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一種lcd曝光裝置的制作方法

文檔序號:2748244閱讀:380來源:國知局
專利名稱:一種lcd曝光裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及一種曝光裝置,尤其涉及一種LCD的曝光裝置。
背景技術(shù)
曝光就是在涂好光刻膠的玻璃表面覆蓋掩模版,通常紫外光是行選擇性照 射;使受光部分的光刻膠發(fā)生化學反應(yīng),改變這一部分膠在顯影液中的溶解度。 因而顯影后,光刻月交膜顯現(xiàn)出與掩模版上一致的圖案。其中曝光時間和曝光光 強選擇是根據(jù)版的質(zhì)量、光刻膠的性質(zhì)、光源強弱和光源到納米銦錫金屬氧化 物(IT0 )玻璃的距離來衡量。
在現(xiàn)有技術(shù)中,平行光曝光的光學系統(tǒng)下,采用菲林作為掩^t版,細線產(chǎn) 品尤其是17um的細線產(chǎn)品顯影后線條都為連筆或斷筆,成品率幾乎為零。其原 因如下由于菲林的透光率低于鉻版的透光率,曝光機曝光時紫外光透過菲林 時,由于菲林與涂好膠玻璃的接觸面緊密程度不一致,所以涂好膠的玻璃上接 受到的紫外光的程度也不一致,使受光部分的光刻膠發(fā)生化學反應(yīng)的程度也不 一致,顯影后線條粗細不均,連筆及斷筆多。這種菲林與涂好膠的玻璃的間隙 俊是菲林作為掩模版制作細線產(chǎn)品時成品率低的主要原因。
此外,現(xiàn)有的非接觸式曝光中掩才莫版與玻璃上的感光膠層不接觸,因而不 會引起損傷和沾污掩模版,從而延長掩模版的使用質(zhì)量和提高產(chǎn)品的優(yōu)良率。 但是非接觸式曝光的掩才莫版一般都為鉻版,此掩^f莫版材料的價格昂貴,尤其是 細線的晶粒-玻璃接合技術(shù)(C0G)產(chǎn)品的鉻版更是價格不菲?;诂F(xiàn)在多品種、 小批量產(chǎn)品多的市場行情下,為了樣品和小批量而用4各版開模的數(shù)量逐漸增多, 因此往往浪費了材料成本,進而增加了制造成本,降低了產(chǎn)品的市場竟爭力。
實用新型內(nèi)容
本實用新型的目的是提供一種LCD曝光裝置,它能制作17um以上線寬線距.的細線樣品及小批量產(chǎn)品,并且同時能降低材料成本。
本實用新型為了實現(xiàn)上述目的,所采用的^^支術(shù)方案為 一種LCD曝光裝置,包括設(shè)置于其上的電源電路系統(tǒng)、光學系統(tǒng)和非接觸式曝光平臺,其特征在于還包含有接觸式曝光平臺,接觸式曝光平臺設(shè)置于所述非接觸式曝光平臺上方。
優(yōu)選的,所述接觸式曝光平臺設(shè)置于非接觸式曝光平臺上方左側(cè)。
進一步的,所述接觸式曝光平臺與非接觸式曝光平臺之間設(shè)有用于接觸式.曝光平臺左右推移的導(dǎo)軌。
進一步的,所述接觸式曝光平臺包括蓋板、菲林、玻璃片及承放平臺,所述支架設(shè)于所述承放平臺的上方;所述菲林粘貼于上述蓋板底面上;所述玻璃片放置于承放平臺上表面,還包括真空孔和真空開關(guān),所述真空孔設(shè)于承放平臺的表面。
更進一步的,所述真空開關(guān)設(shè)于承放平臺的側(cè)邊。
更進一步的,所述蓋板樞接于承放平臺的一側(cè)。.采用上述技術(shù)方案后,本實用新型的有益效果為由于在平行曝光裝置的接觸式曝光平臺增設(shè)了真空孔及真空開關(guān),從而通過該接觸式曝光平臺的真空吸附菲林與涂好光刻膠的玻璃片,使兩者間的間隙為零,然后曝光作業(yè),利用曝光裝置自身的平行光源,解決17um線寬線距等細線產(chǎn)品用菲林作為掩模版生產(chǎn)的工藝難題,并且由于掩模版由鉻版轉(zhuǎn)為菲林替代,從而節(jié)約了材料成本。

圖1為本實用新型的側(cè)面示意圖;圖2為本實用新型的正面示意圖;圖3為本實用新型的使用狀態(tài)圖4為本實用新型的接觸式曝光平臺蓋板打開時的示意圖;圖5為本實用新型的接觸式曝光平臺蓋板蓋上后的示意圖;圖6為本實用新型的接觸式曝光平臺蓋板貼菲林的示意圖;圖7為本實用新型的放置有玻璃片的接觸式曝光平臺的俯視圖。
1、 非接觸式曝光平臺
2、 接觸式曝光平臺
21、 蓋板
22、 菲林
23、 玻璃片
24、 承放平臺
25、 真空孔
26、 真空開關(guān)
3、 導(dǎo)軌
4、 曝光機具體實施方式
現(xiàn)結(jié)合附圖和具體實施方式
對本實用新型進一步說明。
請參閱圖1至圖3,本實用新型的一種LCD曝光裝置,包括電源電路系統(tǒng)、光學系統(tǒng)、非接觸式曝光平臺l及接觸式曝光平臺2,所述接觸式曝光裝置設(shè)于非接觸式曝光平臺1的上方左側(cè)。所述接觸式曝光平臺2與非接觸式曝光平臺1之間設(shè)有導(dǎo)軌3,所述接觸式曝光平臺2可沿該導(dǎo)軌3從左側(cè)推至曝光機4的曝光燈下曝光。請參閱圖4、圖5,所述接觸式曝光平臺2包括^^f反蓋板21、菲林22、玻璃片23、承放平臺24、真空孔25及真空開關(guān)26,所述蓋板21設(shè)于上述承放平臺24的上方,且所述蓋板21樞接于承放平臺24的一側(cè);所述菲林22粘貼于上述蓋板21底面上;所述玻璃片23放置于承放平臺24上表面;所述真空孔25設(shè)于承放平臺24的表面;所述真空開關(guān)26設(shè)于承放平臺的側(cè)邊。
請參閱圖1至圖7,使用時,將菲林22的四邊貼上雙面膠,然后粘貼于蓋板21上,位置居中;接著在玻璃片23上表面涂好光刻膠后,將玻璃片23居中放置于承放平臺24上,蓋上蓋板2;然后撥開真空開關(guān)26,真空吸附菲林22與涂好光刻膠的玻璃片23,使兩者間的間隙為零;最后將接觸式曝光平臺2從非接觸式曝光平臺1的左側(cè)沿導(dǎo)軌3推至曝光機的曝光燈下曝光。
此外,本實用新型中,貼菲林22的白鉻版蓋板21應(yīng)無表面劃傷刮花,且該白鉻版的厚度為3mm。其中承放平臺24的平整度應(yīng)小于等于5mil,且該承放平臺24吸附玻璃片23時真空度介于20-30in. Hg。
本實用新型的設(shè)計重點在于,采用接觸式曝光平臺2真空吸附菲林22與涂好光刻膠的玻璃片23, 4吏兩者間的間隙為零,/人而大幅度地提高細線產(chǎn)品的成品率。因此本實用新型解決了平行光曝光時采用菲林22作為掩模版制作細線產(chǎn)品尤其是17um線寬線距細線產(chǎn)品的難題。由于掩模版由鉻版轉(zhuǎn)由菲林22替代,.因此節(jié)約了材料成本。
盡管結(jié)合優(yōu)選實施方案具體展示和介紹了本實用新型,但所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)該明白,在不脫離所附權(quán)利要求書所限定的本實用新型的精神和范圍內(nèi),在形式上和細節(jié)上可以對本實用新型做出各種變化,均為本實用新型的保護范圍。
權(quán)利要求1.一種LCD曝光裝置,包括設(shè)置于其上的電源電路系統(tǒng)、光學系統(tǒng)和非接觸式曝光平臺,其特征在于還包含有接觸式曝光平臺,接觸式曝光平臺設(shè)置于所述非接觸式曝光平臺上方。
2. 如權(quán)利要求1所述的LCD曝光裝置,其特征在于所述接觸式曝光平臺設(shè) 置于非接觸式曝光平臺上方左側(cè)。
3. 如權(quán)利要求1或2所述的LCD曝光裝置,其特征在于所述接觸式曝光平臺 與非接觸式曝光平臺之間設(shè)有用于接觸式曝光平臺左右推移的導(dǎo)軌。
4. 如權(quán)利要求1或2所述的LCD曝光裝置,其特征在于所述接觸式曝光平臺 包括蓋板、菲林、玻璃片及承放平臺,所述支架設(shè)于所述承放平臺的上方; 所述菲林粘貼于上述蓋板底面上;所述玻璃片放置于承;改平臺上表面,還包 括真空孔和真空開關(guān),所述真空孔設(shè)于承放平臺的表面。
5. 如權(quán)利要求4所述的LCD曝光裝置,其特征在于所述真空開關(guān)設(shè)于承放平 臺的側(cè)邊。
6. 如權(quán)利要求4所述的LCD曝光裝置,其特征在于所述蓋板樞接于承放平臺 的一側(cè)。
專利摘要本實用新型涉及一種曝光裝置,尤其涉及一種LCD的曝光裝置。本實用新型的LCD曝光裝置,包括設(shè)置于其上的電源電路系統(tǒng)、光學系統(tǒng)和非接觸式曝光平臺,還包含有接觸式曝光平臺,接觸式曝光平臺設(shè)置于所述非接觸式曝光平臺上方。該接觸式曝光平臺包括蓋板、菲林、玻璃片及承放平臺,所述支架設(shè)于承放平臺的上方;所述菲林粘貼于蓋板底面上;所述玻璃片放置于承放平臺上表面,還包括真空孔及真空開關(guān),所述真空孔設(shè)于承放平臺的表面。由于真空孔及真空開關(guān)的作用,吸附菲林與涂好光刻膠的玻璃片,使兩者間的間隙為零,然后曝光作業(yè),解決17um線寬線距等細線產(chǎn)品用菲林作為掩模版生產(chǎn)的工藝難題。并且由于掩模版由鉻版轉(zhuǎn)為菲林替代,節(jié)約了材料成本。
文檔編號G03F7/20GK201408325SQ20092013834
公開日2010年2月17日 申請日期2009年5月15日 優(yōu)先權(quán)日2009年5月15日
發(fā)明者丁振華, 俞其龍, 黃應(yīng)斌 申請人:廈門高卓立科技有限公司
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