?shù)脚c上原稿臺60底部接觸的位 置，上原稿臺60的真空吸盤70將吸附住第一透光平臺602，并同時位移至曝光室501內(nèi)對電路板30進(jìn)行曝光。
升降裝置91下降回到原來的位置，再把另一個下原稿和對應(yīng)的電路板30 放置在第二透光平臺603上，并放在換板臺502的活動臺610上，升降裝置 91再次上升，頂?shù)降诙腹馄脚_603的下方，以吸盤918吸附第二透光平臺 603，再將第二透光平臺603頂離活動臺610。
同時曝光室501內(nèi)，上原稿臺60和第一透光平臺602內(nèi)的電路板30在上 燈管80和下燈管81的照射下己經(jīng)完成了曝光，并關(guān)閉了上燈管80和下燈管 81,活動臺610即進(jìn)入曝光室501內(nèi)的上原稿臺60下方，再通過承接臂90 上升到第一透光平臺602處，上原稿臺60的真空吸盤70退出真空狀態(tài)，承接 臂90將第一透光平臺602下放到活動臺610上。
上原稿臺60移出曝光室501到換板臺502的第二透光平臺603上方對應(yīng) 位置，升降裝置91繼續(xù)上升，將第二透光平臺603頂?shù)脚c上原稿臺60底部接 觸的位置，上原稿臺60的真空吸盤70將吸附住第二透光平臺603，并同時位 移至曝光室501內(nèi)對電路板30進(jìn)行曝光。
放置有第一透光平臺602和己經(jīng)曝光電路板30的活動臺610移出曝光室 501到換板臺502，將已經(jīng)曝光電路板30取出，在放入需要曝光的電路板30。
重復(fù)以上過程，只需等待活動臺610將曝光好的電路板30送出，在放入 需要曝光的電路板30，即可完成電路板30的曝光。
以上所述，僅為本實(shí)用新型較佳的具體實(shí)施方式
，但本實(shí)用新型的保護(hù)范 圍并不局限于此，任何熟悉該技術(shù)的人在本實(shí)用新型所揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可 輕易想到的變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本實(shí) 用新型的保護(hù)范圍應(yīng)該以權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。
權(quán)利要求1、一種電路板雙面同步曝光機(jī)，其特征在于，包括換板臺、曝光室、上原稿臺和下原稿臺，換板臺與曝光室之間通過軌道連接，上原稿臺和下原稿臺位于軌道之上，上原稿臺為透光體，還包括透明的掀蓋，用于固定上原稿，下原稿臺包括活動臺和透光平臺，活動臺設(shè)有開口，用于放置透光平臺，透光平臺為透光體，用于固定下原稿和放置電路板，曝光室內(nèi)設(shè)置上燈管和下燈管，上燈管和下燈管與上原稿臺在軌道上移動的水平線之間的距離相等。
2、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的一種電路板雙面同步曝光機(jī)，其特征在于，還 包括升降裝置，位于換板臺下方，用于提升透光平臺，上原稿臺還包括真空吸 盤，用于吸附透光平臺。
3、 根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種電路板雙面同步曝光機(jī)，其特征在于，升 降裝置包括吸盤，用于吸附透光平臺。
4、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的一種電路板雙面同步曝光機(jī)，其特征在于，透 光平臺不少于兩個。
5、 根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種電路板雙面同步曝光機(jī)，其特征在于，還包括承接臂，位于曝光室中上原稿臺的下方，用于下放透光平臺。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種電路板雙面同步曝光機(jī)，換板臺與曝光室之間通過軌道連接，上原稿臺和下原稿臺位于軌道之上，上原稿臺為透光體，還包括透明的掀蓋，用于固定上原稿，下原稿臺包括活動臺和透光平臺，活動臺設(shè)有開口，用于放置透光平臺，透光平臺為透光體，用于固定下原稿和放置電路板，曝光室內(nèi)設(shè)置上燈管和下燈管，上燈管和下燈管與上原稿臺在軌道上移動的水平線之間的距離相等。采用了本實(shí)用新型的技術(shù)方案，不僅保證了電路板在同一水平面上曝光，提高了曝光的精確度和電子線路的質(zhì)量，而且不用掀蓋就可以放置電路板，提高了工作效率。
文檔編號G03F7/20GK201408326SQ20092014539
公開日2010年2月17日 申請日期2009年3月20日 優(yōu)先權(quán)日2009年3月20日
發(fā)明者林嚴(yán)信 申請人:北京大祥機(jī)械國際有限公司