專利名稱：：具有改進(jìn)的耐化學(xué)性的多層可成像元件的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及具有<象元件。本發(fā)明還涉刷版獲得圖像的方法
背景技術(shù)：
：在傳統(tǒng)的或"濕式"平版印刷中，是在親水表面上形成吸油墨區(qū)域，即成像區(qū)域。當(dāng)在表面上涂布水和油墨而將其濕潤(rùn)時(shí)，親水區(qū)域會(huì)保留水并排斥油墨，而吸油墨區(qū)域則保留油墨并排斥水。油墨被轉(zhuǎn)移到將復(fù)制出圖像的材料的表面。例如，油墨首先被轉(zhuǎn)移到中間橡皮布上，其再將油墨轉(zhuǎn)移到將復(fù)制出圖像的材料表面。可用于制備平版印刷版的可成像元件通常含有涂布在基板的親水表面的可成像層。該可成像層包括一種或多種可分散在適合的粘合劑中的輻敏組分?；蛘撸椕艚M分也可以是粘合劑材料。成像后，可使用適合的顯影劑去除可成像層上的成像區(qū)域或非成像區(qū)域，從而露出下面的基板的親水表面。如果去除的是成像區(qū)域，則認(rèn)為元件是正性工作的。相反，如果去除的是非成像區(qū)域，則認(rèn)為元件是負(fù)性工作的。在每種情況下，保留的可成像層的區(qū)域(即成像區(qū)域)是吸油墨的，而通過顯影過程顯露出的親水表面吸收通常為潤(rùn)版液的水以及水性溶液，并排斥油墨。使用紫外光和/或可見光輻射對(duì)可成像元件進(jìn)行成像通常是通過具有透明和不透明區(qū)域的掩膜而實(shí)現(xiàn)。成像在掩膜的透明區(qū)域下的區(qū)域發(fā)生，而不在非透明區(qū)域下的區(qū)域發(fā)生。如果最終的圖像需要修正，則需要制成新的掩膜。因此這是一個(gè)耗時(shí)的步驟。此外，溫度和濕度的改變也會(huì)導(dǎo)致掩膜的尺寸發(fā)生微小的改變。因此，相同的掩膜當(dāng)用在不同的時(shí)間或不同的環(huán)境中時(shí)，可能會(huì)產(chǎn)生不同的結(jié)果并且可能會(huì)導(dǎo)致記錄問題。直接數(shù)字成像已經(jīng)不需要通過掩膜來成像，并在印刷工業(yè)中變得元件。例如，在美國(guó)專利6,294,31l(Shimazu等人)、6,352,812(Shimazu等人)、6,593,055(Shimazu等人)、6,352,811(Patel等人)、6,358,669(Savariar-Hauck等人)和6,528,228(Savariar-Hauck等人)以及美國(guó)專利申請(qǐng)公開2004/0067432中對(duì)可熱成^f象的多層元件進(jìn)4亍了描述。待解決的問題在使用過程中，平版印刷版與潤(rùn)版液和油墨發(fā)生接觸。此外，常常需要對(duì)元件進(jìn)行橡皮布清洗來去除油墨及用于橡皮布和壓輥的各種清潔溶液。盡管在各種正性工作的可成像元件中取得了一些進(jìn)展，但仍需要兼具可熱烘培和對(duì)印刷化學(xué)試劑性，如油墨、潤(rùn)版液以及用于清洗的溶劑例如紫外油墨清洗劑具有耐性的可成像元件。由于熱烘培性能可提高耐印力，因此非常期望可成像元件具有這種性能。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明提供了一種正性工作的可成像元件，其含有吸收輻射的化合物以及具有親水表面的基板(Substrate),并且在該基板上依次包括內(nèi)層，其含有可使用堿性顯影劑除去的聚合材料，且聚合材料中的l50moP/。的重復(fù)單元是衍生自于一種或多種以下結(jié)構(gòu)(I)表示的烯屬不飽和可聚合單體CH^C(R/)C(喝NR2(CR3R4)nOH(I)其中Ri,R2,113和W獨(dú)立地表示氫、低級(jí)烷基，或苯基，且n為l20,以及吸油墨的外層，該層基本不含吸收輻射的化合物且在熱成像前不會(huì)被堿性顯影劑除去，條件是在熱成像后，該元件的成像區(qū)域可由堿性顯影劑去除。在另一方面，本發(fā)明提供了一種用于成像的方法，其包括A)熱成像的正性工作的可成像元件，其含有吸收輻射的化合物以及具有親水表面的基板，并且在該基板上依次包括內(nèi)層，其含有可使用堿性顯影劑除去的聚合材料，且聚合材料中的l~50mol%的重復(fù)單元是衍生于一種或多種以下結(jié)構(gòu)式(I)表示的烯屬不飽和可聚合單體CH2《(F^)C(喝NR2(CR3R4)nOH(I)其中R1,R2,R3和W獨(dú)立地表示氫、低級(jí)烷基，或苯基，且n為1~20,以及吸油墨的外層，該層基本不含吸收輻射的化合物且在熱成像前不會(huì)被堿性顯影劑除去，條件是在熱成像后，該元件的成像區(qū)域可由堿性顯影劑去除，從而形成具有成像和非成像區(qū)域的成像元件，其中成像區(qū)域在元件進(jìn)行熱成像后可通過堿性顯影劑去除，B)使成像元件與堿性顯影劑接觸從而只去除成像區(qū)域，顯露出親水基板，以及C)任選地對(duì)成像和顯影后的可成像元件進(jìn)行烘焙。已發(fā)現(xiàn)本發(fā)明的多層可成像元件具有改進(jìn)的"耐化學(xué)性"，即各層對(duì)顯影和印刷過程中使用的化學(xué)物質(zhì)和溶劑具有抗分解性。此外，可對(duì)多層可成像元件進(jìn)行烘焙以其提高耐印力。具體實(shí)施例方式除非文中另外指出，這里使用的術(shù)語"可成像元件"以及"印刷版前體"將以本發(fā)明的實(shí)施方式為參考。此外，除非文中另外指出，這里描述的各種組分例如內(nèi)層中的結(jié)構(gòu)式I的聚合物，"著色劑"、"涂布溶劑"、"吸收輻射的化合物"、"表面活性劑"、"苯酚類樹脂"、"含有重氮苯醌部分和/或重氮萘醌部分的單體的或聚合的化合物"，"堿性顯影劑，，以及類似的術(shù)語也包括這些組分的混合物。因此，在使用冠詞"一個(gè)，，或"一種"時(shí)并不一定是指單一組分。并且，除非另外指出，百分比是指干重百分比。為解釋與聚合物有關(guān)的任何術(shù)語的定義，應(yīng)參考由國(guó)際純粹和應(yīng)用化學(xué)聯(lián)合會(huì)(InternationalUnionofPureandAppliedChemistry"IUPAC")公開的"聚合物科學(xué)中的基本術(shù)語表"("GlossaryofBasicTermsinPolymerScience"),PureAppl.Chem.68,2287-2311(1996)。然而，如果在這里作出了任何明確的定義，則應(yīng)以該定義為準(zhǔn)^除非另外指出，術(shù)語"聚合物"指包括低聚物在內(nèi)的高分子量的和低分子量的聚合物，并包括均聚物和共聚物。術(shù)語"共聚物"是指由兩種或多種不同單體得到的聚合物。也即是說，它們含有具有至少兩種不同化學(xué)結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元。術(shù)語"骨架"是指聚合物中的原子鏈，在其上連有復(fù)數(shù)個(gè)側(cè)基。這種骨架的一例是由一種或多種烯屬不飽和可聚合單體聚合得到的"全碳"骨架。然而，其它的骨架可包含雜原子，其中聚合物是通過縮合反應(yīng)或其它方式形成。應(yīng)用可成像元件可具有多種不同的應(yīng)用。優(yōu)選的應(yīng)用是作為下面將詳細(xì)描述的平版印刷版的前體。然而，這不意味著這是本發(fā)明的唯一應(yīng)用。例如，可成像元件可用作熱圖案形成系統(tǒng)，以及用于形成掩膜元件和印刷電路板?？沙上裨话愣?，本發(fā)明的可成像元件包括基板，內(nèi)層(也稱作"底層")，以及置于內(nèi)層上的外層(也稱作"頂層，，)。在熱成像之前，外層不會(huì)被堿性顯影劑除去，但是在熱成像之后，外層的成像區(qū)域可被堿性顯影劑除去。內(nèi)層也可被堿性顯影劑除去。在可成像元件中存在吸收輻射的化合物，通常為吸收紅外輻射的化合物(下面將給出定義)。優(yōu)選地，該化合物在內(nèi)層中，但任選地存在于內(nèi)層和外層之間單獨(dú)的一層中?？沙上裨峭ㄟ^將內(nèi)層組合物適當(dāng)?shù)赝坎嫉竭m合基板上而形成。該基板可以是未處理過的或無涂層的支撐，但通?；逶谕坎純?nèi)層組合物前按照下面描述的各種方法進(jìn)行處理或在其上形成涂層。基板一般具有親水表面或至少具有比外層組合物親水性強(qiáng)的表面。基板包括一支撐，其可由任何常規(guī)的用于制備可成像元件如平版印刷版的材料構(gòu)成。支撐通常釆取片、膜、或箔的形式，且堅(jiān)固、穩(wěn)定、柔韌并能經(jīng)受使用條件下的尺寸改變，這樣顏彩記錄將記錄下全彩圖像。典型的支撐可以是任何的自支撐材料，包括聚合膜(例如聚酯，聚乙烯，聚碳酸酯，纖維素酯聚合物，以及聚苯乙烯膜)，玻璃，陶瓷，金屬片或箔，或硬紙面(包括帶有樹脂涂層的和敷金屬的紙)，或任何這些材料的疊層結(jié)構(gòu)(例如鋁箔層壓在聚酯膜上的疊層結(jié)構(gòu))。金屬支撐物包括鋁，銅，鋅，鈦，和它們的合金的片或箔。聚合的膜支撐可在一面或兩面上用"膠層(subbing)"進(jìn)行改性，以提高親水性，或者紙支撐可經(jīng)過類似的涂層來增加平面性。膠層材料的例子包括但不限于，烷氧基硅烷，氨基-丙基三乙氧基硅烷，縮水甘油基丙基-三乙氧基硅烷，以及環(huán)氧官能聚合物，以及用于面化銀照相軟片的傳統(tǒng)的親水膠層材料(例如凝膠和其它天然形成的和合成的親水膠體和包括偏二氯乙烯共聚物在內(nèi)的乙烯基聚合物)。優(yōu)選的基板是由鋁支撐構(gòu)成，其可采用本領(lǐng)域中已知的技術(shù)來處理，這些技術(shù)包括以物理磨版、電化學(xué)磨版、化學(xué)磨版、及陽極氧化。優(yōu)選地，鋁片是經(jīng)過電化學(xué)磨版和陽極氧化的?？赏ㄟ^對(duì)鋁支撐用如硅酸鹽、糊精、氟化鈣鋯、六氟硅酸、磷酸鹽/氟化物、聚乙烯基膦酸(PVPA)、乙烯基膦酸共聚物、聚丙烯酸、或丙烯酸共聚物進(jìn)行處理來形成夾層。優(yōu)選的，經(jīng)磨版和陽極氧化的鋁支撐用PVPA按照已知步驟進(jìn)行處理以調(diào)表面親水性?；宓暮穸瓤梢愿淖?，但應(yīng)能足以承受印刷產(chǎn)生的磨損，并足夠薄從而能纏繞在印版上。優(yōu)選的實(shí)施方式包括厚度在100~600pm的處理過的鋁箔?；宓谋巢?非成像側(cè))可涂布抗靜電劑層和/或滑動(dòng)層或不光滑層，以改善對(duì)可成像元件的操作性和"手感"?；逡部梢允瞧渖贤坎加休棄壅山M合物的圓柱形表面，因而成為印刷機(jī)的構(gòu)成部分。這種成像筒的使用在如美國(guó)專利5,713,287(Gelbart)中進(jìn)行了描述。內(nèi)層內(nèi)層位于外層和基板之間且通常直接置于基板上。內(nèi)層含有在側(cè)鏈上帶羥基的聚合材料。該聚合材料可由顯影劑除去，且優(yōu)選溶于顯影劑以減少顯影劑的淤渣。此外，聚合材料優(yōu)選不溶于用于涂布外層的溶劑，這樣外層就可覆蓋在內(nèi)層上而不會(huì)使內(nèi)層溶解。用于內(nèi)層的含羥基的聚合材料包含衍生自兩種或多種烯屬不飽和單體的重復(fù)單元，其中l(wèi)-50mo10/0(優(yōu)選為10-40mol%)的重復(fù)單元是衍生于一種或多種以下結(jié)構(gòu)式(I)表示的單體<formula>formulaseeoriginaldocumentpage12</formula>(I)其中Ri,RR3和W獨(dú)立地表示氫、取代的或未取代的具有1~10個(gè)碳原子的低級(jí)烷基(例如甲基，氯甲基，乙基，異丙基，叔丁基，和正癸基)，或取代的或未取代的苯基，且"n"為l-20。優(yōu)選地，R1是氫，曱基，或苯基，更優(yōu)選地是氳或甲基。此外，R2,R3和RM尤選地獨(dú)立表示氬，曱基，乙基，或苯基，更優(yōu)選地，R2是氬，R3和R"蟲立地表示氬，曱基，或苯基。并且，"n"優(yōu)選為1~10,更優(yōu)選為1~5。在優(yōu)選的實(shí)施方式中，內(nèi)層中含羥基的聚合材料是由以下結(jié)構(gòu)式(II)表示<formula>formulaseeoriginaldocumentpage12</formula>(II)其中A表示由以下結(jié)構(gòu)式(Ia)表示的重復(fù)單元<formula>formulaseeoriginaldocumentpage12</formula>(Ia)R^I^和n如上面對(duì)結(jié)構(gòu)式(I)的定義。在結(jié)構(gòu)式(II)中，B表示含有酸性官能團(tuán)或N-順丁烯二酰亞胺(馬來酰亞胺)基團(tuán)的重復(fù)單元，C表示與A和B不同的重復(fù)單元，基于總的重復(fù)單元，"x，，是1~50mol%(優(yōu)選為10~40mol%),"y"是40~90mol%(優(yōu)選為40~70mol%),以及"z，，是0~70mol%(優(yōu)選為0~50mol%)。在結(jié)構(gòu)式(II)的一些實(shí)施方式中A表示衍生自N-羥甲基丙烯酰胺和N-羥甲基曱基丙烯酰胺中的一種或兩種的重復(fù)單元，B表示衍生自N-苯基順丁烯二酰亞胺，N-環(huán)己基順丁烯二酰亞胺，N-千基順丁烯二酰亞胺，N-(4-羧基苯基(carboxyphenyl》順丁烯二酰亞胺，(甲基)丙烯酸，以及乙烯基苯甲酸中的一種或多種的重復(fù)單元，C表示衍生自苯乙烯類單體(例如苯乙烯及其衍生物)，甲基(丙烯酸)酯，N-取代的(曱基)丙烯酰胺，馬來酸肝，(曱基)丙烯腈，丙烯酸烯丙酯，以及由以下結(jié)構(gòu)式(III)表示的化合物中的一種或多種的重復(fù)單元，<formula>formulaseeoriginaldocumentpage13</formula>(in)其中R為氫，甲基或鹵素，X是具有2~12個(gè)碳原子的亞烷基，以及"m"是1~3,"x"是10~30mol%,"y"是40~70mol%,"z，，是050mo1。/。，均基于總的重復(fù)單元數(shù)。在更優(yōu)選的實(shí)施方式中，B表示基于總重復(fù)單元的含量為20-50mol。/。的衍生自N-苯基順丁烯二酰亞胺，N-環(huán)己基順丁烯二酰亞胺，N-千基順丁烯二酰亞胺，N-(4-羧基苯基)順丁烯二酰亞胺中的至少一種以及含量為10-30mol。/o的衍生自(曱基)丙烯酸和乙烯基苯曱酸中的至少一種的重復(fù)單元。在這些實(shí)施方式中，C表示衍生自甲基丙烯酰胺，(甲基)丙烯腈，馬來酸酐，上述含羥基的聚合材料通常在內(nèi)層中的含量占總的干燥層重的50~95重量％,優(yōu)選為60~85重量％。優(yōu)選地，內(nèi)層進(jìn)一步含有吸收輻射的化合物(優(yōu)選為吸收紅外輻射的化合物)，其吸收600-1200nm,優(yōu)選為700~1200nm的輻射，最小吸收在300600nm。該化合物(有時(shí)稱為"光熱轉(zhuǎn)化材料")吸收輻射并轉(zhuǎn)化為熱。該化合物可以是染料或顏料。有用的顏料的例子是ProJet900,ProJet860和ProJet830(均可由ZenecaCorporation獲得)。盡管吸收輻射的化合物不是熱體成像所必需的，但含有吸收輻射的化合物的可成像元件也可用熱體進(jìn)行成像，例如可用熱頭或熱頭陣列進(jìn)行成像。有用的IR吸收化合物也包括炭黑，這包括那些用本領(lǐng)域已知的可溶基團(tuán)進(jìn)行表面官能化的炭黑。另外，也可以使用接枝到親水非離子聚合物上的炭黑，例如FX-GE-003(NipponShokubai制造)，或用陰離子進(jìn)行表面官能化的炭黑，例如CAB-O-JET200orCAB-O-JET300(CabotCorporation制造)。IR染料(特別是那些溶于堿性顯影劑中的)是防止不溶材料在顯影劑中形成淤渣的優(yōu)先選擇。適合的IR染料的例子包括但不限于偶氮染沖牛、squarilhim染料、croconate染沖牛、三芳基胺染并牛、辟d戈氮镥(thioazolmm)染料、吲咪鏡(indolmm)染料、類菁(oxonol)染料、oxaxolium染料、花菁(cyanine)染料、藍(lán)部青(merocyanine)染料、酞菁(Phthalocyanine)染料、吲哚菁(indocyanme)染料、吲咮三羰花青(indotricarbocyanine)染料、氧雜三羰花青(oxatricarbocyanine)染料、疏代花菁(thiocyanine)染料、石危雜三羰花菁(thiatricarbocyanine)染料、部花青(merocyanine)染料、隱花青(cryptocyanine)染料、萘酞菁(naphthalocyanme)染料、聚苯胺染料、聚吡咯染料、聚噻吩染料、chalcogenopyryloarylidene和bi(chalcogenopyrylo)聚次甲基染料、氧中氮茚(oxyindolizine)染料、吡喃鏃(pyrylium)染料、吡唑啉偶氮(pyrazolineazo)染料、嚅漆染料、萘醌(naphthoquinone)染料、蒽醌(anthraqui匪e)染料、醌亞胺(qm醒eimine)染料、次曱基染料、芳基次曱基(arylmethine)染料、方酸(squarine)染料、嗝唑染料、克酮酸(croconme)染料、卟啉(porphyrin)染料、以及前述染料類別的任何取代的或離子形式。適合的染料許多公開出版物中也進(jìn)行了描述，這包括美國(guó)專利6,294,311(上面已提及)和5,208,135(Patel等人)以及它們引用的文獻(xiàn)。有用的IR吸收化合物的例子包括ADS-830A和ADS-1064(AmericanDyeSource,BaieD'Urfe,Quebec,Canada),EC2117(FEW,Wolfen,Germany),CyasorbIR99和CyasorbIR165(GPTGlendaleInc.Lakeland,FL),以及在下面實(shí)施例中使用的IR吸收染料A。也可使用近紅外吸收的花菁染料，它們例如在美國(guó)專利6,309,792(Hauck等人),6,264,920(Achilefu等人)，6,153,356(Urano等人),5,496,903(Watanate等人)中進(jìn)行了描述。適合的染料可使用傳統(tǒng)的方法和起始原料形成，或由各種商業(yè)渠道如AmericanDyeSource(加拿大)和FEWChemicals(德國(guó))獲得。其它可用于近紅外二極管激光束的染料例如在美國(guó)專利4,973,572(DeBoer)中進(jìn)行了描述。除了低分子量的IR-吸收染料外，也可使用連接到聚合物上的IR染料部分。并且，還可使用IR染料陽離子，即這種陽離子是染料鹽的IR吸收部分，而染料鹽與在側(cè)鏈上含有羰基，硫，磷或磷?；木酆衔锇l(fā)生離子相互作用。吸收輻射的化合物通常在內(nèi)層中的含量是占總內(nèi)層干重的至少10%,最多30%,優(yōu)選為12~25%。對(duì)于給定IR吸收化合物的具體的量易于由本領(lǐng)域技術(shù)人員確定。內(nèi)層可包括其它組分，例如表面活性劑，分散助劑，潤(rùn)濕劑，生物殺滅劑，增粘劑，干燥劑，消泡劑，防腐劑，抗氧化劑，著色劑，以及其它聚合物，例如酚醛清漆，曱階酚醛樹脂，或具有活化的羥曱基和/或活化的烷基化的羥曱基基團(tuán)的樹脂。內(nèi)層通常具有0.5-2.5g/m2,優(yōu)選為1-2g/m2的干涂層覆蓋率。外層外層覆蓋在內(nèi)層之上，在優(yōu)選的實(shí)施方式中，在內(nèi)層和外層之間無中間層。在熱暴露后，外層變得溶于或可分散于顯影劑中。外層通常含有一種或多種被稱之為聚合物粘合劑的吸油墨的聚合材料，以及溶解抑制劑或著色劑?；蛘?，聚合物粘合劑也可再含有極性基團(tuán)，并同時(shí)起到粘合劑和溶解抑制劑的作用。外層基本上不含吸收輻射的化合物，這意味著這些化合物沒有被有意地引入外層，且從其它層擴(kuò)散到外層中的量也是可忽略的。任何用于現(xiàn)有技術(shù)中的多層可熱成像元件外層中的聚合物粘合劑均可用于本發(fā)明的可成像元件中。例如，聚合物粘合劑可以是一種或多種描述于美國(guó)專利6,358,669(Sa酉iar隱Hauck),6,555,291(Hauck),6,352,812(Shimazu等人),6,352,811(Patel等人)，6,294,311(Shimazu等人)，6,893,783(Kitson等人),以及6,645,689(Jarek),美國(guó)專利申請(qǐng)公開2003/0108817(Patel等人)和2003/0162,126(Kitson等人)，以及WO2005/018934(Kitson等人)中的聚合物粘合劑。優(yōu)選地，外層中的聚合物粘合劑是對(duì)光穩(wěn)定的，不溶于水的，可溶于堿性顯影水溶液的具有多個(gè)酚鞋基的成膜苯酚類樹脂。苯酚類樹脂在聚合物骨架或側(cè)基上具有多個(gè)酚鞋基。含有側(cè)鏈苯酚基團(tuán)的酚醛樹脂，曱階酚醛樹脂，丙烯酸樹脂以及聚乙烯基酚醛樹脂為優(yōu)選的苯酚類樹脂。更優(yōu)選的是酚醛樹脂。酚醛樹脂可通過商業(yè)渠道獲得，并為本領(lǐng)域技術(shù)人員所熟知。酚醛樹脂通常是由酚，例如苯酚，間甲酚，鄰曱盼，對(duì)甲酚等與醛，例如甲醛，多聚甲醛，乙醛等，或酮，例如丙酮在酸催化劑存在下經(jīng)縮合反應(yīng)制備。一般的重均分子量是1，000~15,000。典型的酚醛樹脂包括如，苯酚-甲醛樹脂，甲酚-曱醛樹脂，苯酚-曱酚-甲醛樹脂，對(duì)叔丁基苯酚-甲醛樹脂，以及焦酚-丙酮樹脂。特別有用的酚醛樹脂是通過將間甲酚，間曱酚和對(duì)甲酚的混合物，或苯酚與曱醛在本領(lǐng)域技術(shù)人員熟知的條件下反應(yīng)制備的。溶劑可溶的酚醛樹脂是在涂布溶劑中充分溶解并形成可經(jīng)涂布形成外層的涂布溶液的樹脂。在一些情況下，可能希望使用具有最高重均分子量但保持了在常用涂布溶劑如丙酮，四氫呋喃，和1-曱氧基丙烷-2-醇中溶解性的酚醛樹脂?？墒褂煤鼐肿恿恐辽贋?0,000,優(yōu)選至少為25,000的酚醛樹脂的外層，其中酚醛樹脂包括如僅間曱酚的酚醛樹脂(即那些至少含97mol。/。的間甲酚)和對(duì)甲酚含量最多為10mol。/。的間甲酚/對(duì)甲酚的酚醛樹脂。也可使用含有對(duì)甲盼含量至少為10mol%,重均分子量為8,000-25,000的間曱酚/對(duì)曱酚的盼醛樹脂的外層。在一些情況下，通過溶劑濃縮制得的酚醛樹脂是令人滿意的。含有這些樹脂的外層例如描述在美國(guó)專利6,858,359(Kitson等人)中。其它有用的聚乙烯基苯酚樹脂包括一種或多種含羥苯基單體如羥基苯乙烯和(甲基)丙烯酸鞋苯基酯的聚合物。其它不妨羥基的單體可與反羥基的單體共聚。這些樹脂可通過在自由基引發(fā)劑存在下或在陽離子聚合引發(fā)劑存在下采用已知的反應(yīng)條件聚合一種或多種單體而制備。按照與上面測(cè)量酚醛樹脂相同的方法測(cè)得的這些酚醛樹脂聚合物的重均分子量(Mw)是1000~200,000g/mol,更優(yōu)選的是1,500~50,000g/mo1。有用的含羥基的聚合物的例子包括ALNOVOLSPN452,SPN400,HPN100(Cla薩tGmbH),DURITEPD443,SD423A，SD126A(BordenChemical,Inc.),BAKELITE6866LB02,AG,6866LB03(BakeliteAG),KR400/8(KoyoChemicalsInc.),HRJ1085和2606(SchnectadyInternational,Inc.),以及LyncurCMM(SiberHegner)，所有的這些老卩在美國(guó)專利申請(qǐng)公開2005/0037280(如上提及)中進(jìn)行過描述。特別有用的聚合物是在下面的實(shí)施例中描述的PD-140A。外層也可包括苯朌類樹脂粘合劑，其含有被以下結(jié)構(gòu)式(Q)表示的基團(tuán)取代的苯酚重復(fù)單元(Q)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage17</formula>其中l(wèi)Al^和L3獨(dú)立地表示連接基團(tuán)，T^f和T3獨(dú)立地表示端基，以及"a","b"和"c"獨(dú)立地表示0或1。更具體地，L1,L2,和L3各自獨(dú)立地為取代的或未取代的具有1~4個(gè)碳原子的亞烷基(例如亞甲基，1,2-亞乙基，l,l-亞乙基，亞正丙基，亞異丙基，亞叔丁基，和亞正丁基)，取代的或未取代的具有57個(gè)碳原子的亞環(huán)烷基(例如亞環(huán)戊基和亞1，4-環(huán)己基)，取代的或未取代的芳環(huán)上具有6~10個(gè)碳原子的亞芳基(例如1,4-亞苯基，亞萘基，2_曱基_1,4-亞苯基，和4-氯-l,3-亞苯基)，或取代的或未取代的芳香的或非芳香的在環(huán)上具有5-10個(gè)碳原子和一或多個(gè)雜原子(氮，氧，或硫原子)的二價(jià)雜環(huán)基(例如亞吡啶基，亞吡唑基，亞哌嗪基，或亞噻唑基)，或這些二價(jià)連接基團(tuán)中的兩者或多者的任何組合?；蛘週2和L3共同表示形成碳環(huán)或雜環(huán)結(jié)構(gòu)所必需的原子。優(yōu)選地，L1為碳-氳單鍵或亞曱基，亞乙基，或亞苯基，且L2和L3獨(dú)立地為氳，甲基，乙基，2-羥乙基，或環(huán)狀-(CH2)20(CH2CH2)-基團(tuán)。T1,T2,和T3獨(dú)立地為端基，例如氬，或取代的或未取代的具有1~10個(gè)碳原子的烷基(例如曱基，乙基，異丙基，叔丁基，正己基，曱氧基曱基，苯甲基，羥乙基，和氯乙基)，取代的或未取代的具有210個(gè)碳原子的烯基(例如乙烯基和己烯基)，取代的或未取代的炔基(例如乙炔基和辛炔基)，取代的或未取代的在環(huán)上具有5~7個(gè)碳原子的環(huán)烷基(例如環(huán)戊基，環(huán)己基，和環(huán)庚基)，取代的或未取代的(芳香的或非芳香的)在環(huán)上具有碳原子和一或多個(gè)雜原子的雜環(huán)基(例如吡啶基，吡唑基，嘧啶基，噻唑基，和吲哚基)，以及取代的或未取代的在芳環(huán)上具有6-10個(gè)碳原子的芳基(例如苯基，萘基，3-甲氧基苯基，千基，和4-溴苯基)?；蛘?，T2和T3共同表示形成包括稠環(huán)的環(huán)結(jié)構(gòu)所必需的原子。并且，當(dāng)"a"是0時(shí)，T3不是氳。這些苯酚類樹脂粘合劑可通過苯酚單體單元與含醛基的第一化合物以及含氨基的第二化合物的反應(yīng)按美國(guó)專利申請(qǐng)公開2005/0037280(上面提及)中的描述進(jìn)行制備。這些苯酚類樹脂粘合劑可含有超過一種類型的取代的結(jié)構(gòu)式(Q)表示的基團(tuán)。這些不同的結(jié)構(gòu)式(Q)表示的基團(tuán)可相繼插入或作為與含羥基的聚合物反應(yīng)中的不同的第一和第二化合物的混合物。結(jié)構(gòu)式(Q)表示的基團(tuán)的含量和類型僅受到所得改進(jìn)的堿性顯影劑中苯酚類樹脂粘合劑的溶解性的限制。通常，至少0.5mo1。/。，最多50mol。/o的苯酚類樹脂粘合劑重復(fù)單元含有相同的或不同的結(jié)構(gòu)式(Q)表示的基團(tuán)。優(yōu)選地，結(jié)構(gòu)式(Q)表示的基團(tuán)在重復(fù)單元中占1~40mol%,更優(yōu)選占2~30mol%。外層也可包括非苯酚型的聚合材料作為成膜粘合劑材料作為上述苯酚類樹脂的補(bǔ)充或替代。這類非苯酚型的聚合材料包括由順丁烯二酐和一種或多種苯乙烯類單體(即苯乙烯和在苯環(huán)上具有各種取代基的苯乙烯衍生物)形成的聚合物，由甲基丙烯酸甲酯和一種或多種含羰基的單體形成的聚合物，以及它們的混合物。這些聚合物可含有衍生自上述提及單體的重復(fù)單元以及衍生自其它的可選單體(例如(曱基)丙烯酸酯，(曱基)丙烯腈，和(甲基)丙烯酰胺)的重復(fù)單元。衍生自順丁烯二酐的聚合物通常含有1~50mol。/o的衍生自順丁烯二酐的重復(fù)單元，而余下的重復(fù)單元衍生自苯乙烯類單體以及可選的其它可聚合單體。由曱基丙烯酸曱酯和含羧基的單體形成的聚合物一般含有80-98mol。/。的衍生自甲基丙烯酸曱酯的重復(fù)單元。含羧基的重復(fù)單元可衍生自如丙烯酸，曱基丙烯酸，衣康酸，順丁烯二酸，和類似的本領(lǐng)域中已知的單體。外層還可含有一種或多種足以提供環(huán)氧當(dāng)量為130-1000(優(yōu)選為140-750)的具有側(cè)鏈環(huán)氧基的聚合物粘合劑。"環(huán)氧當(dāng)量"是指聚合物的重量(g)除以聚合物中環(huán)氧基的當(dāng)量數(shù)(摩爾數(shù))。任何含有所需側(cè)鏈環(huán)氧基團(tuán)的成膜聚合物均可使用，這包括縮聚物，丙烯酸樹脂，和聚氨酯樹脂。側(cè)鏈環(huán)氧基團(tuán)可以是用于制造聚合物的可聚合單體或反應(yīng)性成分的一部分，它們可以在聚合后使用已知步驟加入。優(yōu)選地，外層含有一種或多種衍生自一種或多種烯屬不飽和單體的丙烯酸樹脂，這些單體中的至少一種含有側(cè)鏈環(huán)氧基，例如那些描述與共同審查的共有申請(qǐng)U.S.S.N.11/257,864中描述的那些(由Huang，Samiya,Ray,Kitson,Sheriff,andKrebs于2005年10月25日提交，發(fā)明名稱為"含環(huán)氧扭于脂的多層成像元件MULTILAYERIMAGEABLEELEMENTCONTAININGEPOXYRESIN")。這種類型中特別有用的聚合物具有通過羧酸脂基例如取代的或未取代的-c(o)o-亞烷基，-c(o)o-亞烷基-亞苯基-,或-c(o)o-亞苯基(其中亞烷基具有l(wèi)-4個(gè)碳原子)而連接到聚合物上的側(cè)鏈環(huán)氧基團(tuán)。用于制造這些聚合物粘合劑的優(yōu)選的具有側(cè)鏈環(huán)氧基的烯屬不飽和可聚合單體包括丙烯酸縮水甘油酯，曱基丙烯酸縮水甘油酯，甲基丙烯酸3,4-環(huán)氧環(huán)己酯，和丙烯酸3,4-環(huán)氧環(huán)己酯。含有環(huán)氧基的聚合物也可以包含衍生自一種或多種沒有側(cè)鏈環(huán)氧基的烯屬不飽和可聚合單體的重復(fù)單元，其包括但不限于，(曱基)丙烯酸酯，(甲基)丙烯酰胺，乙烯基醚，乙烯基酯，乙烯基酮，烯烴，不々包和酰亞胺(例如順丁烯二酰亞胺)，N-乙烯基吡咯烷酮，N-乙烯基?？ㄟ?，乙烯基吡啶，(甲基)丙烯腈，和苯乙烯類單體。其中，以(曱基)丙烯酸酯，(甲基)丙烯酰胺，和苯乙烯類單體為優(yōu)選，并以苯乙烯類單體為最佳。例如，苯乙烯類單體可與甲基丙烯酰胺，丙烯腈，順丁烯二酰亞胺，醋酸乙烯酯，或N-乙烯基吡咯烷酮組合使用。優(yōu)選的，外層不含起到側(cè)鏈環(huán)氧基團(tuán)硬化劑作用的化合物，但在一些實(shí)施方式中，可存在傳統(tǒng)的硬化劑。外層中存在的一種或多種聚合物粘合劑的含量至少為60重量％,優(yōu)選為65~99.5重量％。外層一般任選含有溶解抑制劑，其起到粘合劑的溶解性抑制組分的作用。溶解抑制劑一般具有極性官能團(tuán)，其被認(rèn)為是起到形成氫鍵受體部位的作為，例如與粘合劑的羥基形成氬鍵。可溶于顯影劑中的溶解抑制劑大多是合適的?；蛘撸酆衔镎澈蟿┲羞€可含有溶解性抑制極性基團(tuán)，其起到溶解抑制劑的作用。有用的溶解抑制劑化合物描述在如美國(guó)專利5,705,308(West等人):6,060,222(West等人),和6,130,026(Bennett等人)中?？捎米魅芙庖种苿┑暮袔д姾?即季銨化的)氮原子的化合物包括如四烷基銨化合物，查啉镥化合物，苯并瘞唑鹽化合物，吡咬镥化合物，以及咪唑鏃化合物。代表性的四烷基銨溶解抑制劑化合物包括四丙基溴化銨，四乙基溴化銨，四丙基氯化銨，和三甲基烷基氯化銨和三甲基烷基溴化銨，例如三曱基辛基溴化銨和三甲基癸基氯化銨。代表性的喹啉鏡溶解抑制劑化合物包括l-乙基-2-甲基碘化喹啉，1-乙基_4_甲基碘化喹啉和含喹啉輸例如喹啉藍(lán)的花菁染料。代表性的苯并噻唑鹽化合物的例子包括3-乙基-2-(3H)-亞苯并噻唑基)-2-曱基-l-(丙烯基)苯并噻唑陽離子染料和3-乙基-2-曱基碘化苯并噻唑。重氮鹽可用作溶解抑制劑化合物并包括如，取代的或未取代的二苯基胺重氮鹽，例如曱氧基-取代的二苯基胺重氮六氟硼酸鹽?？捎米魅芙庖种苿┗衔锏拇硇缘幕撬狨グū交撬釙貂?，苯磺酸正己酯，對(duì)曱苯磺酸乙酯，對(duì)甲苯磺酸叔丁酯，和對(duì)甲苯磺酸苯酯。代表性的磷酸酯包括磷酸三甲酯，磷酸三乙酯，和磷酸三甲苯酯。有用的砜包括那些具有芳香基團(tuán)如的砜，例如二苯砜。有用的胺包括那些具有芳香基團(tuán)如的胺，例如二苯胺和三苯胺?？捎米魅芙庖种苿┗衔锏暮幕衔锇ㄈ缛?，特別是芳香酮，以及羧酸酯。代表性的芳香酮包括氧雜蒽酮，黃烷酮，黃酮，2,3-二苯基-1-二氫茚酮，l'-(2'-萘乙酮基)苯甲酸酯，2,6-二苯基-4H-吡喃-4-S同，和2,6-二苯基-4H-硫代吡喃-4-酮。代表性的羧酸酯包括苯甲酸乙酯，苯甲酸正庚酯，和苯甲酸苯酯。其它容易獲得的溶解抑制劑為三芳基甲烷染料，例如乙基紫，結(jié)晶紫，孔雀綠，亮綠，維多利亞藍(lán)B,維多利亞藍(lán)R,維多利亞藍(lán)BO,BASONYL紫610。這些化合物也可作為對(duì)比染料而將顯影后可成像元件的未成像區(qū)域從成像區(qū)域中區(qū)別開來。當(dāng)溶解抑制劑化合物存在于外層中時(shí)，其在外層干重中所占比例一般為至少0.1重量％,更常見的是0.5-30重量％,優(yōu)選為115重量％。或者，聚合物粘合劑也可在外層中含有作為與存在于聚合材料中的羥基形成氫鍵的受體部位的極性基團(tuán)，從而兼作為粘合劑和溶解抑制劑。這些衍生出的聚合材料可單獨(dú)在外層中使用，或者它們可與其它聚合材料和/或溶解性抑制組分組合使用。衍生的程度應(yīng)高到聚合材料作為溶解抑制劑之用，但又不能太高以至于在熱成像后聚合材料不溶于顯影劑。盡管需要的衍生程度將取決于聚合材料的本性和引入聚合物材料的含極性基團(tuán)部分的本性，通常羥基中的0.5mol%~5mol%，優(yōu)選1mol%~3mol%將發(fā)生衍生化。一組含有極性基團(tuán)并作為溶解抑制劑的聚合材料是衍生的苯酚類聚合材料，其中酚羥基的一部分已轉(zhuǎn)化成磺酸酯，優(yōu)選轉(zhuǎn)化成對(duì)苯曱>璜酸酯。一汙生化可通過聚合材料與如磺酰氯如對(duì)曱苯石黃酰氯在堿如叔胺存在下反應(yīng)進(jìn)行。一種有用的材料是酚醛樹脂，其中1~3mol%的羥基已轉(zhuǎn)化成苯磺酸或?qū)妆交撬峄?。另一組含有極性基團(tuán)并作為溶解抑制劑的聚合材料是含有鄰疊氮萘醌部分的衍生的苯酚類樹脂。聚合鄰疊氮萘醌化合物包括衍生的樹脂，其由含鄰疊氮萘醌部分的活性衍生物與含適的反應(yīng)基團(tuán)如羥基或氨基的聚合材料的含有形成。苯盼類樹脂與含鄰疊氮萘醌部分的化合物的衍生反應(yīng)為現(xiàn)有技術(shù)，例如在美國(guó)專利5，705,308和5,705,322(West等人)中進(jìn)行了描述。與含鄰疊氮萘醌部分的化合物衍生出的樹脂的一個(gè)例子是P-3000(可由PCAS,法國(guó)獲得)，該產(chǎn)品是焦酚/丙酮樹脂的重氮萘醌。為防止用紅外輻射成像期間發(fā)生燒蝕，外層基本上不含吸收輻射的化合物。即外層中即使含有吸收輻射的化合物，其吸收的成像輻射也小于10%,優(yōu)選小于3%,且即使外層吸收成像輻射，其吸收的量也不足以導(dǎo)致外層發(fā)生燒蝕。外層還可包括其它組合例如表面活性劑，分散助劑，濕潤(rùn)劑，生物殺滅劑，增稠劑，干燥劑，消泡劑，防腐劑，抗氧化劑，著色劑，和對(duì)比染料。涂布用表面活性劑特別有用。外層通常具有0.2~2g/m2,優(yōu)選為0.4~1g/m2的干涂層覆蓋率。盡管不是優(yōu)選的，但可在內(nèi)層和外層之間設(shè)置分離層。該分離層(或夾層)起到減少吸收輻射的化合物從內(nèi)層遷移到外層屏障的作用。該夾層通常含有溶于堿性顯影劑中的聚合材料。這種類型的優(yōu)選的聚合材料是聚乙烯醇。一般而言，夾層應(yīng)當(dāng)小于內(nèi)層厚度的五分之一，優(yōu)選小于外層厚度的十分之一?？沙上裨闹苽淇沙上裨赏ㄟ^使用傳統(tǒng)的涂布或?qū)訅悍椒樞驅(qū)?nèi)層制劑涂布到基板表面(和在其上提供任何其它的親水層)，然后將外層制劑涂布到內(nèi)層上而制備。很重要的一點(diǎn)是要避免使內(nèi)層和外層制劑混和。內(nèi)層和外層可通過將期望的成分分散或溶解在適當(dāng)?shù)耐坎既芤褐?，然后將所得制劑順序或同時(shí)涂布到基板上而進(jìn)行涂布，涂布可使用任何適合的設(shè)備或方法，例如懸轉(zhuǎn)式涂布，刀式涂布，照相凹板式涂布，一莫式涂布，縫式涂布，纟奉式涂布，盤條式涂布，輥式涂布，或擠出機(jī)料斗式涂布。制劑也可通過噴灑到適合的支持體(例如印中印刷滾筒)上而涂布。用于涂布內(nèi)層和外層的溶劑的選擇取決于聚合材料的本性和制劑中的其它成分。為了防止內(nèi)層和外層自己混合或在涂布外層制劑時(shí)內(nèi)層的溶解，外層應(yīng)當(dāng)用內(nèi)層聚合材料不溶的溶劑進(jìn)行涂布。通常，內(nèi)層制劑是用甲基乙基酮(MEK),l-甲氧基丙-2-醇，，丁內(nèi)酯，和水的溶劑混合物，二乙酮(DEK),水，乳酸甲酯，和Y-丁內(nèi)酯的混合物，或乳酸甲酯，甲醇和二氧戊環(huán)的混合物進(jìn)行涂布的。外層制劑通常是用DEK,DEK和醋酸l-甲氧基-2-丙基酯的混合物，或1,3-二氧戊環(huán)，1-曱氧基丙-2-醇(或DowanolPM或PGME)，y-丁內(nèi)酯和水的混合物進(jìn)行涂布的?；蛘撸瑑?nèi)層和外層可通過傳統(tǒng)的擠出涂布方法從相應(yīng)層的組分的熔融混合物來涂布。通常這種熔融混合物不含揮發(fā)性有機(jī)溶劑。在涂布各層自己之間可進(jìn)行中間干燥步驟以在涂布其它制劑之前除去溶劑。干燥步驟也可幫助防止各層的混合。制備本發(fā)明可成像元件的代表性方法在下面的實(shí)施例中進(jìn)行說明?？沙上裨哂性S多有用的形式，這些形式包括但不限于印刷版前體，印刷滾筒，印刷套筒，和印刷膠帶(包括柔性印刷網(wǎng))。優(yōu)選地，可成像元件是提供平版印刷版的印刷版前體。印刷版前體可以是任何有用的尺寸和性質(zhì)(例如正方形或長(zhǎng)方形)，并在適合的基板上疊置了需要的內(nèi)層和外層。印刷滾筒和印刷套筒已知為旋轉(zhuǎn)印刷元件，具有圓柱形的基板，內(nèi)層和外層。中空的或?qū)嵭牡慕饘傩究捎米饔∷⑻淄驳幕?。成像和顯影在使用中，可成像元件暴露于適合的成像輻射源(例如紅外輻射)，其使用波長(zhǎng)為600~1200nm，優(yōu)選為700~1200nm的激光器。用于本發(fā)明成像元件曝光用的激光器優(yōu)選為二極管激光器，這是因?yàn)槎O管激光器系統(tǒng)的可靠性和低維護(hù)的緣故，但其它的激光器例如氣態(tài)和固態(tài)激光器也可以使用。用于激光成像的功率，強(qiáng)度和曝光時(shí)間的組合對(duì)本領(lǐng)域技術(shù)人員是容易確定的。當(dāng)前，用于可商業(yè)獲得的照排機(jī)中的高性能激光器或激光器二極管發(fā)出的紅外輻射在波長(zhǎng)800-850nm或1040~1120亂成像裝置可僅作為照排機(jī)工作，或者也可將它直接引入到平版印刷中。在后者情況下，印刷可在成像后立即開始，從而大大減少了印刷設(shè)定時(shí)間。成像裝置可設(shè)計(jì)成平臺(tái)式記錄儀或鼓記錄儀，而可成像元件安裝到鼓的內(nèi)或外圓柱表面上。可獲得的有用的成像裝置的例子有Creo公司(加拿大Burnaby,BritishColumbia的伊斯曼-柯達(dá)公司的子公司)的CreoTrendsette產(chǎn)型照排機(jī)，其含有在波長(zhǎng)830nm發(fā)出近紅外輻射的激光器二極管。其它適合的成像源包括GerberCrescent42TPlatesetter,其在波長(zhǎng)1064nm下才喿作(可由GerberScientific,Chicago,IL獲得),以及ScreenPlateRite4300系列或8600系列的影排印版機(jī)(可由Screen,Chicago,IL獲得)。另外的有用的輻射源包括直接成像印刷機(jī)，其可在連接到印刷版滾筒時(shí)用于對(duì)元件進(jìn)行成像。適合的直接成像印刷機(jī)的例子包括HeidelbergSM74-DI印刷機(jī)(可由Heidelberg,Dayton,OH獲得)。成4象速度可在50-1500mJ/cm2的范圍，更優(yōu)選是在75-400mJ/cm2的范圍內(nèi)。盡管本發(fā)明優(yōu)選采用激光器成像，但成像也由其它任何提供可成像熱能的方式提供。例如，可使用在如美國(guó)專利5,488,025(Martin等人)中描述的所謂"熱印刷"中使用的或用作熱傳真機(jī)和升華印刷機(jī)中熱電阻頭(熱印刷頭)來實(shí)現(xiàn)成像。熱印刷頭可通過商業(yè)渠道獲得(例如FujitsuThermalHeadFTP-040MCS001和TDKThermalHeadF415HH7-1089)。在任何情況下，一般在成像中均使用直接數(shù)字成像。圖像信號(hào)作為位圖數(shù)據(jù)文件存儲(chǔ)在計(jì)算機(jī)中。這樣的文件可通過光柵圖形處理器(RIP)或其它恰當(dāng)?shù)姆绞缴?。位圖經(jīng)構(gòu)建而定義出顏色的色調(diào)以及網(wǎng)線頻率和角度。可成像元件的成像產(chǎn)生了包含成像的(曝光)和未成像的(未曝光)區(qū)域的潛像的成像的元件。用適合的堿性顯影劑對(duì)成像的元件進(jìn)行顯影以除去外層的的曝光區(qū)域以及位于其下的層(包括內(nèi)層)，并顯露出基板的親水表面。因此，這種可成像元件是"正性工作的"。親水表面的曝光(或成像的)區(qū)域排斥油墨，而外層的未曝光(或未成像的)區(qū)域吸收油墨。更具體的，顯影進(jìn)行的時(shí)間應(yīng)長(zhǎng)到足以除去外層的成像的(曝光)區(qū)域和以及位于其下的層，但又不能長(zhǎng)到除去外層的未成像的(未曝光)區(qū)域。由于外層的成像的(曝光)區(qū)域比外層的未成像的(未曝光)區(qū)域更容易被堿性顯影劑除去，溶解或分散于其中，因此它們被描述為在堿性顯影劑中"可溶"或"可除去"。因此，術(shù)語"可溶"也表示"可分散"。成像的元件一般使用傳統(tǒng)的處理?xiàng)l件進(jìn)行顯影。水性堿性顯影劑和溶劑基的堿性顯影劑(優(yōu)選)均可使用。水性堿性顯影劑的pH通常至少為7,優(yōu)選至少為11。有用的水性堿性顯影劑包括3000Developer,9000Developer,GoldStarDeveloper,GreenStarDeveloper,ThermalProDeveloper,ProthermDeveloper,MX1813Developer,和MX1710Developer(均可從伊斯曼-柯達(dá)公司的子公司KodakPolychromeGraphics獲得)。這些組合物一般也包括表面活性劑，螯合劑(例如乙二胺四乙酸的鹽)，和堿性組分(例如無機(jī)金屬硅酸鹽，有機(jī)金屬硅酸鹽，氬氧化物，和碳酸氬鹽)。溶劑基的堿性顯影劑一般為一種或多種易與水混合的有機(jī)溶劑的單相溶液。有用的有機(jī)溶劑是苯酚和環(huán)氧乙烷和環(huán)氧丙烷的反應(yīng)產(chǎn)物(例如丙二醇苯醚(苯氧基乙醇))，千醇，乙二醇和丙二醇與具有6個(gè)或更少碳原子的酸的酯，以及具有6個(gè)或更少碳原子的烷基的乙二醇，二乙二醇，和丙二醇如2-乙基乙醇和2-丁氧基乙醇的醚。有才幾溶劑一般占顯影劑總重量的0.5~15%。特別希望的是堿性顯影劑含有一種或多種硫代硫酸鹽或氨基化合物，其包含用親水基團(tuán)如鞋基取代的烷基，聚環(huán)氧乙烷鏈，或具有pKa小于7(更優(yōu)選為小于5)的酸性基團(tuán)或它們相應(yīng)的鹽(例如羧基，磺基，磺酸鹽，硫酸鹽，膦酸，和磷酸基)。這類特別有用的氨基化合物包括但不限于，一乙醇胺，二乙醇胺，氨基乙酸，丙氨酸，氨乙基磺酸及其鹽，氨丙基磺酸及其鹽，以及Jeffamme化合物(例如，氨基封端的聚環(huán)氧乙烷)。代表性的溶劑基的堿性顯影劑包括ND-IDeveloper,955Developer和956Developer(可由4尹斯曼-柯達(dá)乂>司的子^>司KodakPolychromeGraphics獲得)。一般來說，堿性顯影劑是通過用含顯影劑的涂布器在外層上揉擦或擦拭而涂布在成像的元件上的?；蛘?，可在成像的元件上刷顯影劑，或者通過用足夠去除曝光區(qū)域的力向外層噴涂顯影劑而進(jìn)行涂布。再有，成像的元件也可浸入顯影劑中。在所有的情況下，顯影的圖像均在對(duì)具有優(yōu)異的耐刷室化學(xué)品的平版印刷版上形成。顯影后，成像的元件可用水清洗并適當(dāng)?shù)丶右愿稍铩８稍锏脑部捎脗鹘y(tǒng)的涂膠溶液(優(yōu)選為阿拉伯樹膠)處理。也可在后焙烘操作中對(duì)該成像的和顯影的元件進(jìn)行焙烘，這一過程可用于增加所得的成像元件的運(yùn)轉(zhuǎn)周期。焙烘例如可在220°C~24(TC下進(jìn)4t7~10分鐘，或在120。C下進(jìn)行30分鐘?？赏ㄟ^將平版印刷油墨和潤(rùn)版液涂布在成像的元件的印刷表面上來進(jìn)行印刷。油墨被外層的未成像的(未曝光或未除去)區(qū)域吸收，而潤(rùn)版液被在成像和顯影過程中揭露出的基板的親水表面吸收。油墨然后轉(zhuǎn)移到適合的接受材料(如布、紙、金屬、玻璃或塑料)上，從而在其上提供期望的圖像的印記。如果需要，可使用中間"橡皮布"輥?zhàn)觼韺⒂湍珡某上竦脑D(zhuǎn)移到接受材料上。如果需要，可使用傳統(tǒng)的清潔手段和化學(xué)品在蓋印之間對(duì)成像的元件進(jìn)行清潔。以下的實(shí)施例一皮提供用來說明本發(fā)明的實(shí)施，但并不能以任何方式構(gòu)成對(duì)本發(fā)明的限制。實(shí)施例中使用的材料和方法Rohamere6852-0具有下列結(jié)構(gòu)可以50%的水溶液形式由Degussa(Darmstadt,德國(guó))獲得。N-羥曱基曱基丙烯酰胺可以60%的水溶液形式由ABCRGmbHKG(Karlsruhe,德國(guó))獲得?；錋是0.3規(guī)格的鋁片，其已進(jìn)行過電磨版，陽極電鍍，并用聚乙烯基膦酸溶液處理過。IR染津+A具有下列結(jié)構(gòu)IR染料AByk307是聚乙氧基化的二甲基聚曱硅烷共聚物，其可由BYKChemie(Wallingford,康涅狄格州)得到。956Developer是溶劑基的堿性顯影劑(含有苯氧基乙醇)，可由4尹斯曼-^T達(dá)^^司的子乂>司KodakPolychromeGraphics(Norwalk,康涅狄格州)獲得。PD140八是酚醛樹脂(75%間甲酚，25%對(duì)甲酚，mw7000),可由BordenChemical(Louisville,肯塔基州)得到。P3000是焦酚丙酮濃縮物的1,2-重氮萘醌-5-磺酸酯，可由PCAS(Longjumeau,法國(guó))獲得。乙基紫(堿性紫4,C丄42600)可由AldrichChemicalCompany(Milwaukee,威斯康星州)獲得。Dll染料是三芳基曱烷染料，可由PCAS(Longjumeau,法國(guó))獲得，且由以下結(jié)構(gòu)式表示<formula>formulaseeoriginaldocumentpage27</formula>合成方法以下合成過程按下列順序的步驟進(jìn)行a)將所有的反應(yīng)物投入配備了冷凝器，氮源，溫度計(jì)，攪拌器，和加熱套的四頸圓底燒瓶(1升)中，反應(yīng)容器中還含有1,3-二氧戊環(huán)/水[90:10(v:v);451.41g]。b)通過將氮噴口連接到入口，將氮出口(冷凝器頂部)連接到Dreschel瓶，且保持正的氮壓1小時(shí)而向反應(yīng)溶液中提供氮。c)升溫到60°C。d)將2,2'-偶氮二異丁腈(AIBN,0.034g)溶解在1,3-二氧戊環(huán)(0.50g)中，并加入到反應(yīng)混合物中。e)攪拌反應(yīng)混合物24小時(shí)，并在通氮下保持恒定溫度60。C。f)通過攪拌下緩慢將聚合物溶液加入到乙醇/水[(80/20)1000ml+5滴HC1]中形成沉淀而分離出所得的聚合物。過濾沉淀物并用乙醇/水[(80/20)1000ml]清洗，并再次過濾。g)40。C下干燥沉淀物至恒定重量(2天)。合成制備1:使用上述合成方法從30mol。/。N-苯基順丁烯二酰亞胺(14.97g),15mol%曱基丙烯酰胺(3.68g),20mol%甲基丙烯酸(4.96g)，20mol%Rohamere6852-0(22.84g)，和15mol%N-羥甲基曱基丙烯酰胺(8.29g)制備共聚物1(36.26g，產(chǎn)率71%)。合成制備2:使用上述合成方法從30mol。/。N-苯基順丁烯二酰亞胺(14.03g),15mol%甲基丙烯酰胺(3.45g),20mol%曱基丙烯酸(4.65g),20mol%Rohamere6852-0(21.41g),和15mol%N-(對(duì)羥基苯基)曱基丙烯酰胺(7.18g)制備共聚物2(30.43g,產(chǎn)率59%)。合成制備3:使用上述合成方法從30mol。/。N-苯基順丁烯二酰亞胺(13.18g),15mol%曱基丙烯酰胺(3.24g),20mol%曱基丙烯酸(4.37g),20mol%Rohamere6852-0(20.12g),和15mol%N-(對(duì)氨基磺?；交?甲基丙烯酰胺(9.15g)制備共聚物3(36.36g,產(chǎn)率74%)。合成制備4:使用上述合成方法從30mol。/oN-苯基順丁烯二酰亞胺(14.74g),15mol%曱基丙烯酰胺(3.62g),20mol%甲基丙烯酸(4.89g),20mol%Rohamere6852-0(22.50g),和15mol%N-甲氧基曱基丙烯酰胺(3.62g)制備共聚物4(31.60g,產(chǎn)率72%)。合成制備5:使用上述合成方法從30mol。/oN-苯基順丁烯二酰亞胺(14.13g)，15mol%甲基丙烯酰胺(3.47g)，20mol%曱基丙烯酸(4.68g),20mol%Rohamere6852-0(21.56g),和15mol%N-[3-(二曱基氨基)丙基]曱基丙烯酰胺(6.94g)制備共聚物5(21.91g,產(chǎn)率43%)。合成制備6:使用上述合成方法從30mol%N-苯基順丁烯二酰亞胺(21.74g),20mol%曱基丙烯酸(7.21g),20mol%Rohamere6852-0(33.19g),和30mol%N-羥甲基甲基丙烯酰胺(24.09g)制備共聚物6(56.93g,產(chǎn)率94%)。合成制備7:使用上述合成方法從41.5mol%N-苯基順丁烯二酰亞胺(32.39g),21mol%曱基丙烯酸(8.15g),和37.5mol%N-羥曱基曱基丙烯酰胺(32.43g)制備共聚物7(58.21g,產(chǎn)率97%)。合成制備8:使用上述合成方法從41.5mol%N-苯基順丁烯二酰亞胺(31.00g),21mol°/0甲基丙烯酸(6.77g),和37.5mol%甲基丙烯酰胺(14.21g)制備共聚物8(42.62g,產(chǎn)率85%)。合成制備9:使用上述合成方法從30mol%N-苯基順丁烯二酰亞胺(7.65g),20mol%曱基丙烯酸(2.53g),25mol%曱基丙烯酰胺(3.13g),20mol%Rohamere6852-0(11.67g),和5mol%N-羥甲基曱基丙烯酰胺(1.41g)制備共聚物9(18.13g,產(chǎn)率91%)。合成制備10:使用上述合成方法從35mol%N-苯基順丁烯二酰亞胺(9.01g),20mol%曱基丙烯酸(2.56g),25mol%甲基丙烯酰胺(3.16g),15mol%Rohamere6852-0(8.84g),和5mol%N-羥曱基曱基丙烯酰胺(1.43g)制備共聚物10(18.88g，產(chǎn)率94%)。合成制備11:使用上述合成方法從25mol%N-苯基順丁烯二酰亞胺(6.32g),20mol%甲基丙烯酸(2.51g),25mol%甲基丙烯酰胺(3.10g),25mol%Rohamere6852-0(14.46g),和5mol%N-羥曱基曱基丙烯酰胺(1.40g)制備共聚物11(16.55g,產(chǎn)率83%)。合成制備12:使用上述合成方法從25mol%N-苯基順丁烯二酰亞胺(13.45g),20mol%曱基丙烯酸(5.35g),25mol%曱基丙烯酰胺(6.61g),15mol%Rohamere6852-0(18.47g),和15mol%N-羥曱基曱基丙烯酰胺(8.94g)制備共聚物12(30.66g,產(chǎn)率77%)。合成制備13:使用上述合成方法從30mol%N-苯基順丁烯二酰亞胺(17.87g),25mol%甲基丙烯酸(7.40g),30mol%甲基丙烯酰胺(8.78g),和15mol%N-羥曱基甲基丙烯酰胺(9.90g)制備共聚物13(37.80g,產(chǎn)率95%)。發(fā)明實(shí)施例1和對(duì)比例1-4:使用線繞式棒將含有下表I中描述成分的1,3-二氧戊環(huán)PGME:y-丁內(nèi)酯水(65:15:10:10重量比)的涂布溶液涂布在基澤反A上。所得聚合物層在135。C干燥30秒。每種得到的聚合物層的涂層厚為1.5g/m2。<table>tableseeoriginaldocumentpage31</column></row><table>干的樣品進(jìn)4亍以下測(cè)試顯影劑溶解性以2秒的間隔在至多30秒內(nèi)向干燥的聚合物層涂上幾滴956顯影劑，然后立即用水洗掉。記錄下聚合物層完全溶解的時(shí)間。對(duì)紫外油墨清洗劑的抵抗性以1分鐘的間隔在至多5分鐘內(nèi)向各干燥的聚合物層涂上幾滴雙丙酮醇/水(4:1)，然后立即用水洗掉。5分鐘后估計(jì)剩余的聚合物層的量。對(duì)醇-sub(alcohol-sub)潤(rùn)版液溶液的抵抗性以1分鐘的間隔在至多5分鐘內(nèi)向各干燥的聚合物層涂上幾滴乙二醇單丁醚(BC):水(4:l體積比例)，然后立即用水洗掉。5分鐘后估計(jì)剩余的聚合物層的量。烘培測(cè)試干燥的聚合物層在Mathis實(shí)驗(yàn)室干燥器中于23(TC烘培8分鐘，風(fēng)扇速度為1000rpm。以2分鐘的間隔在10分鐘內(nèi)涂布正性圖^象消片反劑PE3S(可由KodakPolychromeGraphics,JapanLtd獲得)，然后用水清洗。如果消版液(deletiongel)不能除去任何涂層，則認(rèn)為聚合物層是100%可烘培的。如果消版液能夠除去50%的涂層，則認(rèn)為聚合物層是50%可烘培的。表I中描述的干燥聚合物層的這些測(cè)試結(jié)果提供在下表II中。表II<table>tableseeoriginaldocumentpage33</column></row><table>通過線繞式棒將下表III中描述的上層制劑(二乙基酮)涂布在上述干燥的聚合物層上。制劑濃度經(jīng)選擇可提供具有涂層重量為0.7g/m2的干膜。上層涂層在135匸干燥30秒。表in<table>tableseeoriginaldocumentpage34</column></row><table><吏用以下測(cè)試評(píng)價(jià)所得的可成〗象元件用830nm的輻射在可商業(yè)獲得的Creo3244Trendsetter對(duì)元件進(jìn)行成像曝光。在曝光量130,120,110，100,卯，80和70mJ/cm2,8瓦特下應(yīng)用PlotO內(nèi)部測(cè)試圖。然后在KodakPolychromeGraphics85N處理器中用956Developer在25。C每分鐘5英尺的處理速度對(duì)成像的元件進(jìn)行顯影。然后評(píng)價(jià)元件的"清除"(即使用顯影劑完全除去曝光區(qū)域所需的最低能量)和最佳分辨率(即元件出現(xiàn)最佳表現(xiàn)時(shí)的成像能量)。結(jié)果示于下表IV中。表IV<table>tableseeoriginaldocumentpage34</column></row><table>發(fā)明實(shí)施例2和對(duì)比例5:配制含有下表V中描述組分的涂布制劑，將其涂布于基板A上，并按發(fā)明實(shí)施例1中描述那樣干燥。所得聚合物層的涂布重量是1.5g/m、使用上面發(fā)明實(shí)施例1中描述的相同測(cè)試對(duì)干燥的聚合物層進(jìn)行表V<table>tableseeoriginaldocumentpage35</column></row><table>通過線繞式棒將下表VII中描述的上層制劑(二乙基曱酮)涂布在上述干燥的聚合物層上。制劑濃度經(jīng)選擇可提供具有涂層重量為0.7g/m2的干膜。上層涂層在135。C干燥30秒。表VII<table>tableseeoriginaldocumentpage36</column></row><table>實(shí)施例3-5:配制含有下表IX中描述組分的涂布制劑，將其涂布于基板A上，并按發(fā)明實(shí)施例1中描述那樣干燥。所得聚合物層的涂布重量是1.5g/m、使用上面發(fā)明實(shí)施例1中描述的相同測(cè)試對(duì)干燥的聚合物層進(jìn)行評(píng)價(jià)，結(jié)果示于下表X中。表IX<table>tableseeoriginaldocumentpage37</column></row><table>表x<table>tableseeoriginaldocumentpage37</column></row><table>通過線繞式棒將下表XI中描述的上層制劑(二乙基曱酮)涂布在上述干燥的聚合物層上。制劑濃度經(jīng)選擇可提供具有涂層重量為0.7g/n^的干膜。上層涂層在135。C干燥30秒。表XI<table>tableseeoriginaldocumentpage38</column></row><table>使用上面發(fā)明實(shí)施例1中描述的相同"清除"測(cè)試對(duì)所得可成^f象元件進(jìn)行評(píng)價(jià)，結(jié)果示于下表XII中。表XII<table>tableseeoriginaldocumentpage38</column></row><table>實(shí)施例6:配制含有下表xni中描述組分的涂布制劑，將其涂布于基板a上，并按發(fā)明實(shí)施例1中描述那樣干燥。所得聚合物層的涂布重量是1.5g/m、使用上面發(fā)明實(shí)施例1中描述的相同測(cè)試對(duì)干燥的聚合物層進(jìn)行評(píng)價(jià)，結(jié)果示于下表XIV中。<table>tableseeoriginaldocumentpage39</column></row><table>通過線繞式棒將下表XV中描述的上層制劑(二乙基甲酮)涂布在上述干燥的聚合物層上。制劑濃度經(jīng)選擇可提供具有涂層重量為0.7g/m"的干膜。上層涂層在135。C千燥30秒。表XV<table>tableseeoriginaldocumentpage40</column></row><table>使用上面發(fā)明實(shí)施例1中描述的相同測(cè)試對(duì)所得可成像元件進(jìn)行評(píng)價(jià)，結(jié)果示于下表XVI中。表XVI<table>tableseeoriginaldocumentpage40</column></row><table>權(quán)利要求1.一種正性工作的可成像元件，其含有吸收輻射的化合物以及具有親水表面的基板，并且在該基板上依次包括內(nèi)層，其含有可使用堿性顯影劑除去的聚合材料，且聚合材料中的1～50mol％的重復(fù)單元是衍生自于一種或多種以下結(jié)構(gòu)(I)表示的烯屬不飽和可聚合單體CH2＝C(R1)C(＝O)NR2(CR3R4)nOH(I)其中R1，R2，R3和R4獨(dú)立地表示氫、低級(jí)烷基，或苯基，且n為1～20，以及吸油墨的外層，該層基本不含所述吸收輻射的化合物且在熱成像前不會(huì)被堿性顯影劑除去，條件是在熱成像后，所述元件的成像區(qū)域可由堿性顯影劑去除。2.權(quán)利要求1的可成像元件，其中所述內(nèi)層的聚合材料是由以下結(jié)構(gòu)式(II)表示<formula>formulaseeoriginaldocumentpage2</formula>(II)其中A表示由以下結(jié)構(gòu)式(la)表示的重復(fù)單元<formula>formulaseeoriginaldocumentpage2</formula>B表示含有酸性官能團(tuán)或N-順丁烯二酰亞胺基團(tuán)的重復(fù)單元，C表示與A和B不同的重復(fù)單元，基于總的重復(fù)單元，x是l50mo1。/。，y是40卯mo10/0,以及z是0-70mo10/0。3.權(quán)利要求2的可成像元件，其中基于總的重復(fù)單元，x是1040mol%,y是4070mo10/。，以及z是0~50mol%。4.權(quán)利要求2的可成像元件，其中A表示衍生自N-羥曱基丙烯酰胺和N-羥曱基曱基丙烯酰胺中的一種或兩種的重復(fù)單元，B表示衍生自N-苯基順丁烯二酰亞胺，N-環(huán)己基順丁烯二酰亞胺，N-節(jié)基順丁烯二酰亞胺，N-(4-羧基苯基)順丁烯二酰亞胺，(甲基)丙烯酸，以及乙烯基苯曱酸中的一種或多種的重復(fù)單元，C表示衍生自苯乙烯類單體，曱基(丙烯酸)酯，N-取代的(甲基)丙烯酰胺，順丁烯二酸酐，(甲基)丙烯腈，丙烯酸烯丙酯，以及由以下結(jié)構(gòu)式(III)表示的化合物中的一種或多種的重復(fù)單元，<formula>formulaseeoriginaldocumentpage3</formula>(in)其中R為氫，曱基或鹵素，X是具有2~12個(gè)碳原子的亞烷基，以及m是1~3,基于總的重復(fù)單元，x是1040mo1。/。，y是4070mo1。/。，以及z是0-50mo10/0。5.權(quán)利要求4的可成像元件，其中B表示基于總重復(fù)單元的含量為20-50mol。/。的衍生自N-苯基順丁烯二酰亞胺，N-環(huán)己基順丁烯二酰亞胺，N-千基順丁烯二酰亞胺，N-(4-羧基苯基)順丁烯二酰亞胺中的至少一種以及含量為1030mol。/。的衍生自(甲基)丙烯酸和乙烯基苯曱酸中的至少一種的重復(fù)單元。6.權(quán)利要求4的可成像元件，其中C表示衍生自甲基丙烯酰胺，(甲基)丙烯腈，順丁烯二酸酐，或<formula>formulaseeoriginaldocumentpage4</formula>的重復(fù)單元。7.權(quán)利要求1的可成像元件，其中所述外層包含苯酚類樹脂及任選的至少0.1重量％的溶解抑制劑。8.權(quán)利要求7的可成像元件，其中所述苯酚類樹脂是酚搭樹脂，所述溶解抑制劑的含量是0.5-30重量％。9.權(quán)利要求7的可成像元件，其中所述苯酚類樹脂含有極性基團(tuán)。10.權(quán)利要求1的可成像元件，其中所述吸收輻射的化合物排他性存在于所述內(nèi)層中，其含量至少為10重量％。11.權(quán)利要求10的可成像元件，其中所述吸收輻射的化合物為吸收紅外輻射的化合物，其為具有消光系數(shù)在700~1200nm的顏料或IR染料。12.權(quán)利要求1的可成像元件，其中所述內(nèi)層具有的干涂層重量為0.5-2.5g/m2，且外層具有的干涂層重量為0.2~2g/m2。13.—種形成圖像的方法，包括A)熱成像正性工作的可成像元件，所述成像元件含有吸收輻射的化合物以及具有親水表面的基質(zhì)，并且在該基質(zhì)上依次包括內(nèi)層，其含有可使用堿性顯影劑除去的聚合材料，且聚合材料中的l~50mol%的重復(fù)單元是衍生自于一種或多種以下結(jié)構(gòu)(I)表示的烯屬不飽和可聚合單體CHfC(R^)C(,NR2(CRV)nOH(I)其中R1,112,113和W獨(dú)立地表示氬、低級(jí)烷基，或苯基，且n為l20,以及吸油墨的外層，該層基本不含所述吸收輻射的化合物且在熱成像前不會(huì)被堿性顯影劑除去，條件是在熱成像后，所述元件的成像區(qū)域可由堿性顯影劑去除，從而形成具有成像和非成像區(qū)域的成像元件，其中所述成像區(qū)域在所述元件進(jìn)行熱成像后可通過堿性顯影劑去除，B)使所述成像元件與堿性顯影劑接觸從而只去除成像區(qū)域，顯露出親水基質(zhì)，以及C)任選地對(duì)成像和顯影后的所述可成像元件進(jìn)行供焙。14.權(quán)利要求13的方法，其中所述堿性顯影劑是溶劑基的堿性顯影劑。15.權(quán)利要求13的方法，其中所述成像區(qū)域是通過將所述可成像元件曝光于紅外激光器產(chǎn)生的波長(zhǎng)為600~1200nm的合適的紅外光源形成的。16.權(quán)利要求13的方法，其中所述成像的和顯影的元件是正性工作的平版印刷版。17.權(quán)利要求13的方法，其中所述成像的和顯影的元件是印刷電^各斗反或掩膜元件。18.權(quán)利要求13的方法，其中所述內(nèi)層的聚合材料是由以下結(jié)構(gòu)式(II)表示<formula>formulaseeoriginaldocumentpage5</formula>其中A表示由以下結(jié)構(gòu)式(Ia)表示的重復(fù)單元<formula>formulaseeoriginaldocumentpage5</formula>B表示含有酸性官能團(tuán)或N-順丁烯二酰亞胺基團(tuán)的重復(fù)單元，C表示與A和B不同的重復(fù)單元，基于總的重復(fù)單元，x是l50mol%,y是4090mo10/。，以及z是0-70mo10/0。19.權(quán)利要求18的方法，其中A表示衍生自N-羥甲基丙烯酰胺和N-羥甲基甲基丙烯酰胺中的一種或兩種的重復(fù)單元，B表示衍生自N-苯基順丁烯二酰亞胺，N-環(huán)己基順丁烯二酰亞胺，N-節(jié)基順丁烯二酰亞胺，N-(4-羧基苯基)順丁烯二酰亞胺，(曱基)丙烯酸，以及乙烯基苯甲酸中的一種或多種的重復(fù)單元，C表示衍生自苯乙烯類單體，甲基(丙烯酸)酯，N-取代的(甲基)丙烯酰胺，順丁烯二酸酐，(甲基)丙烯腈，丙烯酸烯丙酯，以及由以下結(jié)構(gòu)式(III)表示的化合物中的一種或多種的重復(fù)單元，(III)其中R為氳，曱基或鹵素，X是具有2~12個(gè)碳原子的亞烷基，以及m是1~3,基于總的重復(fù)單元，x是10-40mo1。/。，y是4070mo1。/。，以及z是050mo10/0。20.由權(quán)利要求13的方法獲得的圖像。全文摘要一種正性工作的可成像元素，其含有吸收輻射的化合物以及具有親水表面且在其上具有內(nèi)層和外層的基板。內(nèi)層含有可使用堿性顯影劑除去的聚合材料，且聚合物中的1～50mol％的重復(fù)單元是衍生自于一種或多種以下結(jié)構(gòu)(I)表示的烯屬不飽和可聚合單體CH₂＝C(R¹)C(＝O)NR²(CR³R⁴)_nOH(I)，其中R¹，R²，R³和R⁴獨(dú)立地表示氫、低級(jí)烷基，或苯基，且n為1～20。該可成像元件具有改進(jìn)的對(duì)顯影和印刷用化學(xué)品和溶劑的耐性。文檔編號(hào)B41M5/36GK101300139SQ200680040558公開日2008年11月5日申請(qǐng)日期2006年10月17日優(yōu)先權(quán)日2005年11月1日發(fā)明者A·克雷布斯,E·L·謝里夫,J·雷,K·B·雷申請(qǐng)人:伊斯曼柯達(dá)公司