專利名稱：一種顯影腔和顯影機(jī)臺(tái)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體芯片的制造技術(shù)，尤其涉及一種半導(dǎo)體芯片制造過(guò)程中所用的 顯影腔和顯影機(jī)臺(tái)。
背景技術(shù)：
在半導(dǎo)體芯片制造過(guò)程中，硅片經(jīng)涂膠、曝光后需要將經(jīng)顯影機(jī)臺(tái)把硅片上的圖 形顯影出來(lái)，顯影機(jī)臺(tái)的顯影能力直接影響硅片內(nèi)圖形線寬的均勻性及缺陷數(shù)目的多少。SSI機(jī)臺(tái)是semiconductor systems Inc.公司80-90年代生產(chǎn)的涂膠顯影機(jī)臺(tái)， 由于機(jī)臺(tái)能力限制，只適合做大線寬的工藝。對(duì)于小線寬的工藝，其線寬的均勻性較差，缺 陷數(shù)目也較多。SSI150機(jī)臺(tái)的顯影腔結(jié)構(gòu)如圖1所示，包括腔體101、沖水管道102、顯影液管道 103和載片臺(tái)104，其中沖水管道102直徑為0.25英寸，管道口正對(duì)載片臺(tái)104的中心位置，在沖水時(shí)，載 片臺(tái)104帶動(dòng)放置在上面的硅片轉(zhuǎn)動(dòng)，將沖水管道102中流出的水向四周甩開(kāi)，使得整個(gè)硅 片得以清洗；顯影液管道103直徑為0. 0625英寸，位于載片臺(tái)上方的一側(cè)，顯影液流出口與硅 片呈45度角，在顯影過(guò)程中，載片臺(tái)104也帶動(dòng)放置在上面的硅片以較低的速度轉(zhuǎn)動(dòng)。本發(fā)明的發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，由于顯影管道的直徑太小，當(dāng)顯影液的壓力較小時(shí)，顯影液 流量較小，由于重力的原因，噴出的液柱和硅片之間的夾角大于45度，顯影液無(wú)法均勻鋪 滿整個(gè)硅片，導(dǎo)致硅片部分區(qū)域無(wú)法顯影，或者顯影效果很差，雖然噴顯影液的時(shí)間足夠長(zhǎng) 可以達(dá)到完全顯影，但是顯影液在硅片的部分區(qū)域沖噴時(shí)間太長(zhǎng)，會(huì)導(dǎo)致整個(gè)硅片的線寬 不均勻；當(dāng)顯影液壓力大時(shí)，由于沖力的作用，又會(huì)使得顯影液容易被甩出硅片，不能在硅 片上積聚，以至于無(wú)法顯影。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明實(shí)施例提供一種顯影腔和顯影機(jī)臺(tái)，以優(yōu)化SSI系列機(jī)臺(tái)的顯影效果。一種顯影腔，包括腔體(201)、設(shè)置在所述腔體中的沖水管道(20 、顯影液管道 (203)和載片臺(tái)004)，所述顯影液管道(20 的直徑大于0.0625英寸，且所述顯影液管道 (203)的顯影液流出口在所述載片臺(tái)(204)上方，并垂直于所述載片臺(tái)004)。進(jìn)一步，所述顯影液管道Q03)的直徑大于或等于0. 1英寸，并小于或等于0.5英 寸。更進(jìn)一步，所述顯影液管道Q03)的直徑為0. 26英寸。較佳的，所述顯影液管道Q03)的顯影液流出口設(shè)置在所述載片臺(tái)(204)距離中 心1厘米-5厘米的位置的正上方。更佳的，所述顯影液管道Q03)的顯影液流出口設(shè)置在所述載片臺(tái)(204)距離中 心2厘米的位置的正上方。
一種顯影機(jī)臺(tái)，包括顯影腔，所述顯影腔包括腔體001)、沖水管道002)、顯影 液管道(203)和載片臺(tái)(204)，其中所述顯影液管道Q03)的直徑大于0. 0625英寸，且所述顯影液管道(20 的顯影 液流出口在所述載片臺(tái)(204)上方，并垂直于所述載片臺(tái)004)。進(jìn)一步，所述顯影液管道Q03)的直徑大于或等于0. 1英寸，并小于或等于0.5英 寸。更進(jìn)一步，所述顯影液管道Q03)的直徑為0. 26英寸。較佳的，所述顯影液管道Q03)的顯影液流出口設(shè)置在所述載片臺(tái)(204)距離中 心1厘米-5厘米的位置的正上方。更佳的，所述顯影液管道Q03)的顯影液流出口設(shè)置在所述載片臺(tái)(204)距離中 心2厘米的位置的正上方。本發(fā)明實(shí)施例提供一種顯影腔和顯影機(jī)臺(tái)，通過(guò)增大顯影腔內(nèi)顯影液管的直徑， 并且將顯影液管的顯影液流出口的位置改為垂直于載片臺(tái)，從而使得顯影液可以在較短的 時(shí)間內(nèi)在硅片上均勻積聚，使得SSI系列機(jī)臺(tái)的顯影效果得以優(yōu)化。


圖1為現(xiàn)有技術(shù)中顯影腔的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的顯影腔的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施例方式本發(fā)明實(shí)施例提供一種顯影腔和顯影機(jī)臺(tái)，在SSI系列顯影機(jī)臺(tái)的顯影腔基礎(chǔ) 上，增大了顯影液管的直徑，并且將顯影液管的顯影液流出口的位置改為垂直于載片臺(tái)，并 進(jìn)一步使得顯影液管的顯影液流出口在略偏于載片臺(tái)中心的地方，使得顯影液管流出的顯 影液可以在較短的時(shí)間內(nèi)在硅片上積聚，進(jìn)而優(yōu)化顯影效果。如圖1所示，本發(fā)明實(shí)施例提供的一種顯影腔，包括腔體201、沖水管道202、顯影 液管道203和載片臺(tái)204，其中沖水管道202、顯影液管道203和載片臺(tái)204都設(shè)置在腔體201中，載片臺(tái)204用 于放置硅片，并可以帶動(dòng)硅片旋轉(zhuǎn)，沖水管道202設(shè)置在載片臺(tái)204中心的上方，并且出水 口垂直于載片臺(tái)204;本發(fā)明實(shí)施例中顯影液管道203的直徑在原有0. 0625英寸的基礎(chǔ)上適當(dāng)?shù)脑黾樱?以使得顯影液管道203中流出的顯影液在液體的壓力較小的情況下，流量變大，從而能夠 使得顯影液在較短的時(shí)間內(nèi)鋪滿硅片，同時(shí)，使得顯影液管道203垂直于載片臺(tái)204上方的 適當(dāng)位置，這樣從顯影液管道203中流出的顯影液就會(huì)直接落在硅片上的適當(dāng)位置，減小 了泵的壓力對(duì)顯影液落點(diǎn)的影響。本發(fā)明實(shí)施例中顯影液管道203中的顯影液由相應(yīng)的泵泵出，當(dāng)泵的壓力足夠 時(shí)，顯影液管道203的直徑就可以設(shè)置的較大，在增大顯影液管道203的直徑時(shí)，必須考慮 到泵的壓力是否足夠，以使得顯影液管道203中的顯影液可以連續(xù)流出，一般來(lái)講，當(dāng)顯影 液管道203的直徑在0. 1英寸到0. 5英寸之間時(shí)，顯影效果都是比較好的。進(jìn)一步，為使得顯影液更容易在硅片上均勻積聚，防止顯影液在中心沖噴而造成硅片中心位置的線寬和硅片四周差異過(guò)大，可以將顯影液管道203的顯影液流出口設(shè)置 在載片臺(tái)略偏于中心的位置的正上方，這樣顯影液就會(huì)落在略偏于載片臺(tái)中心位置的圓周 上，由于下落時(shí)的沖力和硅片的旋轉(zhuǎn)，顯影液更容易在硅片上均勻的分布，進(jìn)而使得硅片上 的線寬更加均勻，一般來(lái)講，根據(jù)顯影液管道203的直徑，可以將顯影液流出口設(shè)置在載片 臺(tái)204距離中心1厘米到5厘米的位置的正上方。當(dāng)顯影液管道203的直徑為0. 26英寸，顯影液管道203的顯影液流出口設(shè)置在載 片臺(tái)204距離中心2厘米的位置的正上方時(shí)，顯影腔的顯影能力明顯好于改造前，可以達(dá)到 一些先進(jìn)機(jī)臺(tái)的水平。本發(fā)明實(shí)施例還相應(yīng)提供一種顯影機(jī)臺(tái)，顯影機(jī)臺(tái)中包括如上所述的顯影腔，即 該顯影腔如圖1所示，包括腔體201、沖水管道202、顯影液管道203和載片臺(tái)204，其中顯影液管道203的直徑大于0. 0625英寸，且顯影液管道203的顯影液流出口在載 片臺(tái)204上方，并垂直于載片臺(tái)204。顯影液管道203直徑的上限可以根據(jù)將顯影液泵出的泵的壓力設(shè)置，泵的壓力越 大，顯影液管道203的直徑就可以設(shè)置的越大。顯影液管道203的顯影液流出口設(shè)置在載片臺(tái)204上方且略偏于載片臺(tái)204中心 的位置，一般來(lái)講，根據(jù)顯影液管道203的直徑，可以將顯影液流出口設(shè)置在載片臺(tái)204距 離中心1厘米到5厘米的位置的正上方。當(dāng)顯影液管道203的顯影液流出口設(shè)置在載片臺(tái)204距離中心2厘米的位置的正 上方、顯影液管道203的直徑為0. 26英寸時(shí)，該顯影機(jī)臺(tái)的顯影效果明顯得到了提升。本發(fā)明實(shí)施例提供一種顯影腔和顯影機(jī)臺(tái)，通過(guò)增大顯影腔內(nèi)顯影液管的直徑， 并且將顯影液管的顯影液流出口的位置改為垂直于載片臺(tái)，從而使得顯影液可以在較短的 時(shí)間內(nèi)在硅片上均勻積聚，使得SSI系列機(jī)臺(tái)的顯影效果得以優(yōu)化。顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)本發(fā)明實(shí)施例進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本發(fā) 明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù) 的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種顯影腔，包括腔體(201)、設(shè)置在所述腔體中的沖水管道(202)、顯影液管道(203)和載片臺(tái)(204)，其特征在于，所述顯影液管道(203)的直徑大于0.0625英寸，且 所述顯影液管道(203)的顯影液流出口在所述載片臺(tái)(204)上方，并垂直于所述載片臺(tái)(204)。
2.如權(quán)利要求1所述的顯影腔，其特征在于，所述顯影液管道(203)的直徑大于或等于 0.1英寸，并小于或等于0.5英寸。
3.如權(quán)利要求2所述的顯影腔，其特征在于，所述顯影液管道(203)的直徑為0.26英寸。
4.如權(quán)利要求1所述的顯影腔，其特征在于，所述顯影液管道(203)的顯影液流出口設(shè) 置在所述載片臺(tái)(204)距離中心1厘米-5厘米的位置的正上方。
5.如權(quán)利要求4所述的顯影腔，其特征在于，所述顯影液管道(203)的顯影液流出口設(shè) 置在所述載片臺(tái)(204)距離中心2厘米的位置的正上方。
6.一種顯影機(jī)臺(tái)，包括顯影腔，其特征在于，所述顯影腔包括腔體(201)、沖水管道 (202)、顯影液管道(203)和載片臺(tái)(204)，其中所述顯影液管道(203)的直徑大于0.0625英寸，且所述顯影液管道(203)的顯影液流 出口在所述載片臺(tái)(204)上方，并垂直于所述載片臺(tái)(204)。
7.如權(quán)利要求6所述的顯影機(jī)臺(tái)，其特征在于，所述顯影液管道(203)的直徑大于或等 于0. 1英寸，并小于或等于0. 5英寸。
8.如權(quán)利要求7所述的顯影腔，其特征在于，所述顯影液管道(203)的直徑為0.26英寸。
9.如權(quán)利要求6所述的顯影腔，其特征在于，所述顯影液管道(203)的顯影液流出口設(shè) 置在所述載片臺(tái)(204)距離中心1厘米-5厘米的位置的正上方。
10.如權(quán)利要求9所述的顯影腔，其特征在于，所述顯影液管道(203)的顯影液流出口 設(shè)置在所述載片臺(tái)(204)距離中心2厘米的位置的正上方。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種顯影腔和顯影機(jī)臺(tái)，涉及半導(dǎo)體芯片的制造技術(shù)，一種顯影腔，包括腔體(201)、設(shè)置在所述腔體中的沖水管道(202)、顯影液管道(203)和載片臺(tái)(204)，所述顯影液管道(203)的直徑大于0.0625英寸，且所述顯影液管道(203)的顯影液流出口在所述載片臺(tái)(204)上方，并垂直于所述載片臺(tái)(204)。通過(guò)增大顯影腔內(nèi)顯影液管的直徑，并且將顯影液管的顯影液流出口的位置改為垂直于載片臺(tái)，從而使得顯影液可以在較短的時(shí)間內(nèi)在硅片上均勻積聚，使得SSI系列機(jī)臺(tái)的顯影效果得以優(yōu)化。
文檔編號(hào)G03F7/30GK102096343SQ20091024214
公開(kāi)日2011年6月15日 申請(qǐng)日期2009年12月9日 優(yōu)先權(quán)日2009年12月9日
發(fā)明者宋亞坤, 董立武 申請(qǐng)人:北大方正集團(tuán)有限公司, 深圳方正微電子有限公司