專利名稱：用于安裝護(hù)膜的裝置和方法
技術(shù)領(lǐng)域：
示例性實(shí)施例涉及用于安裝護(hù)膜的裝置和方法。
背景技術(shù)：
護(hù)膜是保護(hù)層或被設(shè)計(jì)為保護(hù)形成在刻線上的圖案的膜。
圖l是根據(jù)傳統(tǒng)方法用于安裝護(hù)膜的裝置的橫截面圖。圖2是圖1 所示的根據(jù)傳統(tǒng)方法用于安裝護(hù)膜的裝置的攝影圖像。
參考圖1和圖2，用于安裝護(hù)膜的裝置包括支撐板15、護(hù)膜壓縮板 11和刻線14，在刻線14上形成所期望和/或預(yù)定的圖案。將包括護(hù)膜框 架12和護(hù)膜膜層13的護(hù)膜設(shè)置在刻線14面向護(hù)膜壓縮板11的表面上。 形成在刻線14上的所期望和/或預(yù)定的圖案可以是擋光膜圖案或相移膜 圖案?？叹€14可以由石英形成并且在制造半導(dǎo)體器件期間發(fā)射光。置 于護(hù)膜框架12上的護(hù)膜壓縮板11可以將均衡的壓力F施加到護(hù)膜框架 12以將護(hù)膜框架12安裝到刻線14上。
刻線14的對(duì)準(zhǔn)和平直度可能由于在護(hù)膜安裝工藝中施加的壓力F 而變形。

發(fā)明內(nèi)容
示例性實(shí)施例提供用于安裝護(hù)膜的裝置和方法，該裝置和方法可
以減小和/避免刻線的對(duì)準(zhǔn)的變形并且改善刻線的平直度。
根據(jù)示例性實(shí)施例，提供用于安裝護(hù)膜的裝置，該裝置可以包括 護(hù)膜壓縮板，該護(hù)膜壓縮板被配置為將多個(gè)壓力施加到護(hù)膜的護(hù)膜框 架接觸刻線處的多個(gè)點(diǎn)和/或多個(gè)區(qū)上。
所述裝置還可以包括平直度測(cè)量裝置，該平直度測(cè)量裝置被配置 為測(cè)量刻線的平直度。
護(hù)膜壓縮板可以被配置為基于平直度測(cè)量裝置的測(cè)量而施加多個(gè) 壓力。
可以將平直度測(cè)量裝置配置為提供刻線的平直度圖，該刻線的平 直度圖在將護(hù)膜安裝到刻線上之前通過測(cè)量刻線的平直度而獲得。
可以將平直度裝置配置為提供刻線的平直度圖，該刻線的平直度 圖在將護(hù)膜安裝到刻線上之后通過測(cè)量刻線的平直度而獲得。
可以將護(hù)膜壓縮板配置為根據(jù)刻線的對(duì)準(zhǔn)圖而施加多個(gè)壓力。
所述多個(gè)壓力中的一個(gè)可以是調(diào)節(jié)壓力，以補(bǔ)償并改善刻線的特 性。所述特性可以是刻線的平直度和/或?qū)?zhǔn)。
刻線的對(duì)準(zhǔn)圖可以通過在將護(hù)膜安裝到刻線上之前通過測(cè)量刻線 的對(duì)準(zhǔn)而獲得。
刻線的對(duì)準(zhǔn)圖可以通過在將護(hù)膜安裝到刻線上之后通過測(cè)量刻線 的對(duì)準(zhǔn)而獲得。
所述刻線可以包括由石英形成的光掩模。
所述裝置還可以包括平直度測(cè)量裝置，該平直度測(cè)量裝置測(cè)量刻 線的平直度；并且還可以將護(hù)膜壓縮板配置為將附連壓力[YangBFl]施 加到刻線區(qū)域上方的護(hù)膜框架上，該刻線區(qū)域?yàn)樽o(hù)膜框架根據(jù)壓力條 件接觸刻線處，所述壓力條件根據(jù)由平直度測(cè)量裝置測(cè)量的刻線的平 直度圖來計(jì)算。
所述附連壓力可以是護(hù)膜框架接觸刻線處的刻線區(qū)域上方連續(xù)變 化的值或不連續(xù)變化的值。
根據(jù)示例性實(shí)施例，提供了一種安裝護(hù)膜的方法，該方法可以包 括通過測(cè)量刻線的特性而產(chǎn)生刻線圖；以及將多個(gè)壓力施加到刻線的 多個(gè)點(diǎn)和/或多個(gè)區(qū)上，在該刻線的多個(gè)點(diǎn)和/或多個(gè)區(qū)處，護(hù)膜框架根 據(jù)產(chǎn)生的刻線圖而接觸所述刻線。
所述刻線的特性可以是平直度和/或?qū)?zhǔn)。
所述方法還可以包括將護(hù)膜安裝到刻線上。
所述方法還可以包括在通過測(cè)量刻線的特性而產(chǎn)生刻線圖之前將 護(hù)膜安裝到刻線上。


通過參考附圖對(duì)示例性實(shí)施例進(jìn)行的詳細(xì)描述，示例性實(shí)施例的 上述和其他特征和優(yōu)點(diǎn)將變得更加清楚。
圖l是根據(jù)傳統(tǒng)方法用于安裝護(hù)膜的裝置的橫截面圖2是根據(jù)傳統(tǒng)方法用于安裝護(hù)膜的裝置的攝影圖像；
圖3A示出了在將護(hù)膜安裝到刻線之前的刻線的對(duì)準(zhǔn)圖3B示出了在將護(hù)膜固定到刻線之后的刻線的對(duì)準(zhǔn)圖3C示出了根據(jù)用于安裝護(hù)膜的裝置和方法的示例性實(shí)施例而改
善的刻線的對(duì)準(zhǔn)的精確度；
圖4A是示出了沿刻線的表面上的線進(jìn)行的刻線的平直度測(cè)量的圖
示；
圖4B是示出了圖4A的刻線的平直度的主要的微分值的圖示； 圖4C是示出了根據(jù)用于安裝護(hù)膜的裝置和方法的示例性實(shí)施例的
刻線的對(duì)準(zhǔn)測(cè)量的圖示；
圖5是示出了根據(jù)示例性實(shí)施例用于安裝護(hù)膜的裝置的橫截面圖； 圖6是示出了分布在安裝有護(hù)膜的刻線表面的區(qū)域上的多個(gè)特定
壓力的局部透視圖。
具體實(shí)施例方式
現(xiàn)在參考其中示出了示例性實(shí)施例的附圖對(duì)示例性實(shí)施例進(jìn)行更 充分地描述。然而，示例性實(shí)施例可以以多種不同的形式體現(xiàn)，并且 不應(yīng)被解釋為限制到此處提出的實(shí)施例；此外，提供示例性實(shí)施例從
而使本公開全面而完整，并且將本申請(qǐng)的概念充分傳達(dá)給本領(lǐng)域技術(shù) 人員。
在附圖中，為了清楚，放大層和區(qū)域的厚度。在整個(gè)說明書和附 圖中，相同的附圖標(biāo)記代表相同的元件。
在整個(gè)說明書中，還將理解的是，當(dāng)提及到例如層、區(qū)域或襯底 的元件位于另一個(gè)元件"上"時(shí)，該元件可以直接位于其它元件上或 者還可以提供中間元件。此外，此處可以使用例如"下"或"底"以 及"上"或"頂"的相對(duì)項(xiàng)以描述圖中所示的一個(gè)元件與另一個(gè)元件 的關(guān)系。將理解的是，相對(duì)的術(shù)語意在包括所述器件除附圖中描述的 方向以外的不同方向。例如，如果顛倒附圖中的器件，則被描述為位 于其它元件"下"側(cè)的元件則將被定向在所述其它器件的"上"側(cè)。 取決于圖示的特定方向，示例性的術(shù)語"下"可能因此包括方向"下" 和方向"上"。類似地，如果在某個(gè)附圖中的顛倒器件，則被描述為 "低于"其它元件或位于其他元件"之下"的元件則將被定向在其它
元件"之上"。示例性的術(shù)語"低于"或"之下"可能因此包括之上 和以下的方向。
圖3A示出了在將護(hù)膜安裝到刻線之前的刻線的對(duì)準(zhǔn)圖，圖3B示出 了在將護(hù)膜安裝到刻線之后的刻線的對(duì)準(zhǔn)圖，并且圖3C示出了根據(jù)示 例性實(shí)施例的改善的刻線的對(duì)準(zhǔn)。
參考圖3A，在將護(hù)膜(pellicle)安裝到刻線之前，刻線(3") 在x方向上的統(tǒng)計(jì)對(duì)準(zhǔn)值為8.66nm并且在y方向上的統(tǒng)計(jì)對(duì)準(zhǔn)值為 9.63nm。
參考圖3B，在將護(hù)膜安裝到刻線之后，刻線(3")在x方向上 的統(tǒng)計(jì)對(duì)準(zhǔn)值為9.50nm并且在y方向上的統(tǒng)計(jì)對(duì)準(zhǔn)值為10.25nm。
因此，在將護(hù)膜安裝到刻線的工藝期間，刻線的對(duì)準(zhǔn)發(fā)生變化。 刻線的對(duì)準(zhǔn)的變化可以由刻線平直度的變化而引起，該刻線平直度的 變化是由于在將護(hù)膜安裝到刻線的工藝中施加的壓力而產(chǎn)生。
參考圖3C，在將護(hù)膜安裝到刻線的工藝中產(chǎn)生的刻線的對(duì)準(zhǔn)變 化，統(tǒng)計(jì)上(3cr)在x方向上為4.56nm，并且在y方向上為4.09nm。 因此，示例性實(shí)施例減小了和/或最小化在將護(hù)膜安裝到刻線的工藝中 產(chǎn)生的刻線的對(duì)準(zhǔn)的變化量(見圖3C)，并且減小了在將護(hù)膜安裝到 刻線之前產(chǎn)生的刻線的對(duì)準(zhǔn)的變形(見圖3A)。
圖4A是示出了沿刻線的表面上的線進(jìn)行的刻線的平直度測(cè)量的圖 示；圖4B是示出了圖4A的刻線的平直度的主要微分值的計(jì)算的圖示； 并且圖4C是示出了根據(jù)示例性實(shí)施例沿刻線的表面上的線的刻線的對(duì) 準(zhǔn)測(cè)量的圖示。
參考圖4A，測(cè)量沿刻線的x軸的刻線的平直度(flatness) ( Az )。
水平軸表示刻線表面上的線，并且豎直軸表示沿與基準(zhǔn)高度值相比的 線的刻線表面的高度。如可以從圖4A中看到的，刻線的平直度沿X軸的 正向減小。
圖4B示出了圖4A所示的刻線的平直度的主要微分值。在圖4A中， 由于Az與x軸的值成反比例，因此主要微分值為負(fù)數(shù)。
參考圖4C，豎直軸表示測(cè)量后的刻線的對(duì)準(zhǔn)值，并且水平軸表示 刻線上的線。如可以從圖4C中看到的，與圖4B相比，沿圖4C中的x軸 的刻線的對(duì)準(zhǔn)值類似于圖4B中出現(xiàn)的圖案但卻在大小上比圖4B中的對(duì) 準(zhǔn)值小六個(gè)數(shù)量級(jí)。因此，將刻線對(duì)準(zhǔn)的精確度提高了六個(gè)數(shù)量級(jí)。
以上結(jié)果示出了改善的刻線的平直度明顯地提高了刻線的對(duì)準(zhǔn)精 確度。其次，示例性實(shí)施例將參考附圖5和6進(jìn)行更充分的描述。
圖5是示出了根據(jù)示例性實(shí)施例的用于安裝護(hù)膜的裝置的橫截面 圖。圖6是示出了分布在安裝有護(hù)膜處的刻線表面的區(qū)域上的多個(gè)特定 壓力的局部透視圖。
參考圖5，用于安裝護(hù)膜的裝置可以包括支撐板150、護(hù)膜壓縮板 110和刻線140，在該刻線140上可以形成所期望和/或預(yù)定的圖案?？梢?將包括護(hù)膜框架(frame) 120和護(hù)膜膜層(pellicle film) 130的護(hù)膜恰 當(dāng)?shù)卦O(shè)置在面向護(hù)膜壓縮板110的刻線140的表面上。為了將護(hù)膜安裝 到刻線140上，可以形成護(hù)膜壓縮板110以將附連壓力(attaching pressure)施加到與刻線140相靠的護(hù)膜框架120。所述壓力可以由刻線 140傳送，并且施加到支撐板150上?？叹€140可以是由石英形成的光掩 模，并且所述期望和/或預(yù)定的圖案可以是形成在刻線140上的擋光膜圖 案或相移膜圖案。
參考圖6，可以形成護(hù)膜壓縮板110從而可以將多個(gè)特定壓力F1、
F2、 F3、 F4和F5分別施加到區(qū)域140a的多個(gè)點(diǎn)和/或區(qū)上。區(qū)域140a是 護(hù)膜框架120接觸的刻線140的表面的一部分。特定壓力不限于圖6中所 示的五個(gè)點(diǎn)和/或區(qū)，并且可以將適當(dāng)數(shù)量的所述特定壓力施加到護(hù)膜 框架120。同樣，所述特定壓力可以具有多個(gè)值。
根據(jù)示例性實(shí)施例，用于安裝護(hù)膜的裝置還可以包括平直度測(cè)量 裝置(未示出)，該平直度測(cè)量裝置測(cè)量刻線140的平直度，并且可以 通過在將護(hù)膜框架120安裝到刻線140上之前測(cè)量刻線140的平直度而
獲得平直度圖。所述特定壓力可以包括調(diào)節(jié)壓力，該調(diào)節(jié)壓力可以根 據(jù)刻線140的平直度圖而補(bǔ)償并改善刻線140的平直度。當(dāng)將護(hù)膜安裝 到刻線140上時(shí)，可以將所述調(diào)節(jié)壓力可以施加到刻線140以補(bǔ)償并改 善刻線140的平直度。例如，在刻線140具有較差的平直度的區(qū)域中， 所述調(diào)節(jié)壓力可以大于或小于施加到刻線140的其他區(qū)域上的特定壓 力，從而引起所述區(qū)域的平直度的改善。此外，還可以在將護(hù)膜框架 120安裝到刻線140上之后測(cè)量刻線140的平直度圖。通過將調(diào)節(jié)壓力再 次施加到安裝后的護(hù)膜框架120，可以補(bǔ)償和/或改善刻線140的平直度。 例如，在刻線140具有較差的平直度的區(qū)域中，所述調(diào)節(jié)壓力可以大于 或小于施加到刻線140的其它區(qū)域上的壓力，從而引起所述區(qū)域的平直 度的改善。
根據(jù)示例性實(shí)施例，所述特定壓力可以包括調(diào)節(jié)壓力，該調(diào)節(jié)壓 力可以根據(jù)刻線140的對(duì)準(zhǔn)圖而補(bǔ)償和/或改善刻線140的對(duì)準(zhǔn)?？叹€的 對(duì)準(zhǔn)圖可以通過在將護(hù)膜框架120安裝到刻線140上之前測(cè)量刻線140 的對(duì)準(zhǔn)而獲得。當(dāng)將護(hù)膜安裝到刻線140上時(shí)，可以將所述調(diào)節(jié)壓力施 加到刻線140以補(bǔ)償并改善刻線140的對(duì)準(zhǔn)。例如，在刻線140具有較差 的對(duì)準(zhǔn)的區(qū)域中，所述調(diào)節(jié)壓力可以大于或小于施加到刻線140的其它 區(qū)域上的特定壓力，從而使得所述區(qū)域的對(duì)準(zhǔn)的改善。此外，還可以 在將護(hù)膜框架120安裝到刻線140上之后測(cè)量刻線140的對(duì)準(zhǔn)圖。通過將 調(diào)節(jié)壓力再次施加到安裝后的護(hù)膜框架120，可以補(bǔ)償和/或改善刻線 140的對(duì)準(zhǔn)。例如，在刻線140具有較差的對(duì)準(zhǔn)的區(qū)域中，所述調(diào)節(jié)壓
力可以大于或小于施加到刻線140的其它區(qū)域上的特定壓力，從而使得 所述區(qū)域的對(duì)準(zhǔn)的改善。
因此，在如圖5和6所示的根據(jù)示例性實(shí)施例的用于安裝護(hù)膜的裝 置和方法中，所述裝置可以包括支撐板150、護(hù)膜壓縮板IIO?？梢詫?刻線140插入到支撐板150和刻線壓縮板110之間?？梢詫ㄗo(hù)膜框架 120和護(hù)膜膜層130的護(hù)膜恰當(dāng)?shù)卦O(shè)置在刻線面向護(hù)膜壓縮板的表面 上。護(hù)膜壓縮板110可以將多個(gè)特定壓力施加到護(hù)膜框架120以將護(hù)膜 安裝到刻線140上。多個(gè)特定壓力可以離散分布并且被獨(dú)立地施加到護(hù) 膜框架120接觸的刻線的表面上的區(qū)域140a的多個(gè)點(diǎn)和/或區(qū)上。多個(gè)特 定壓力可以包括調(diào)節(jié)壓力，該調(diào)節(jié)壓力用于根據(jù)刻線的特性圖而補(bǔ)償 并改善刻線的特性，所述刻線的特性圖在將護(hù)膜安裝到刻線上之前和/ 或之后獲得。所述特性可以為刻線的平直度和/或?qū)?zhǔn)。
然而，示例性實(shí)施例并不限于此。例如，附連壓力可以由支撐板 150施加，和/或所施加的壓力可以具有連續(xù)分布在區(qū)域140a上的值。例 如，可以根據(jù)用于安裝護(hù)膜的壓力條件在區(qū)域140a上連續(xù)地調(diào)節(jié)所施加 的壓力，所述用于安裝護(hù)膜的壓力條件利用刻線140的平直度圖和/或?qū)?準(zhǔn)圖來計(jì)算。計(jì)算出的用于安裝護(hù)膜的壓力條件可以補(bǔ)償和/或改善刻 線140的平直度圖和/或?qū)?zhǔn)圖。
根據(jù)本發(fā)明的用于安裝護(hù)膜的裝置和方法可以用于改善和/或避 免對(duì)準(zhǔn)中的變形并且改善刻線的平直度。雖然示例性實(shí)施例已經(jīng)特定 地顯示和描述，但本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員將理解在不背離如以下權(quán)利 要求定義的本發(fā)明的精神和范圍的情況下，可以做出多種形式和細(xì)節(jié) 上的改變。
1權(quán)利要求
1. 一種裝置，包括護(hù)膜壓縮板，被配置為將多個(gè)壓力施加到護(hù)膜的護(hù)膜框架接觸刻線的多個(gè)區(qū)。
2. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的裝置，還包括 平直度測(cè)量裝置，被配置為測(cè)量所述刻線的平直度。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的裝置，其中，所述護(hù)膜壓縮板被配置為 基于所述平直度測(cè)量裝置的測(cè)量而施加所述多個(gè)壓力。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置，其中，所述平直度測(cè)量裝置被配 置為提供所述刻線的平直度圖，該刻線的平直度圖是通過在將所述 護(hù)膜安裝到所述刻線上之前測(cè)量所述刻線的平直度而獲得。
5. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置，其中，所述平直度測(cè)量裝置被配 置為提供所述刻線的平直度圖，該刻線的平直度圖是通過在將所述 護(hù)膜安裝到所述刻線上之后測(cè)量所述刻線的平直度而獲得。
6. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的裝置，其中，所述護(hù)膜壓縮板被配置為 根據(jù)所述刻線的對(duì)準(zhǔn)圖而施加所述多個(gè)壓力。
7. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的裝置，其中，所述多個(gè)壓力中的一個(gè)是 調(diào)節(jié)壓力，用于補(bǔ)償并改善所述刻線的特性，其中，所述特性是所述 刻線的平直度和對(duì)準(zhǔn)中的一個(gè)。
8. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，其中，所述刻線的對(duì)準(zhǔn)圖是通過在將所述護(hù)膜安裝到所述刻線上之前測(cè)量所述刻線的對(duì)準(zhǔn)而獲得。
9. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，其中，所述刻線的對(duì)準(zhǔn)圖是通過 在將所述護(hù)膜安裝到所述刻線上之后測(cè)量所述刻線的對(duì)準(zhǔn)而獲得。
10. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的裝置，其中，所述刻線包括由石英形成的光掩模。
11. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的裝置，還包括 測(cè)量所述刻線的平直度的平直度測(cè)量裝置；以及 所述護(hù)膜壓縮板進(jìn)一步被配置為根據(jù)壓力條件，在所述護(hù)膜框架接觸所述刻線的刻線區(qū)域上方，將附連壓力施加到所述護(hù)膜框架上， 所述壓力條件根據(jù)由所述平直度測(cè)量裝置測(cè)量的所述刻線的平直度圖 來計(jì)算。
12. 根據(jù)權(quán)利要求ll所述的裝置，其中，所述附連壓力具有所述 護(hù)膜框架接觸所述刻線的刻線區(qū)域上的連續(xù)變化值和不連續(xù)變化值中 的一個(gè)值。
13. —種安裝具有護(hù)膜框架的護(hù)膜的方法，該方法包括 通過測(cè)量刻線的特性而產(chǎn)生刻線圖；以及根據(jù)產(chǎn)生的所述刻線圖，將多個(gè)壓力施加到所述刻線的多個(gè)區(qū)上， 在該多個(gè)區(qū)處所述護(hù)膜框架接觸所述刻線。
14. 根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，其中，所述刻線的特性是平直 度和對(duì)準(zhǔn)中的一個(gè)。
15. 根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，還包括 將所述護(hù)膜安裝到所述刻線上。
16. 根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，還包括在通過測(cè)量所述刻線的特性而產(chǎn)生刻線圖之前，將所述護(hù)膜安裝 到所述刻線上。
全文摘要
一種用于安裝護(hù)膜的裝置和方法，包括護(hù)膜壓縮板，形成該護(hù)膜壓縮板以將多個(gè)特定壓力施加到護(hù)膜的護(hù)膜框架接觸刻線處的刻線區(qū)域的多個(gè)點(diǎn)或區(qū)上。
文檔編號(hào)G03F1/62GK101377625SQ20081021492
公開日2009年3月4日 申請(qǐng)日期2008年8月29日 優(yōu)先權(quán)日2007年8月29日
發(fā)明者振 崔, 李祥熙 申請(qǐng)人:三星電子株式會(huì)社