專利名稱：具有改進的性能的多層可成像元件的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及在成像和顯影后可烘烤性和耐化學品性方面具有各種改進的性能的正性工作多層可成像元件。本發(fā)明還涉及使用這些元件獲得平版印刷板的方法和由其得到 的圖像。
背景技術：
在常規(guī)或〃濕〃平版印刷中，油墨接受區(qū)(稱為圖像區(qū)域)在親水性表面上產(chǎn)生。 當這種表面用水潤濕并施用油墨時，該親水區(qū)保持水并排斥油墨，油墨接受區(qū)接受油墨并 排斥水。將油墨轉移到其上將要復制圖像的材料的表面上。例如，可以首先將油墨轉移到 中間轉印布(blanket)上，它進而用于將油墨轉移到其上將要復制圖像的材料的表面上。可用于制備平版印刷板的可成像元件通常包括施加在基材的親水性表面上的可 成像層。這種可成像層包括一種或多種可以分散在適合的粘結劑中的輻射敏感性組分。或 者，所述輻射敏感性組分也可以是粘結劑材料。在成像之后，通過適合的顯影劑除去所述可 成像層的成像區(qū)或未成像區(qū)，從而使基材的基礎性親水性表面露出。如果除去成像區(qū)域，則 元件被認為是正性工作的。相反地，如果除去未成像區(qū)域，則元件被認為是負性工作的。在 每種情況下，可成像層的保留的區(qū)域(即，圖像面積)是油墨接受性的，而通過顯影過程露 出的親水表面的區(qū)域接受水和水溶液(通常是潤版溶液)并排斥油墨?？沙上裨米贤夂?或可見輻射的成像通常通過具有透明和不透明區(qū)域的掩 模進行。成像發(fā)生在掩模的透明區(qū)域下的區(qū)域中而不發(fā)生在不透明掩模區(qū)域下的區(qū)域中。 如果最終圖像需要校正，則必須制作新的掩模。這是一個耗時的過程。此外，掩模的尺寸可 能因溫度和濕度的改變而輕微改變。因此，當用在不同的時間或不同的環(huán)境中時，同一掩模 可能給出不同的結果而可能引起套色(registration)問題。直接數(shù)字成像已避免了通過掩模成像的需要而在印刷工業(yè)中變得越來越重 要。已開發(fā)出與紅外激光器一起使用的用于制備平版印刷板的可成像元件。熱可成 像、多層元件例如，在美國專利6，294，311 (Shimazu等)、6，352，812 (Shimazu等)、 6, 593, 055(Shimazu 等)、6，352，811(Patel 等)、6，358，669(Savariar-Hauck 等)和 6，528，228 (Savariar-Hauck 等)，和美國專利申請公開 2004/0067432 Al (Kitson 等)中進 行了描述。美國專利7，049，045 (Kitson 等)、7，144，661 (Ray 等)、7，186，482 (Kitson 等)和 7，247，418 (Saraiya等)描述了具有改進的耐印刷化學品性并可烘烤以增長印刷機運行時 間的多層正性工作可成像元件。此夕卜，U.S. S. N 11/551，259 (由 Patel、Saraiya 和 Tao 于 2006 年 10 月 20 日提 交)描述了顯示改進的熱顯影后可烘烤性的正性工作可成像元件。待解決的問題成像的多層正性工作元件常在顯影后烘烤以增長其印刷機上運行時間。雖然已知 的可成像元件表現(xiàn)出優(yōu)異的成像和印刷性能，但需要改進成像元件的顯影后可烘烤性同時 提高成像敏感性(速度)和保持耐印刷化學品性。具體來說，希望降低烘烤溫度和縮短烘烤時間同時保持印刷機上運行時間。進一步希望提高耐印刷化學品性，而不削弱其它性能。發(fā)明概述本發(fā)明提供包含輻射吸收性化合物和具有親水性表面的基材的正性工作可成像 元件，且所述基材上依次具有包含主聚合物粘結劑的內(nèi)層組合物和油墨接受性外層，條件 是在熱成像后所述元件的曝光區(qū)域可通過堿性顯影劑除去，其中所述主聚合物粘結劑具有 至少40的酸值并由以下結構(I)表示-(A)W-(B)X-(C)X-(D)Z-(I)其中A表示衍生自一種或多種N-烷氧基甲基(烷基)丙烯酰胺或(烷基)丙烯酸烷氧 基甲基酯的重復單元，B表示衍生自一種或多種含側氰基的烯屬不飽和可聚合單體的重復單元，C表示衍生自一種或多種含一個或多個羧基、磺酸或磷酸酯基的烯屬不飽和可聚 合單體的重復單元，D表示衍生自一種或多種除由A、B和C表示的那些以外的烯屬不飽和可聚合單體 的重復單元，w 是 3_80wt %，x 是 10_85wt %，y 是 2_80wt %，z 是 10_85wt %。在另一個方面中，本發(fā)明提供形成圖像的方法，包括A)將本發(fā)明的正性工作可成像元件成像曝光，從而形成具有曝光和未曝光區(qū)域的 成像元件，B)使該成像元件與堿性顯影劑接觸以僅除去該曝光區(qū)域，和C)任選地，按如下所述的方式烘烤該成像和顯影的元件。已發(fā)現(xiàn)本發(fā)明的多層可成像元件具有改進的顯影后可烘烤性(或可固化性)同時 其也具有快速數(shù)字速度和改進的耐印刷室化學品性。具體來說，良好的印刷機上運行時間 成為可能，即便所述成像和顯影的元件在比常規(guī)溫度低的溫度下烘烤(或固化)比常規(guī)時 間少的時間。本發(fā)明方法尤其可用于提供具有親水性含鋁基材的平版印刷板。發(fā)明詳述定義除了文中另有說明以外，否則當在本文中使用時，術語"可成像元件"和"印刷 板前體"的含義參考本發(fā)明的實施方案。此外，除了文中另有說明以外，否則本文中所述的各種組分如內(nèi)層中使用的"主 聚合物粘結劑"和"副聚合物粘結劑"、“輻射吸收化合物"和類似的術語還指這類組分 的混合物。因此，詞語"一個"、“一種"或"該"的使用不一定意味著僅涉及單一組分。除非另有說明，百分數(shù)是指按干燥重量計的百分數(shù)?！嶂怠?或酸價)用已知方法測量，單位為mgKOH/g。對于任何關于聚合物的術語的定義說明，請參考International Unionof Pure and Applied Chemistry(" IUPAC")出版的"Glossary of BasicTerms in Polymer Science"，Pure Appl. Chem. 68，2287-2311 (1996)。然而，任何在本文中明確給出的定義都 應該被認為是決定性的。
除非另有說明，術語"聚合物"是指包括低聚物的高和低分子量聚合物并且包括 均聚物和共聚物。術語"共聚物"是指衍生自兩種或更多種不同單體的聚合物。即，它們包含具有 至少兩種不同化學結構的重復單元。術語"主鏈"是指聚合物中的多個側基可以與之相連接的原子鏈。此種主鏈的一 個實例是由一種或多種烯屬不飽和可聚合單體的聚合獲得的"全碳"主鏈。然而，其它主 鏈可以包括雜原子，其中聚合物是通過縮合反應或一些其它手段形成的。用途所述多層可成像元件可以多種方式使用。優(yōu)選的用途是作為平版印刷板的前體， 這將在下文更詳細地描述。然而，這不意味著是本發(fā)明的唯一用途。例如，可成像元件也可 用在光掩模平版印刷和壓印平版印刷中以及用來制備化學放大抗蝕劑、印刷電路板和微電 子和微光學器件?？沙上裨话愣?，本發(fā)明的可成像元件包括基材、內(nèi)層(也稱"底層")和布置在所述內(nèi) 層上的外層(也稱"頂層")。在熱成像前，所述外層不可被堿性顯影劑除去，但在熱成像 后，所述外層的成像(曝光)區(qū)域可被下述堿性顯影劑除去。所述內(nèi)層也可被堿性顯影劑 除去。可成像元件中存在輻射吸收性化合物，一般是紅外輻射吸收性化合物(下面限定)。 通常，該化合物全部存在于內(nèi)層中，但任選其也可存在于內(nèi)層和外層間的單獨層中?？沙上裨ㄟ^向適宜的基材上適宜地施加內(nèi)層組合物形成。該基材可為未經(jīng)處 理或未經(jīng)涂布的支持體，但在施加內(nèi)層組合物之前其通常以如下所述的各種方式經(jīng)過處理 或涂布。基材通常具有親水表面或至少比外層組合物更親水的表面?；陌ㄖС煮w，其可 以由常用于制備可成像元件例如平版印刷板的任何材料組成。它通常呈片材、膜或箔片形 式，并且在使用條件下是強，穩(wěn)定和撓性的并且抗尺寸變化。通常，支持體可以是任何自撐 材料，包括聚合物膜(例如聚酯、聚乙烯、聚碳酸酯、纖維素酯聚合物和聚苯乙烯膜)，玻璃， 陶瓷，金屬片或箔或剛性紙(包括樹脂涂布和敷金屬的紙)或任何這些材料的疊片(例如 鋁箔疊到聚酯薄膜上的疊片)。金屬支持體包括鋁、銅、鋅、鈦和它們的合金的片材或箔片。聚合物膜支持體可以在一個或兩個表面上用"亞(subbing)“層改性以提高親水 性，或者紙支持體可以類似地被涂布以提高平面性。亞層材料的實例包括但不限于，烷氧基 硅烷，氨基丙基三乙氧基硅烷，縮水甘油氧基丙基三乙氧基硅烷和環(huán)氧基官能化聚合物，以 及鹵化銀感光薄膜中使用的常規(guī)親水性亞材料(例如明膠及其它天然產(chǎn)生和合成的親水 膠體和乙烯基聚合物，包括偏二氯乙烯共聚物)。優(yōu)選的基材包括鋁支持體，其可以使用本領域中已知的技術，包括物理磨版、電化 學磨版、化學磨版和陽極化加以處理。優(yōu)選鋁板已經(jīng)受電化學磨版并用硫酸或磷酸陽極化處理。中間層可以通過使用例如硅酸鹽、糊精、氟化鈣鋯、六氟硅酸、含堿金屬鹵化物 (例如氟化鈉)的堿金屬磷酸鹽溶液、聚(乙烯基膦酸)(PVPA)、乙烯基膦酸共聚物、聚(丙 烯酸)或丙烯酸共聚物處理鋁支持體而形成。優(yōu)選地，使用改進表面親水性的已知程序用 PVPA處理經(jīng)磨版和陽極化的鋁支持體?；牡暮穸瓤梢愿淖兊菓撟阋猿惺苡∷⒌哪p和足夠薄以卷繞印版。例如，許多實施方案包括厚度為100-600 u m的經(jīng)處理的鋁箔?；牡谋趁?非成像側)可以涂有抗靜電劑和/或滑動層或消光層以改進可成像 元件的操作和"觸感"?；囊部梢允瞧渖贤坑懈鞣N層組合物的圓柱形表面，因此是印刷機的組成部分。 此種成像筒體的使用例如在美國專利5，713，287 (Gelbart)中進行了描述。內(nèi)層內(nèi)層布置在外層和基材之間，通常直接布置在上述基材上。內(nèi)層包含一種組合物， 該組合物包括下面更詳細限定的一種或多種主聚合物粘結劑。附加的"副"聚合物粘結劑 (如下所述)是任選的并且可能是有用的。特定主聚合物粘結劑的使用為本發(fā)明的所得可 成像元件提供改進的可烘烤性和耐化學品性。主聚合物粘結劑具有至少40，典型地至少50，且最高至300，更典型地50-150的酸 值。所需酸值通過沿著聚合物主鏈包括各種酸性基提供，所述酸性基通常為下面對C重復 單元描述的側基。所述內(nèi)層組合物也可以定義為在160-220°C下加熱2-5分鐘或通過800_850nm的 全面紅外輻射曝光時"可固化"?！翱晒袒?是指包含主聚合物粘結劑的內(nèi)層組合物在 160-220°C下加熱2-5分鐘或800-850nm的全面紅外輻射曝光下可固化。然后當與PS版消 影劑 PE-3S (Kodak PolychromeGraphics-Japan, Dainippon Ink & Chemicals, Inv.經(jīng)銷) 在室溫下接觸至多10分鐘時，這樣的經(jīng)固化的內(nèi)層組合物不會受損或被除去。此外，當在2- 丁氧基乙醇的80%水溶液或二丙酮醇(或4-羥基-4-甲基-2-戊 酮)的80%水溶液中在25°C下攪拌(例如，攪動或搖動)24小時時，主聚合物粘結劑具有 小于30mg/g的溶解度。聚合物粘結劑可以由以下結構(I)表示-(A)w-(B)x-(C)y-(D)z-(I)其中A表示衍生自一種或多種N-烷氧基甲基(烷基)丙烯酰胺或(烷基)丙烯 酸烷氧基甲基酯的重復單元。有用的A重復單元可以衍生自一種或多種由以下結構(II) 表示的烯屬不飽和單體 其中R是取代或未取代的、支化或直鏈含1-8個碳原子的烷基(例如甲基、甲氧基 甲基、乙基、異丙基、正丁基、正己基、芐基和正辛基)，取代或未取代的、支鏈或直鏈含1-6 個碳原子的烯基(例如烯丙基、乙烯基和1，2-己烯基)，取代或未取代的在碳環(huán)中含5或6 個碳原子的環(huán)烷基(例如環(huán)己基、對甲基環(huán)己基和間_氯代環(huán)己基)或取代或未取代的苯 基(例如苯基、對甲氧基苯基、對乙基苯基和2-氯代苯基)。例如，R可以是取代或未取代 的含1-4個碳原子的烷基、取代或未取代的環(huán)己基或取代或未取代的苯基。R'是氫或取代或未取代的、直鏈或支化的含1-4個碳原子的烷基(例如甲基、甲氧基、乙基、異丙基、叔丁基和正丁基)。典型地，R'是氫或甲基。X 是-0-或-NH-。例如，A重復單元可以衍生自N-甲氧基甲基甲基丙烯酰胺、N-異丙氧基甲基甲基 丙烯酰胺、N-正丁氧基甲基甲基丙烯酰胺、N-乙氧基甲基丙烯酰胺、N-甲氧基甲基丙烯酰 胺、甲基丙烯酸異丙氧基甲基酯、N-環(huán)己氧基甲基甲基丙烯酰胺和甲基丙烯酸苯氧基甲基 酯中一種或多種。B表示衍生自一種或多種含側氰基的烯屬不飽和可聚合單體的重復單元。例如，它 們衍生自一種或多種(甲基)丙烯腈、氰基苯乙烯和氰基丙烯酸酯。C重復單元衍生自一種或多種含一個或多個羧基、磺酸或磷酸酯基的烯屬不飽和 可聚合單體，包括但不限于，(甲基)丙烯酸、羧基苯乙烯、N-羧基苯基(甲基)丙烯酰胺和 (甲基)丙烯?；榛姿狨ァ表示衍生自一種或多種除由A、B和C表示的那些以外的烯屬不飽和可聚合單體 的重復單元，并且可以選自一種或多種由以下結構(D1)至(D5)表示的烯屬不飽和可聚合 單體 其中禮和R2獨立地是氫或取代或未取代的、直鏈或支化的烷基，取代或未取代的 烯基，取代或未取代的苯基，鹵基，烷氧基，?；蝓Ｑ趸蚨Y和R2 —起可以與它們連接的 碳原子形成取代或未取代的環(huán)狀環(huán)。這些基團上的任選的取代基將對本領域技術人員是顯 而易見的。典型地，禮和R2獨立地是氫或取代或未取代的含1-4個碳原子的烷基(例如甲 基或乙基)。民和禮獨立地是氫或取代或未取代的烷基、取代或未取代的苯基或鹵基。典型地， R3和R4獨立地是取代或未取代的含1-6個碳原子的烷基、取代或未取代的苯基和氯基。R5是取代或未取代的烷基、烯基、環(huán)烷基或苯基。典型地，R5是甲基、乙基或芐基。R6至R9獨立地是氫或取代或未取代的烷基、烯基、烷氧基或苯基，鹵基、?；蝓?氧基。典型地，&至1 9獨立地是氫、甲基或乙基。R10是氫或取代或未取代的烷基或苯基，或羥基。典型地，R10是取代或未取代的苯基。所有上面所限定的這些基團的任選的取代基將對本領域技術人員是顯而易見的。因此，D重復單元可以衍生自的單體的類別包括苯乙烯、(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酰胺、N-苯基馬來酰亞胺、異丙基(甲基)丙烯酰胺和馬來酸酐。其它可能類別 將對本領域技術人員是顯而易見的。在結構(I)中，w是 3_80wt % (典型地 10_5wt % )，x 是 10_85wt % (典型地 20-70wt% )，y 是 2-80wt% (典型地 5_50wt% )，z 是 10_85wt% (典型地 20_70wt% )。在一些實施方案中，主聚合物粘結劑包含衍生自以下物質的重復單元N-甲氧基甲基甲基丙烯酰胺、N-異丙氧基甲基甲基丙烯酰胺、N-正丁氧基甲基甲 基丙烯酰胺、N-乙氧基甲基丙烯酰胺、N-甲氧基甲基丙烯酰胺、甲基丙烯酸異丙氧基甲基 酯、N-環(huán)己氧基甲基甲基丙烯酰胺和甲基丙烯酸苯氧基甲基酯中一種或多種，丙烯腈、甲基丙烯腈、(甲基)丙烯酸、對氰基苯乙烯和2-氰基丙烯酸乙基酯中一 種或多種，丙烯酸、甲基丙烯酸、對羧基苯乙烯、對羧基苯基甲基丙烯酰胺和(甲基)丙烯酰 氧基乙基磷酸酯中一種或多種，和苯乙烯、N-苯基馬來酰亞胺、甲基丙烯酰胺和甲基丙烯酸甲酯中一種或多種。一般存在于內(nèi)層組合物中的主聚合物粘結劑的量是40_98wt %，典型地 60-95wt%的范圍，基于總干燥內(nèi)層組合物重量。主聚合物粘結劑一般占內(nèi)層中總聚合物粘 結劑的至少40wt%，典型地60-100wt%。在其它實施方案中，主聚合物粘結劑按10_55wt%的量包含衍生自由以下結構 (II)表示的一種或多種烯屬不飽和單體的重復單元 其中R是含1-8個碳原子的烷基、含1-6個碳原子的烯基、或苯基，R'是氫或含 1-4個碳原子的烷基，X是-0-或-NH-，按20_70wt%的量包含衍生自一種或多種(甲基)丙烯腈、氰基苯乙烯和氰基丙烯 酸酯的重復單元，按5_50wt%的量包含衍生自一種或多種(甲基)丙烯酸、羧基苯乙烯、羧基苯基 (甲基)丙烯酰胺和(甲基)丙烯?；榛姿狨サ闹貜蛦卧?，和按20_70wt%的量包含衍生自一種或多種由以下結構(D 1)至(D5)表示的烯屬不 飽和可聚合單體的重復單元 其中R1和R2獨立地是氫或烷基、烯基、苯基、鹵素、烷氧基、?；蝓Ｑ趸?，或R1和 R2 一起可以與它們連接的碳原子形成環(huán)狀環(huán)，R3和R4獨立地是氫或烷基、苯基或鹵基，R5是烷基、烯基、環(huán)烷基或苯基，R6至R9獨立地是氫或烷基、烯基、苯基、鹵素、烷氧基、?；蝓Ｑ趸?，和R1。是氫或烷基、苯基或羥基，其中所述主聚合物粘結劑按60_95wt%的量存在，所述輻射吸收性化合物是僅以5_25wt%的量存在于內(nèi)層組合物中的紅外吸收性 化合物，基于內(nèi)層的總干重計，所述主聚合物粘結劑占內(nèi)層組合物中所有聚合物粘結劑的60_100wt%。除上述主聚合物粘結劑之外，內(nèi)層組合物還可以包括一種或多種副聚合物粘 結劑，該材料在本領域中一般已知用于多層可成像元件的內(nèi)層。例如，有用的副聚合物 粘結劑包括對用在美國專利 6，294，311,6, 352，812,6, 593，055,6, 352，811,6, 358，669、 6，528，228,7, 049，045,7, 186，482,7, 144，661 和 7，247，418 和美國專利申請公開 2004/0067432中描述的可成像元件的內(nèi)層描述的聚合物粘結劑。這些副聚合物粘結劑在內(nèi) 層組合物中的量是內(nèi)層中總聚合物粘結劑的至多60wt%，典型地至多40wt%。內(nèi)層組合物一般只包含吸收600nm-1400，典型地700nm_1200nm的輻射的輻射吸 收性化合物(例如，"紅外輻射吸收性化合物")，其最小吸收在300-600nm。這種化合 物(有時稱為"光熱轉化材料"或"熱轉化劑")吸收輻射并將它轉化成熱。這種化合物 可為染料或顏料。有用的顏料的實例為ProJet 900、ProJet 860和ProJet 830 (均可自 ZenecaCorporation獲得)。雖然輻射吸收化合物對于用熱體成像來說不是必需的，但含輻 射吸收化合物的可成像元件也可用熱體如熱頭或熱頭陣列成像。有用的IR吸收性化合物還包括炭黑，包括用本領域中熟知的增溶基表面官能化 的炭黑。與親水性、非離子聚合物接枝的炭黑(例如FX-GE-003(由Nippon Shokubai制 造))，或用陰離子基團表面官能化的炭黑例如CAB-0-JET 200或CAB-0-JET 300
(由Cabot Corporation制造)也是有用的。IR染料(特別是可溶于堿性顯影劑的那些)可用于防止顯影劑由于不溶性材料而 弓丨起的淤渣。適合的IR染料的實例包括但不限于，偶氮染料、方酸鐺(squarylium)染料、克酮酸酯(croconate)染料、三芳基胺染料、噻唑鐺染料、吲哚鐺染料、氧雜菁染料、噁唑鐺染 料、花青染料、部花青染料、酞菁染料、吲哚菁染料、吲哚苯胺染料、部苯乙烯基染料、吲哚三 碳菁染料、噁三碳菁染料、硫菁染料、噻三碳菁染料、部花青染料、隱花青染料、萘酞菁染料、 聚苯胺染料、聚吡咯染料、聚噻吩染料、硫代吡啶并亞芳基(chalcogenopyryloarylidene) 和二(硫代吡啶并)聚甲川(bUchalcogenopyrylobolymethine)染料、氧基中氮茚 (oxyindolizine)染料、吡喃鐺染料、吡唑啉偶氮染料、噁嗪染料、萘醌染料、蒽醌染料、醌亞 胺染料、甲川染料、芳基甲川染料、斯夸苷染料、噁唑染料、克酮素(croconine)染料、嚇吩 染料和上述染料類的任何取代的或離子的形式。適合的染料還在許多出版物中進行了描 述，包括美國專利 6，294，311 (Shimazu 等)、6，309, 792 (Hauck 等)、6，569，603 (Furukawa)、 6，264，920 (Achilefu 等)、6，153，356 (Urano 等)、6，787，281 (Tao 等)和 5，208，135 (Patel 等)和EP 1，182，033 Al (Fujimaki等)，和其中引用的參考文獻。
有用的IR吸收性化合物的實例包括ADS-830A和ADS-1064 (American Dye Source, Baie D' Urfe，Quebec, Canada)、EC2117 (FEW, Wolfen, Germany) >Cyasorb IR99 和Cyasorb IR165 (GPTGlendalelnc. Lakeland,FL)和下面實施例中使用的IR吸收性染 料A。近紅外吸收性花青染料也是有用的并在例如美國專利6，309，792 (上面指 出)、6，264，920 (上面指出)、6，153，356 (上面指出)、6，787，281 (上面指出)和 5，496，903 (Watanate等指出)中進行了描述。適合的染料可以使用常規(guī)方法和起始材料形 成或從各種商業(yè)源獲得，包括American Dye Source (Canada)禾口 FEW Chemicals (Germany)。 用于近紅外二極管激光束的其它有用的染料例如，在美國專利4，973，572 (DeBoer)中進行 了描述。除了低分子量IR-吸收性染料之外，還可以使用與聚合物鍵接的IR染料結構部 分。此外，也可以使用IR染料陽離子，即該陽離子是染料鹽的IR吸收性部分，該染料鹽與 側鏈中包含羧基、磺基、磷光體或膦?；木酆衔锇l(fā)生離子相互作用。輻射吸收性化合物可以按一般2% -50%，典型地5-25%的量存在，基于總內(nèi)層干 重。本領域技術人員可容易地確定給定IR吸收化合物的具體用量。內(nèi)層可包括其它組分如表面活性劑、分散助劑、保濕劑、殺生物劑、增粘劑、干燥 齊U、消泡劑、防腐劑、抗氧化劑、著色劑及其它聚合物如線型酚醛樹脂、甲階酚醛樹脂或例如 美國專利7，049，045 (上面指出)中所述的含活性羥甲基和/或活性烷基化羥甲基的樹脂。內(nèi)層一般具有0. 5-3. 5g/m2，典型地1_2. 5g/m2的干涂層覆蓋度。外層外層布置在內(nèi)層上，且在大多數(shù)實施方案中，內(nèi)外層之間沒有中間層。熱暴露后外 層變得可溶或可分散于顯影劑中。其通常包含一種或多種稱為聚合物粘結劑的油墨接受聚 合物材料和溶解抑制劑或著色劑。或者或此外，聚合物粘結劑包含極性基團并同時用作粘 結劑和溶解抑制劑。先前已用于現(xiàn)有技術的多層可熱成像元件的外層中的任何聚合物 粘結劑均可用于可成像元件的外層中。例如，外層聚合物粘結劑可為美國專 禾Ij 6，358，669 (Savariar-Hauck)、6，555，291 (Hauck)、6，352，812 (Shimazu 等)、 6，352，811 (Patel 等)、6，294，3 11 (Shimazu 等)、6，893，782 (Kitson 等)禾口6，645，689 (Jarek)、美國專利申請公開 2003/0108817 (Patel 等)和 2003/0162126 (Kitson 等)及WO 2005/018934(Kitson等)中所述的那些中的一種或多種。
一般而言，外層中的聚合物粘結劑為光不敏感的不溶于水而可溶于含水堿性顯影 劑的含多個酚羥基的成膜酚醛樹脂。酚醛樹脂或在聚合物主鏈上或在側基上含多個酚羥 基。線型酚醛樹脂、甲階酚醛樹脂、含酚基側基的丙烯酸類樹脂、和聚乙烯基酚樹脂是有用 的酚醛樹脂。線型酚醛樹脂有市售并是本領域熟知的。線型酚醛樹脂通常通過酚如苯酚、間甲 酚、鄰甲酚、對甲酚等與醛如甲醛、多聚甲醛、乙醛等或酮如丙酮在酸催化劑存在下的縮合 反應制備。重均分子量通常是1，000-15，000。典型的線型酚醛樹脂包括例如苯酚-甲醛樹 月旨、甲酚_甲醛樹脂、苯酚_甲酚-甲醛樹脂、對叔丁基苯酚_甲醛樹脂和鄰苯三酚_丙酮 樹脂。有用的線型酚醛樹脂通過采用本領域技術人員熟知的條件使間甲酚、間甲酚與對甲 酚的混合物、或苯酚與甲醛反應制備。可溶于溶劑的線型酚醛樹脂足以溶于涂料溶劑中以產(chǎn)生可經(jīng)涂布而產(chǎn)生外層的 涂料溶液。在一些情形下，可能需要使用保持其在常用涂料溶劑如丙酮、四氫呋喃和1-甲 氧基-2-丙醇中的溶解性的最高重均分子量的線型酚醛樹脂。有用的是包含線型酚醛樹 脂的外層，其中所述線型酚醛樹脂包括例如僅間甲酚的線型酚醛樹脂(即含至少97%摩爾 間甲酚的那些)和含至高10%摩爾對甲酚的間甲酚/對甲酚線型酚醛樹脂，重均分子量至 少為10，000，典型地至少25，000。也可使用包含間甲酚/對甲酚線型酚醛樹脂的外層，其 中所述間甲酚/對甲酚線型酚醛樹脂含至少10%摩爾的對甲酚，重均分子量為8，000直至 25，000。在某些情況下，可能需要通過溶劑縮合制得的線型酚醛樹脂。包含這些樹脂的外 層例如在美國專利6，858，359 (Kitson等)中進行了公開。其它有用的酚醛樹脂為聚(乙烯基酚)樹脂，其包括一種或多種含羥苯基的單體 如羥基苯乙烯和(甲基)丙烯酸羥苯酯的聚合物。其它不含羥基的單體可與含羥基的單體 共聚合。這些樹脂可通過使一種或多種單體在自由基引發(fā)劑或陽離子聚合引發(fā)劑的存在下 用已知的反應條件聚合制備。這些聚合物的重均分子量(Mw)為1000-200，OOOg/mol，典型 地 1，500-50, 000g/molο有用的含羥基聚合物的實例包括ALN0V0L SPN452、SPN400, HPN100 (Clariant GmbH), DURITE PD443、 SD423A、 SD 126 A(BordenChemical, Inc.), BAKELITE 6866LB02、AG 6866LB03 (Bakelite AG), KR400/8(Koyo Chemicals Inc.)，HRJ 1085 和 2606 (Schenectadylnternational, Inc.)和 Lyncur CMM(Siber Hegner)，它們都在美國專 利申請公開2005/0037280 (上面指出)中進行了描述。有用的聚合物為下面的實施例中描 述的 PD-140A。連同或代替上述酚醛樹脂，外層還可以包括非酚類聚合物材料作為成膜粘結劑材 料。此類非酚類聚合物材料包括由馬來酸酐和一種或多種苯乙烯屬單體(即，苯環(huán)上含各 種取代基的苯乙烯和苯乙烯衍生物)形成的聚合物、由甲基丙烯酸甲酯和一種或多種含羧 基單體形成的聚合物和它們的混合物。這些聚合物可以包含衍生自所指出的單體的重復 單元以及衍生自附加的，但是任選的單體[例如(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯腈和(甲 基)丙烯酰胺]的重復單元。其它含羥基的聚合物粘結劑還包括熱不穩(wěn)定的結構部分，如 美國專利7，163，777 (Ray等)中所述。
衍生自馬來酸酐的聚合物一般包含1-50摩爾％衍生自馬來酸酐的重復單元，剩 余的重復單元衍生自苯乙烯類單體及任選附加的可聚合單體。
自甲基丙烯酸甲酯和含羧基的單體形成的聚合物一般包含80-98mol%衍 生自甲基丙烯酸甲酯的重復單元。含羧基的重復單元可衍生自例如丙烯酸、甲基丙 烯酸、衣康酸、馬來酸和本領域內(nèi)熟知的類似單體。含羧基的聚合物例如在美國專利 7，169，518 (Savariar-Hauck 等)中進行了描述。外層還可以包含一種或多種含有的環(huán)氧基側基足以提供130_1000(優(yōu)選 140-750)的環(huán)氧當量重量的聚合物粘結劑，如美國專利7，160，653 (Huang等)中所述。含 所需的環(huán)氧基側基的任何成膜聚合物均可使用，包括縮聚物、丙烯酸類樹脂和氨基甲酸酯 樹脂。環(huán)氧基側基可為用來制備聚合物的可聚合單體或反應性組分的一部分或其可在聚合 后用已知的程序添加。外層可以包含一種或多種衍生自一種或多種烯鍵式不飽和可聚合單 體的丙烯酸類樹脂，所述單體中的至少之一包含環(huán)氧基側基。有用的這類聚合物具有通過羧酸酯基如取代或未取代的-C (0) 0-亞烷基、-C (0) 0-亞烷基-亞苯基-或-C (0)0-亞苯基(其中亞烷基含1-4個碳原子)連接到聚合物主鏈 上的環(huán)氧基側基?？捎脕碇苽溥@些聚合物粘結劑的具有環(huán)氧基側基的烯屬不飽和可聚合單 體包括丙烯酸縮水甘油酯、甲基丙烯酸縮水甘油酯、甲基丙烯酸3，4-環(huán)氧環(huán)己酯和丙烯酸 3,4-環(huán)氧環(huán)己酯。含環(huán)氧基的聚合物也可包含衍生自一種或多種不具有環(huán)氧基側基的烯屬不飽和 可聚合單體的重復單元，所述單體包括但不限于(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酰胺、乙 烯基醚、乙烯基酯、乙烯基酮、烯烴、不飽和酰亞胺(如馬來酰亞胺)、N-乙烯基吡咯烷酮、 N-乙烯基咔唑、乙烯基吡啶、(甲基)丙烯腈和苯乙烯類單體。例如，苯乙烯類單體可以與 甲基丙烯酰胺、丙烯腈、馬來酰亞胺、乙酸乙烯酯或N-乙烯基吡咯烷酮結合使用。外層可用的其它聚合物粘結劑包括具有聚合物主鏈和連接到聚合物主鏈上的磺 酰胺側基如-X-C( = T)-NR-S( = 0)2-側基的那些，其中X為氧或酰胺基，T為氧或硫，R為 氫、鹵基或含1-6個碳原子的烷基，如美國專利7，163，770 (Saraiya等)所述。外層中的聚合物粘結劑也可為支化的羥基苯乙烯聚合物，其含衍生自4-羥基苯 乙烯的重復單元，所述重復單元進一步被位于羥基鄰位的重復的4-羥基苯乙烯單元所取 代。所述一種或多種聚合物粘結劑以至少60wt%，典型地65-99. 5wt%的量存在于外 層中。外層一般并任選包含溶解抑制劑，溶解抑制劑起到粘結劑的溶解抑制組分的作 用。溶解抑制劑一般具有極性官能團，其被認為是用作與例如粘結劑的羥基氫鍵結合的 受體部位?？扇苡陲@影劑中的溶解抑制劑是最適合的?；蛘呋虼送?，聚合物粘結劑可含 起到溶解抑制劑作用的溶解抑制性極性基團。有用的溶劑抑制劑化合物在例如美國專利 5，705，308 (West 等)、6，060，222 (West 等)和 6，130，026 (Bennett 等)中進行了描述?？捎米魅芙庖种苿┑暮烧?即季銨化)氮原子的化合物包括例如四烷基銨 化合物、喹啉鐺(quinolinium)化合物、苯并噻唑鐺(benzothiazolium)化合物、吡啶鐺 (pyridinium)化合物和咪唑鐺(imidazolium)化合物。代表性的四烷基銨溶解抑制劑化 合物包括四丙基溴化銨、四乙基溴化銨、四丙基氯化銨、四甲基烷基氯化銨和三甲基烷基溴化銨如三甲基辛基溴化銨和三甲基癸基氯化銨。代表性的喹啉鐺溶解抑制劑化合物包括 1-乙基-2-甲基碘化喹啉鐺、1-乙基-4-甲基碘化喹啉鐺和包含喹啉鐺部分的花青染料如 喹啉藍。代表性的苯并噻唑鐺化合物包括3-乙基-2 (3H)-苯并亞噻唑-2-甲基-1-(丙烯 基)苯并噻唑鐺陽離子染料和3-乙基-2-甲基碘化苯并噻唑。重氮鹽可用作溶解抑制劑化合物并包括例如取代和未取代的二苯胺重氮鹽如甲 氧基取代的二苯胺重氮六氟硼酸鹽?？捎米魅芙庖种苿┗衔锏拇硇曰撬狨グū交撬?乙酯、苯磺酸正己酯、對甲苯磺酸乙酯、對甲苯磺酸叔丁酯和對甲苯磺酸苯酯。代表性的磷 酸酯包括磷酸三甲酯、磷酸三乙酯和磷酸三甲苯酯。有用的砜包括含芳基的那些如二苯砜。 有用的胺包括含芳基的那些如二苯胺和三苯胺?？捎米魅芙庖种苿┗衔锏暮幕衔锇ɡ缛?、酮(特別是芳族酮) 和羧酸酯。代表性的芳族酮包括氧雜蒽酮、黃烷酮、黃酮、2，3_ 二苯基-1-茚酮、苯甲酸 1' -(2'-乙酰萘基)酯、2，6-二苯基-4H-吡喃-4-酮和2，6-二苯基-4H-噻喃-4-酮。 代表性的羧酸酯包括苯甲酸乙酯、苯甲酸正庚酯和苯甲酸苯酯。其它易得的溶解抑制劑為三芳基甲烷染料如乙基紫、結晶紫、孔雀綠、亮綠、維多利亞藍B、維多利亞藍R、維多利亞藍B0、BAS0NYL紫610。這些化合物也可用作將經(jīng)顯影的 可成像元件中的未曝光區(qū)域與曝光區(qū)域區(qū)別開來的對比染料。當外層中存在溶解抑制劑化合物時，其典型地占外層干重的至少0. lwt%，更典型 地 0. 5-3(^1%，或 l-15wt%。或者或此外，外層中的聚合物粘結劑可包含用作與聚合物材料中存在的羥基氫鍵 結合的受體部位的極性基團而因此同時用作粘結劑和溶解抑制劑。這些衍生化聚合物材料 可在外層中單獨使用或其可與其它聚合物材料和/或溶解抑制組分組合。衍生化程度應足 夠高以致聚合物材料可用作溶解抑制劑但又不能高到以致熱成像后聚合物材料不可溶于 顯影劑中。雖然所需的衍生化程度將取決于聚合物材料的性質和引入聚合物材料中的含極 性基團的結構部分的性質，但典型地0. 5mol%到5mol%的羥基將被衍生化。一組包含極性基團并起到溶解抑制劑作用的聚合物材料為其中部分酚羥基已被 轉化為磺酸酯(優(yōu)選苯磺酸酯或對甲苯磺酸酯)的衍生化酚類聚合物材料。衍生化可通過 聚合物材料與例如磺酰氯如對甲苯磺酰氯在堿如叔胺存在下的反應進行。可用的材料為其 中l(wèi)-3mol%的羥基已被轉化為磺酸苯酯或對甲苯磺酸酯(對甲苯磺酰)基團的線型酚醛樹 脂。另一組包含極性基團并起到溶解抑制劑作用的聚合物材料為含重氮萘醌結構部 分的衍生化酚醛樹脂。聚合的重氮萘醌化合物包括通過含重氮萘醌部分的反應性衍生物與 含適宜的反應基團如羥基或氨基的聚合物材料的反應形成的衍生化樹脂。酚醛樹脂用含重 氮萘醌結構部分的化合物的衍生化是本領域熟知的并見述于例如美國專利5，705，308和 5，705，332 (West等)中。用包含重氮萘醌部分的化合物衍生化的樹脂的實例為P-3000 (可 從PCAS，F(xiàn)rance買到)，其為鄰苯三酚/丙酮樹脂的二疊氮化萘醌。為減少用紅外輻射成像的過程中的燒蝕，外層一般基本無輻射吸收化合物，這意 味著那些化合物中沒有哪一個被有意結合于其中且自其它層擴散進其中的量不顯著。因 此，外層中的任何輻射吸收化合物將吸收少于10%的成像輻射，通常少于3%的成像輻射， 且被外層吸收的成像輻射的量(如果有的話)應不足以引起外層的燒蝕。
外層還可以包括其它組分如涂覆表面活性劑、分散助劑、潤濕劑、殺生物劑、增粘齊U、干燥劑、消泡劑、防腐劑、抗氧化劑、著色劑和對比染料。外層一般具有0. 2_2g/m2，典型地0. 4-lg/m2的干涂層覆蓋度。內(nèi)外層之間可布置單獨的層。該單獨的層(或中間層)可用作阻擋層以最大限度 地減少輻射吸收化合物自內(nèi)層向外層的遷移。該中間層通常包含可溶于堿性顯影劑中的聚 合物材料。有用的這類聚合物材料為聚(乙烯醇)。通常，中間層的厚度應小于內(nèi)層厚度的 五分之一?？沙上裨闹苽淇沙上裨赏ㄟ^用常規(guī)涂布或層壓方法如下制備依次在基材(和其上提供的 任何其它親水層)表面上施加內(nèi)層組合物(或配方)，然后在內(nèi)層上施加外層配方。避免內(nèi) 層和外層配方的摻合是重要的。內(nèi)層和外層配方可通過在適合的涂料溶劑中分散或溶解所需成分來施加，并用任 何適宜的設備和程序如旋涂、刮刀涂布、凹版涂布、口模式涂布、狹縫涂布、棒涂、繞線棒涂 布、輥涂或擠出機料斗涂布將所得配方順序或同時地施加到基材上施加。所述配方也可通 過噴涂到適宜的支持體(如印刷機上印刷滾筒)上施加。用來涂布內(nèi)層和外層的溶劑的選擇取決于配方中聚合物材料及其它組分的性質。 為防止當施加外層配方時內(nèi)層和外層配方混合或內(nèi)層溶解，外層應自內(nèi)層的聚合物材料不 可溶于其中的溶劑涂布。通常，內(nèi)層配方自甲基乙基酮(MEK)、1-甲氧基-2-丙醇(PGME)、 Y-丁內(nèi)酯(BLO)和水的溶劑混合物；二乙基酮(DEK)、水、乳酸甲酯和Y-丁內(nèi)酯(BLO) 的混合物；或乳酸甲酯、甲醇和二氧戊環(huán)的混合物涂布。外層配方通常自DEK ；DEK和醋酸 1-甲氧基-2-丙酯的混合物；1，3_ 二氧戊環(huán)、1-甲氧基-2-丙醇(PGME)、γ-丁內(nèi)酯(BLO) 和水的混合物；MEK和PGME的混合物或DEK和丙酮的混合物涂布?；蛘?，內(nèi)層和外層可通過常規(guī)擠出涂布法自各自的層組合物的熔融混合物施加。 通常，這些熔融混合物不包含揮發(fā)性有機溶劑。各種層配方的施加之間可以采用中間干燥步驟，以在涂布其它配方之前除去溶 齊U。干燥步驟也可以有助于防止各種層的混合。制備本發(fā)明可成像元件的代表性方法在下面實施例中示出?？沙上裨梢跃哂腥魏斡杏玫男问剑ǖ幌抻谟∷迩绑w(網(wǎng)幅或板)、印 刷筒、印刷套和印刷帶(包括撓性印刷網(wǎng))。例如，可成像構件是提供平版印刷板的平版印 刷板前體。印刷板前體可以具有任何有用的尺寸與形狀(例如，正方形或矩形)，其中必要的 內(nèi)層和外層置于適合的基材上。印刷筒和套稱為旋轉印刷構件，其具有呈圓柱形的基材和 內(nèi)和外層。中空或實心金屬芯可以用作印刷套的基材。成像和顯影在使用過程中，可成像元件暴露于使用波長600-1500nm，典型地600-1200nm的 激光器的適合的成像輻射(如紅外輻射)源中。用來將本發(fā)明成像構件曝光的激光優(yōu)選 是二極管激光，原因在于二極管激光系統(tǒng)的可靠性和低的維護，但是也可以使用其它激光 例如氣體或固體激光。激光成像的功率、強度和曝光時間的組合對本領域技術人員將是顯 而易見的。當前，可商購的圖像照排機中使用的高性能激光器或激光二極管發(fā)射波長為800-850nm 或 1040_1120nm 的紅外輻射。
成像設備可以僅發(fā)揮印版照排機作用或它可以直接地引入到平版印刷機中。在 后一種情況下，印刷可以在成像之后立即開始，由此大大降低印刷準備時間。成像設備可 以配置為平板式記錄器或鼓式記錄器，其中可成像構件安裝到鼓的內(nèi)或外圓柱表面。有用 的成像設備的實例可作為Creo Trendsetter 圖像照排機從Creo Corporation (Eastman KodakCompany 的子公司(Burnaby，British Columbia, Canada))獲得，其包括發(fā)射波長 830nm的近紅外線輻射的激光二極管。其它適合的成像源包括在1064nm的波長下操作的 Crescent Crescent 42T 印版照排機(可以從 Gerber Scientific, Chicago, IL 獲得)和 Screen PlateRite 4300系列或8600系列印版照排機(可以從Screen，Chicago，IL獲得)。 其它有用的輻射源包括可以用來使元件成像的直接成像印刷機，同時它與印刷板筒體附 接。適合的直接成像印刷機的實例包括Heidelberg SM74-DI印刷機(可以從Heidelberg， Dayton, OH 獲得)。成像能可在50-1500mJ/cm2，典型地75_400mJ/cm2的范圍內(nèi)。更典型地，成像能小 于 140mJ/cm2 或小于 120mJ/cm2。雖然激光成像在本發(fā)明實踐中是通常的，但是可以通過以成像方式提供熱 能的任何其它手段提供成像。例如，成像可用熱阻頭(熱印刷頭)以例如美國專利 5，488，025 (Martin等)中所述及如熱敏傳真機和升華印刷機中所用到的所謂"熱印刷" 完成。熱印刷頭可商購(例如Fujitsu熱頭FTP-040MCS001和TDK熱頭F415HH7-1089)。任何情況下，通常使用直接數(shù)字成像來成像。將圖像信號以位圖數(shù)據(jù)文件存儲在 計算機上。構造位圖數(shù)據(jù)文件以限定色調以及篩選頻率和角度?？沙上裨某上癞a(chǎn)生包括成像(曝光)和未成像(未曝光)區(qū)域的潛像的成像 元件。成像元件用適合的堿性顯影劑顯影將除去外層和其下面的層(包括內(nèi)層)的曝光區(qū) 域而露出基材的親水表面。因此，可成像元件是"正性工作的"。親水表面的曝光(或成 像)區(qū)域排斥油墨而外層的未曝光(未成像)區(qū)域接受油墨。更具體地說，顯影進行的時間應足以除去外層和下層的成像(曝光)區(qū)域而不長 到足以除去外層的未成像(未曝光)區(qū)域。因此，外層的成像(曝光)區(qū)域被描述為在堿性 顯影劑中"可溶的"或"可除去的"，因為其比外層的未成像(未曝光)區(qū)域更易于在堿 性顯影劑中除去、溶解或分散。因此，術語"可溶的"也指"可分散的"或"可除去的"。通常使用常規(guī)加工條件將成像元件顯影。可以使用含水堿性顯影劑和含有機溶劑 的顯影劑。含有機溶劑的堿性顯影劑通常是一種或多種有機有機溶劑的單相溶液，所述有機 溶劑可與水混容。有用的有機溶劑包括苯酚與氧化乙烯和氧化丙烯的反應產(chǎn)物[例如乙二 醇苯基醚(苯氧基乙醇)]，芐醇，乙二醇和丙二醇與含6或更少碳原子的酸的酯，和乙二醇、 二乙二醇和丙二醇與含6或更少碳原子的烷基的醚，例如2-乙基乙醇和2-丁氧基乙醇。有 機溶劑通常以0. 5-15%的量存在，基于總顯影劑重量。尤其有用的堿性顯影劑是含有機溶劑的pH值小于12或通常7-12的顯影劑。代 表性的含溶劑的堿性顯影劑包括ND-I顯影劑、955顯影劑和956顯影劑(可以從Eastman Kodak Company 獲得)。含水堿性顯影劑通常具有至少7，優(yōu)選至少11的pH值。有用的堿性顯影劑水溶液包括3000顯影劑、9000顯影劑、GoldStar 顯影劑、GreenStar顯影劑、ThermalPro顯影劑、 Protherm 顯影劑、MX1813顯影劑和MXinO顯影劑(都可以從Eastman Kodak Company 獲得)。這些組合物還通常包括表面活性劑、螯合劑(例如亞乙基二胺四乙酸的鹽)和堿性 組分(例如無機偏硅酸鹽、有機偏硅酸鹽、氫氧化物和碳酸氫鹽)。還可能的是，堿性顯影劑含一種或多種硫代硫酸鹽或含被親水基團如羥基、聚氧 化乙烯鏈或PKa小于7 (更優(yōu)選小于5)的酸性基或其相應的鹽(如羧基、磺基、磺酸鹽、硫酸 鹽、膦酸和磷酸鹽基團)所取代的烷基的氨基化合物。尤其有用的這類氨基化合物包括但 不限于單乙醇胺、二乙醇胺、甘氨酸、丙氨酸、氨基乙基磺酸和其鹽、氨基丙基磺酸和其鹽、 及Jeffamine化合物(如氨基封端的聚氧化乙烯)。含溶劑的顯影劑的pH可為堿性的、中 性的或略酸性的。
通常，通過用含顯影劑的涂布器摩擦或擦拭外層將堿性顯影劑涂布到成像元件 上?；蛘撸梢杂蔑@影劑刷成像元件或可以通過用足夠除去曝光區(qū)域的力通過噴涂外層來 施加顯影劑。同樣，可以將成像元件浸于顯影劑中。在所有情況下，將產(chǎn)生顯影的圖像，所 述顯影的圖像對印刷室化學品，例如下面實施例中的各種溶劑試驗所示的印刷室化學品具 有優(yōu)異的耐性。顯影之后，可以用水沖洗成像元件并按適合的方式干燥。還可以用常規(guī)的樹膠溶 液(優(yōu)選阿拉伯膠)處理干燥的元件。顯影后烘烤也可以將成像和顯影的元件在后烘烤操作中烘烤(或固化)，這可以進行以提高 所獲成像元件的運行時間。烘烤可在適合的烘箱中在例如低于300°C，典型地低于250°C的 溫度下進行2-10分鐘。例如，烘烤在160-220°C的溫度下非常快速地進行2_5分鐘。或者，成像并顯影的元件(例如，印刷板)可通過全面暴露于波長800-850nm的IR 輻射下"烘烤"或固化。該曝光產(chǎn)生在極小變形的同時實現(xiàn)非?？煽氐暮婵拘Ч臈l件。 例如，可使已成像并顯影的元件(例如，平版印刷板)以4英尺(1. 3m)每分鐘的速率通過紅 外燈功率設置為45%的市售QuickBake 1250烘箱(可自Eastman Kodak Company買到) 以獲得與在200°C的烘箱中加熱元件2分鐘所獲得的相似的烘烤結果。印刷可以通過將平版油墨和潤版溶液施涂到成像元件的印刷面上進行印刷。通過外層 的未成像(未曝光或未去除)區(qū)域吸收油墨，并且通過成像和顯影處理而露出的基材親水 表面吸收潤版溶液。然后將該油墨轉移至適合的接收材料(例如布、紙、金屬、玻璃或塑料) 而在其上提供圖像的所需壓印。如果需要的話，可以使用中間"轉印布"輥來將油墨從成 像構件轉移到接收材料。如果需要的話，在壓印之間使用常規(guī)的清潔工具和化學物質清潔 成像構件。提供以下實施例來說明本發(fā)明實踐，但是在任何情況下都沒有以任何方式限制 本發(fā)明的意圖。實施例中用到的材料和方法下述材料用于實施例。除非另有說明，化學組分均可從諸多商品來源包括Aldrich Chemical Company (Milwaukee, WI)獲得。AIBN是偶氮二異丁腈[自由基引發(fā)劑，從DuPont (Wilmington，DE)獲得的 Vazo-64]。
BLO 代表 Y-丁內(nèi)酯。Byk 307是多乙氧基化二甲聚硅氧烷共聚物，它從Byk Chemie (ffallingford, CT)按IOwt % PGME溶液獲得。Dll染料為N-[4-[[4_( 二乙氨基)苯基][4_(乙氨基)_1_萘基]亞甲基]_2， 5-環(huán)己二烯-1-叉基]-N-乙基乙銨5-苯甲酰-4-羥基-2-甲氧基苯磺酸(1 1)鹽，由 PCAS (Longjumeau, France)供應。DAA表示二丙酮醇。DEK代表二乙基酮。956顯影劑為基于有機溶劑(苯氧基乙醇)的堿性負性顯影劑，可從EastmanKodak Company (Norwalk, CT)買至Ij0DMAC代表N，N-二甲基乙酰胺。乙基紫為 C. I. 42600 (CAS 2390-59-2，λ max = 596nm)，式為 (P-(CH3CH2)2NC6H4) 3C+Cr。IR染料A由下式表示 MEK表示甲基乙基酮。Ρ-3000代表1，2-萘醌_5_磺酰氯與鄰苯三酚/丙酮縮合物的反應產(chǎn)物(PCAS， Longjumeau, France)。PD-140為甲酚/甲醛線型酚醛樹脂(間甲酚/對甲酚75 25) (BordenChemical， Louisville, KY)。PGME 表示 1-甲氧基 _2_ 丙醇(或 Dowanol PM)。RX-04表示衍生自苯乙烯和馬來酸酐的共聚物，自Gifu(日本)獲得。合成實施例Sl (聚合物A-本發(fā)明)將八比則0.4力、？10(4.(^)、丙烯腈(9. Og)、甲基丙烯酸(2. Og)、N-甲氧基甲基甲 基丙烯酰胺(3. Og)、甲基丙烯酰胺(2. Og)和DMAC(SOg)放入配備有磁力攪拌、溫度控制器、 冷凝器和N2入口的500ml 3-頸燒瓶中。將反應混合物加熱到60°C并在N2保護下攪拌16 小時，此后，添加AIBN(0. Ig)并再繼續(xù)反應6小時。在攪拌同時將反應混合物緩慢地滴入 3000ml冰水并形成沉淀。在50°C以下過濾和干燥之后，獲得16. 2g所需固體聚合物。通過將0.5028聚合物々與20.(^ 80%的2_ 丁氧基乙醇(在水中)混合并在25°C 下攪拌一整夜( 16h)估算聚合物A的溶解度(耐溶劑性)。過濾所得的混合物并用20ml水洗滌三次。在45°C下干燥回收的聚合物A24小時，提供0.481g。此外，在20. Og 80%的 二丙酮醇(在水中)混合0. 504g聚合物A并回收0. 473g聚合物A。在任一溶劑中獲得大 約1. 5mg/g的溶解度。合成實施例S2 (聚合物B-本發(fā)明) 將AIBN(1. 6g)、PMI (24. Og)、丙烯腈(36. Og)、甲基丙烯酸(12. 0g)、N_ 甲氧基甲基 甲基丙烯酰胺(8. Og)和DMAC(320g)放入配備有磁力攪拌、溫度控制器、冷凝器和N2入口 的IOOOml 3-頸燒瓶中。將反應混合物加熱到60°C并在N2保護下攪拌16小時，此后，添加 AIBN(0. Ig)并再繼續(xù)反應6小時。在攪拌同時將反應混合物緩慢地滴入12升冰水并形成 沉淀。在50°C以下過濾和干燥之后，獲得69g所需固體聚合物。合成實施例S3 (聚合物C-對比，沒有重復單元A)將AIBN (0. 3g)、PMI (7. Og)、丙烯腈(10. Og)、甲基丙烯酸(3. Og)和 DMAC (80g)放 入配備有磁力攪拌、溫度控制器、冷凝器和N2入口的500ml 3-頸燒瓶中。將反應混合物加 熱到60°C并在N2保護下攪拌16小時。在攪拌同時將反應混合物緩慢地滴入2000ml冰水 并形成沉淀。在50°C以下過濾和干燥之后，獲得16g所需固體聚合物。合成實施例S4 (聚合物D-對比，沒有重復單元B)將AIBN(0.4g)、PMI (10. Og)、甲基丙烯酸(3. Og)、N-甲氧基甲基甲基丙烯酰胺 (2. Og)、甲基丙烯酰胺(5. Og)和DMAC(SOg)放入配備有磁力攪拌、溫度控制器、冷凝器和N2 入口的500ml 3-頸燒瓶中。將反應混合物加熱到80°C并在N2保護下攪拌16小時。在攪 拌同時將反應混合物緩慢地滴入3000ml冰水并形成沉淀。在50°C以下過濾和干燥之后，獲 得18. 2g所需固體聚合物。合成實施例S5 (聚合物E-對比，沒有重復單元C)將AIBN(0. 8g)、PMI (8. Og)、丙烯腈(18. 0g)、N_甲氧基甲基甲基丙烯酰胺(6. Og)、 甲基丙烯酰胺(8. Og)和DMAC(160g)放入配備有磁力攪拌、溫度控制器、冷凝器和N2入口的 500ml 3-頸燒瓶中。將反應混合物加熱到70°C并在N2保護下攪拌16小時。在攪拌同時 將反應混合物緩慢地滴入3000ml冰水并形成沉淀。在50°C以下過濾和干燥之后，獲得35g 所需固體聚合物。合成實施例S6 [N- (4-羧基苯基)甲基丙烯酰胺(N-BAMAAm)]將乙腈(300ml)、甲基丙烯酸(47. 6g)和氯甲酸乙基酯(60. 05g)添加在配備有暖 氣罩、溫度控制器、機械玻璃攪拌器、冷凝器、壓力補償加料漏斗和氮氣入口的2-升4-頸圓 底玻璃燒瓶中。然后在室溫下經(jīng)一小時緩慢地添加三乙胺(55. Sg)，同時維持反應溫度最大 在40°C。然后在室溫下再攪拌反應混合物一小時。除去三乙胺鹽酸鹽(TEA:HC1)并獲得 TEA:HC1鹽的理論量。將該母液加回燒瓶并添加4-氨基苯甲酸(68.55g)。然后將反應混 合物加熱到50°C并保持3小時。在2. 5升0. INHCl溶液中使該混合物沉淀并用1. 25升水 洗滌。通過過濾收集粉末并在真空烘箱中在40°C以下干燥一整夜。合成實施例S7 (聚合物F-對比)將二甲基乙酰胺(65g)、N-BAMAAm(6. 5g)、丙烯腈(8. 4g)、甲基丙烯酰胺(1. 7g)、 N-苯基馬來酰亞胺(0.9g)和AIBN(0. 175g)添加到配備有暖氣罩、溫度控制器、機械攪 拌器、冷凝器、壓力補償加料漏斗和氮氣入口的500ml 4-頸圓底玻璃燒瓶中。在氮氣氣 氛下將該反應混合物加熱到80°C。然后經(jīng)兩小時在80°C下添加二甲基乙酰胺(100g)、N-BAMAAm(19. 4g)、丙烯腈(25. 2g)、甲基丙烯酰胺(5. 3g)、N-苯基馬來酰亞胺(2. 6g)和 Vazo-64(0. 35g)的預混合物。再繼續(xù)反應混合物八小時并再添加AIBN(0. 35g)兩次。基 于非揮發(fā)物的百分數(shù)測定，聚合物轉化率>99%。使用乙醇/水(60 40)使用Lab Dispersator (4000RPM)使樹脂溶液以粉末沉淀并過濾，在乙醇中使該淤漿再溶解并過濾。 在室溫下干燥所得的粉末48小時。所得的產(chǎn)率是85%。合成實施例S8 (聚合物G-對比)
將甲基溶纖劑(199. 8g)、N-甲氧基甲基甲基丙烯酰胺(18g)、甲基丙烯酸芐基酯 (11. 4g)、甲基丙烯酸(3g)、十二烷硫醇(0. 075g)和AIBN(0. 6g)添加到配備有暖氣罩、溫度 控制器、機械攪拌器、冷凝器、壓力補償加料漏斗和氮氣入口的500ml 4-頸圓底玻璃燒瓶 中。在氮氣氣氛下將該反應混合物加熱到80°C。然后，經(jīng)兩小時在80°C下添加N-甲氧基甲 基甲基丙烯酰胺(55g)、甲基丙烯酸芐基酯(34g)、甲基丙烯酸(9g)、十二烷硫醇(0. 225g) 和AIBN(1.2g)的預混合物。再繼續(xù)反應混合物八小時并再添加AIBN(0.35g)兩次。使用 DI水/冰(3 1)和Lab Dispersator (4000RPM)使樹脂溶液以粉末沉淀，然后過濾。在室 溫下干燥所得的粉末24小時。第二天，將含所需聚合物的托盤放入110° F(43°C)的烘箱 中再放置兩天。產(chǎn)率是95%。以下合成實施例S9-S11證實，為了制備用于可成像元件內(nèi)層的聚合物粘結劑， N-羥甲基(甲基)丙烯酸酯不是適合的提供"A"重復單元的單體。在聚合物合成期間發(fā) 生凝膠化，表明N-羥甲基(甲基)丙烯酸酯是不穩(wěn)定的并傾向于交聯(lián)。合成實施例S9 (聚合物H-對比)將二甲基乙酰胺(51. 5g)、N-苯基馬來酰亞胺(5. Og)、丙烯腈(11. Og)、甲基丙烯 酸(2. 5g)、N-羥甲基甲基丙烯酰胺(6. 6g，可以從ABCRGermany作為MP9078獲得，60%的 水溶液)、甲基丙烯酰胺(2. 5g)和AIBN(0. 25g)加入配備有暖氣罩、溫度控制器、機械攪拌 器、冷凝器、壓力補償加料漏斗和氮氣入口的500ml 4-頸圓底玻璃燒瓶中。在氮氣氣氛下 將該反應混合物加熱到80°C。然后，在80°C下將二甲基乙酰胺(89. 7g)、N-苯基馬來酰亞 胺(15. Og)、丙烯腈(34. Og)、甲基丙烯酸(7. 5g)、N-羥甲基甲基丙烯酰胺(18. 3g)、甲基丙 烯酰胺(7. 5g)和AIBN(0. 5g)的預混合物添加到該燒瓶中。在該添加完成之前發(fā)生凝膠化。合成實施例SlO (聚合物I-對比)將二甲基乙酰胺(51. 5g)、N-苯基馬來酰亞胺(7. 5g)、丙烯腈(11. Og)、甲基丙烯 酸(4. Og)、N-羥甲基甲基丙烯酰胺(4. Og)和AIBN(0. 25g)加入配備有暖氣罩、溫度控制 器、機械攪拌器、冷凝器、壓力補償加料漏斗和氮氣入口的500ml 4-頸圓底玻璃燒瓶。在氮 氣氣氛下將該反應混合物加熱到80°C。然后，在80°C下經(jīng)兩小時將二甲基乙酰胺(93. 3g)、 N-苯基馬來酰亞胺(22. 5g)、丙烯腈(34. Og)、甲基丙烯酸(11. Og)、N-羥甲基甲基丙烯酰 胺(12. 7g)和AIBN(0. 5g)的預混合物添加到該燒瓶中。在完成該添加后一小時，發(fā)生凝膠 化。合成實施例Sll (聚合物J-對比)將二甲基乙酰胺(44. 8g)、N_苯基馬來酰亞胺(12. 5g)、甲基丙烯酸(4g)、N_羥甲 基甲基丙烯酰胺(4. Og)、甲基丙烯酰胺(6. Og)和AIBN(0. 25g)加入配備有暖氣罩、溫度控 制器、機械攪拌器、冷凝器、壓力補償加料漏斗和氮氣入口的500ml 4-頸圓底玻璃燒瓶。在 氮氣氣氛下將該反應混合物加熱到80°C。然后，在80°C下將二甲基乙酰胺(IOOg)、N-苯基馬來酰亞胺(37. 5g)、甲基丙烯酸(11. Og)、N-羥甲基甲基丙烯酰胺(12. 7g)、甲基丙烯酰胺 (19. Og)和AIBN(0.5g)的預混合物添加到該燒瓶中。在該添加完成之前發(fā)生凝膠化。發(fā)明實施例1+勿A ^liHt牛工成/象元丄件
如下制備根據(jù)本發(fā)明的多層可成像元件內(nèi)層通過將本發(fā)明聚合物A (5. 25g)溶解在BLO (9. 27g)、PGME (139g)、 MEK(60. 26g)和水(927g)的溶劑混合物中制備涂料組合物。然后將IR染料A(0. 94g)和 D1K0. 04g)添加到這一溶液中接著添加在PGME(0. 19g)中的10%Byk 307。將所得的溶 液涂布到鋁基材上而獲得1. 5g/m2的干涂層重量。夕卜層將RX-04(4. 971g)、乙基紫(0. 014g)、10 % Byk 307 (0. 149g)、 DEK(85. 38g)和丙酮(9. 48g)的涂料配方涂布在內(nèi)層上而獲得0. 5g/m2的干涂層重量。在具有發(fā)射波長830nm的激光二極管陣列及80-167mJ/cm2的多種曝光能量的常 規(guī)Creo Trendsetter 3244 (Kodak)印版照排機上將該可成像元件熱成像。使用956顯 影劑(得自Kodak)在NE-34處理器中將曝光的元件顯影，從而除去曝光區(qū)域以露出親水性 基材。所得的平版印刷板在顯影后在大約90mJ/cm2曝光量下顯示好的圖像(外形凈化點 (clean-outpoint))0發(fā)明實施例2+勿B(yǎng) ^liHt牛工成/象元丄件如下制備本發(fā)明的多層可成像元件內(nèi)層通過將本發(fā)明聚合物A(5. 25g)溶解在BLO(9. 27g)、PGME(13. 9g)、 MEK (60. 26g)和水(9.27g)的溶劑混合物中制備涂料組合物。然后將IR染料A (0. 94g)和 D1K0. 04g)添加到這一溶液中接著添加在PGME(0. 19g)中的10%Byk 307。將所得的溶 液涂布到鋁基材上而獲得1. 5g/m2的干涂層重量。外層將P3000(4. Olg)、乙基紫(0. 014g) UO%Byk 307 (0. 149g)、DEK(85. 3g)
和丙酮(9. 5g)的涂料配方涂布在內(nèi)層上而獲得0. 5g/m2的干涂層重量。在具有發(fā)射波長830nm的激光二極管陣列及80-167mJ/cm2的多種曝光能量的常 規(guī)Creo Trendsetter 3244 (Kodak)上將該可成像元件熱成像。使用956顯影劑(得自 Kodak)在NE-34處理器中將曝光的元件顯影，從而除去曝光區(qū)域以露出親水性基材。所得 的平版印刷板在顯影后在大約103mJ/cm2曝光量下顯示好的圖像(外形凈化點)。對比實施例1 內(nèi)層中含聚合物C的ιΗ性工作多層可成像元件如發(fā)明實施例1所述制備多層可成像元件，不同在于使用聚合物C替代聚合物A。對比實施例2 內(nèi)層中含聚合物D的ιΗ性工作多層可成像元件如發(fā)明實施例1所述制備多層可成像元件，不同在于使用聚合物D替代聚合物A。對比實施例3 內(nèi)層中含聚合物E的ιΗ性工作多層可成像元件如發(fā)明實施例1所述制備多層可成像元件，不同在于使用聚合物E替代聚合物A。對比實施例4 在內(nèi)層中使用聚合物F和G的ιΗ性工作多層可成像元件(得自USSN 11/551. 259的實施例1)通過在9. 27g BL0、13.9g PGME、60. 27g MEK和9. 27g水的溶劑混合物中溶解 3.834g聚合物F和2. 13g聚合物G制備內(nèi)層涂料配方。然后將IR染料A (1. 06g)添加到這 一溶液中接著添加0. 2iig Byk 307 (在pgme中的10%溶液)。將所得的溶液涂布到磨版并陽極化的鋁平版印刷基材上以提供1. 5g/m2干內(nèi)層重量。通過混合1.503g P3000、3. 469g PD_140、0. 014g 乙基紫、0. 149g在 85. 38g DEK 中
的lo%Byk 307、和9. 48g丙酮制備外層配方。將這種配方涂布在上述內(nèi)層配方上以提供 0. 5g/m2的干外層重量。在具有發(fā)射波長830nm的激光二極管陣列及60-140mJ/cm2的多種曝光能量的可 商購Cre0Trendsette:r 3244上將該干燥的可成像元件熱成像。在商業(yè)處理器中用956顯 影劑顯影所得的成像元件。獲得所需圖像的最低能量為大約lOOmJ/cm2。通過下列方法(a)-(d)試驗上述全部可成像元件以評價它們的對提供高質量印 刷板前體可能重要的性能。結果概括在下表I中。(a)顯影劑清潔時間試驗當應用顯影劑956時，這是完全或充分除去內(nèi)層而不存 在外層的時間。對于獲得好的圖像，5-20秒的清潔時間認為是合適的。(b)BC滴落試驗以至多15分鐘的規(guī)則間隔將丁基溶纖劑(80%水溶液)溶液滴 到內(nèi)層表面上。所使用的評定等級是優(yōu)異(至15分鐘沒有明顯的涂層損壞)、好(至10 分鐘沒有明顯的涂層損壞)和差(在5分鐘內(nèi)有明顯的涂層損壞)。(C)DAA滴落試驗以至多15分鐘的規(guī)則間隔將二丙酮醇(或4_羥基_4_甲 基-2-戊酮，80%水溶液)溶液滴到內(nèi)層表面上。所使用的評定等級是優(yōu)異(至15分鐘 沒有明顯的涂層損壞)、好(至10分鐘沒有明顯的涂層損壞)和差(在5分鐘內(nèi)有明顯的 涂層損壞)。(d)熱可烘烤性試驗以至多5分鐘的規(guī)則間隔將PS板圖像去除劑PE-35 (得自 DIC, Japan)施涂于已經(jīng)在190°C下烘烤2分鐘的內(nèi)層表面上。所使用的評定等級是優(yōu)異 (至5分鐘沒有明顯的涂層損壞)、好(至1分鐘沒有明顯的涂層損壞)和差(在1分鐘內(nèi) 有明顯的涂層損壞)。表 I 這些結果 (表I)顯示根據(jù)本發(fā)明制備的聚合物(含衍生自結構I的全部A、B、C 和D重復單元)在可顯影性、耐溶劑性和熱可烘烤性試驗中提供最佳性能。
權利要求
包含輻射吸收性化合物和具有親水性表面的基材的正性工作可成像元件，且所述基材上依次具有包含主聚合物粘結劑的內(nèi)層組合物和油墨接受性外層，條件是在熱成像后所述元件的曝光區(qū)域可通過堿性顯影劑除去，其中所述主聚合物粘結劑具有至少40的酸值并由以下結構(I)表示-(A)w-(B)x-(C)y-(D)z-(I)其中A表示衍生自一種或多種N-烷氧基甲基(烷基)丙烯酰胺或(烷基)丙烯酸烷氧基甲基酯的重復單元，B表示衍生自一種或多種含側氰基的烯屬不飽和可聚合單體的重復單元，C表示衍生自一種或多種含一個或多個羧基、磺酸或磷酸酯基的烯屬不飽和可聚合單體的重復單元，D表示衍生自一種或多種除由A、B和C表示的那些以外的烯屬不飽和可聚合單體的重復單元，w是3-80wt％，x是10-85wt％，y是2-80wt％，z是10-85wt％。
2.權利要求1的元件，其中所述內(nèi)層組合物在160-220°C下加熱2-5分鐘或通過 800-850nm的全面紅外輻射曝光時可固化。
3.權利要求1的元件，其中所述主聚合物粘結劑具有至少50的酸值。
4.權利要求1的元件，其中所述A重復單元衍生自一種或多種由以下結構(II)表示的 烯屬不飽和單體R'RVO(II)其中R是含1-8個碳原子的烷基、含1-6個碳原子的烯基、環(huán)烷基或苯基，R'是氫或含 1-4個碳原子的烷基，X是-0-或-NH-。
5.權利要求1的元件，其中所述B重復單元衍生自一種或多種(甲基)丙烯腈、氰基苯 乙烯和氰基丙烯酸酯。
6.權利要求1的元件，其中所述C重復單元衍生自一種或多種(甲基)丙烯酸、羧基苯 乙烯、N-羧基苯基(甲基)丙烯酰胺和(甲基)丙烯?；榛姿狨?。
7.權利要求1的元件，其中所述D重復單元衍生自一種或多種由以下結構(D1)至(D5) 表示的烯屬不飽和可聚合單體 (D5)其中禮和R2獨立地是氫或烷基、烯基、苯基、鹵素、烷氧基、酰基或酰氧基，或禮和R2 — 起可以與它們連接的碳原子形成環(huán)狀環(huán)， R3和R4獨立地是氫或烷基、苯基或鹵基， R5是烷基、烯基、環(huán)烷基或苯基，R6至R9獨立地是氫或烷基、烯基、苯基、鹵基、烷氧基、酰基或酰氧基，和 R10是氫或烷基、苯基或羥基。
8.權利要求1的元件，其中所述主聚合物粘結劑包含衍生自以下物質的重復單元 N-甲氧基甲基甲基丙烯酰胺、N-異丙氧基甲基甲基丙烯酰胺、N-正丁氧基甲基甲基丙烯酰胺、N-乙氧基甲基丙烯酰胺、N-甲氧基甲基丙烯酰胺、甲基丙烯酸異丙氧基甲基酯、 N-環(huán)己氧基甲基甲基丙烯酰胺和甲基丙烯酸苯氧基甲基酯中一種或多種，丙烯腈、甲基丙烯腈、(甲基)丙烯酸、對氰基苯乙烯和2-氰基丙烯酸乙酯中一種或多種，丙烯酸、甲基丙烯酸、對羧基苯乙烯、對羧基苯基甲基丙烯酰胺和(甲基)丙烯酰氧基 乙基磷酸酯中一種或多種，和苯乙烯、N-苯基馬來酰亞胺、甲基丙烯酰胺和甲基丙烯酸甲酯中一種或多種。
9.權利要求1的元件，其中所述主聚合物粘結劑按40-98wt%的量存在。
10.權利要求1的元件，其中w是10-55wt%，x是20-70wt%，y是5_50wt%，z是 20-70wt%o
11.權利要求1的可成像元件，其中所述輻射吸收性化合物是紅外吸收性化合物，它按 2-50wt%的量存在于所述內(nèi)層組合物中，基于所述內(nèi)層的總干重計。
12.權利要求1的可成像元件，其中所述輻射吸收性化合物僅存在于所述內(nèi)層組合物 中，且所述主聚合物粘結劑占所述內(nèi)層組合物中的所有聚合物粘結劑的至少40wt%。
13.權利要求1的可成像元件，其中在熱成像后，所述元件的曝光區(qū)域可通過含有機溶 劑的PH值小于12的顯影劑除去。
14.權利要求1的可成像元件，其中當在2-丁氧基乙醇的80%水溶液或二丙酮醇的 80%水溶液中在25°C下攪拌24小時時，所述主聚合物粘結劑具有小于30mg/g的溶解度。
15.權利要求1的可成像元件，它是具有親水性含鋁基材的平版印刷板前體。
16.一種形成圖像的方法，包括A)將權利要求1的正性工作可成像元件成像曝光，從而形成具有曝光和未曝光區(qū)域的 成像元件，B)使所述成像元件與堿性顯影劑接觸以僅除去所述曝光區(qū)域，和C)任選地，烘烤所述成像并顯影的元件。
17.權利要求16的方法，其中所述成像曝光用提供波長600-120nm的輻射的紅外激光 器進行，并且使所述成像元件與PH值小于12的堿性顯影劑接觸。
18.權利要求16的方法，其中所述成像和顯影的元件在160-220°C下烘烤2-5分鐘或 通過800-850nm的全面紅外輻射曝光。
19.權利要求15的方法，其中所述主聚合物粘結劑按10-55wt%的量包含衍生自一種或多種由以下結構(II)表示的烯屬不飽和單體的重復單元， (H)其中R是含1-8個碳原子的烷基、含1-6個碳原子的烯基、或苯基，R'是氫或含1-4個 碳原子的烷基，X是-0-或-NH-，按20-70wt%的量包含衍生自一種或多種(甲基)丙烯腈、氰基苯乙烯和氰基丙烯酸酯 的重復單元，按5-50wt%的量包含衍生自一種或多種(甲基)丙烯酸、羧基苯乙烯、羧基苯基(甲 基)丙烯酰胺和(甲基)丙烯?；榛姿狨サ闹貜蛦卧桶?0-70wt%的量包含衍生自一種或多種由以下結構(D1)至(D5)表示的烯屬不飽和 可聚合單體的重復單元 (D5)其中禮和R2獨立地是氫或烷基、烯基、苯基、鹵素、烷氧基、?；蝓Ｑ趸?，或禮和R2 — 起可以與它們連接的碳原子形成環(huán)狀環(huán)， R3和R4獨立地是氫或烷基、苯基或鹵基， R5是烷基、烯基、環(huán)烷基或苯基，R6至R9獨立地是氫或烷基、烯基、苯基、鹵素、烷氧基、?；蝓Ｑ趸?，和R10是氫或烷基、苯基或羥基，其中所述主聚合物粘結劑按60-95wt%的量存在，所述輻射吸收性化合物是紅外吸收 性化合物，它僅按5-25襯％的量存在于所述內(nèi)層組合物中，基于所述內(nèi)層的總干重計，和所 述主聚合物粘結劑占所述內(nèi)層組合物中所有聚合物粘結劑的60-100wt%。
20.具有親水性含鋁基材的平版印刷板，它由權利要求15的方法獲得。
全文摘要
正性工作可成像元件包含輻射吸收性化合物和在具有親水性表面的基材上的內(nèi)層和外層。所述內(nèi)層包含由結構(I)表示的特定聚合物粘結劑-(A)w-(B)x-(C)y-(D)z-(I)其中A表示衍生自一種或多種N-烷氧基甲基(烷基)丙烯酰胺或(烷基)丙烯酸烷氧基甲基酯的重復單元，B表示衍生自一種或多種含側氰基的烯屬不飽和可聚合單體的重復單元，C表示衍生自一種或多種含一個或多個羧基、磺酸或磷酸酯基的烯屬不飽和可聚合單體的重復單元，D表示衍生自一種或多種除由A、B和C表示的那些以外的烯屬不飽和可聚合單體的重復單元，w是3-80wt％，x是10-85wt％，y是2-80wt％，z是10-85wt％。
文檔編號G03F7/09GK101861245SQ200880102901
公開日2010年10月13日 申請日期2008年8月4日 優(yōu)先權日2007年8月10日
發(fā)明者J·帕特爾, S·薩雷亞, T·陶 申請人:伊斯曼柯達公司