專利名稱：：微影投射設(shè)備、氣體洗滌方法、裝置制造方法及洗滌氣體的供應(yīng)系統(tǒng)的制作方法微影投射設(shè)備、氣體洗滌方法、裝置制造方法及洗滌氣體的供應(yīng)系統(tǒng)本申請案主張2006年4月3日提出申請的美國專利申請案第11/396,823號的利益，且為此美國申請案的連續(xù)案；本申請案主張2003年7月21日提出申請的美國專利申請案第10/623,180號的利益，且為此美國申請案的部分連續(xù)申請案；且本申請案主張2004年7月21日提出申請的國際專利申請案第PCT/US2004/023490號的利益，且為該國際申請案的部分連續(xù)申請案；且本申請案主張2004年7月21曰提出申請的美國專利申請案第10/565,486號的利益，且為該美國申請案的部分連續(xù)申請案；這些申請案的內(nèi)容整體以參考的方式加入本文之中。
背景技術(shù)：
：出現(xiàn)在一種微影投射設(shè)備的組件的表面于使用期間會逐漸受到污染，即使該設(shè)備大部分是在真空下操作也是如此。特別是，在微影投射設(shè)備中例如反射鏡的光學(xué)元件的污染對于該設(shè)備的操作方面會有不利的影響，因為此種污染影響到光學(xué)元件的光學(xué)特性。微影投射設(shè)備的光學(xué)元件污染已知會藉由用一種超高純度的氣體洗滌微影投射設(shè)備的空間而降低，此種光學(xué)元件位在該空間中，該超高純度的氣體被稱為洗滌氣體。該洗滌氣體防止表面的污染，例如，受到碳氫化合物的分子污染。這種方法的其中一項缺點是洗滌氣體對用于微影制程的化學(xué)活性方面會有不利的影響。因此，需要一種修改的洗滌氣體，其能夠降低在微影投射系統(tǒng)響。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明含有一個微影投射設(shè)備，其可以包括一個照明器與一個支撐結(jié)構(gòu)，該照明器被建構(gòu)來提供一道輻射束，而該支撐結(jié)構(gòu)則被建構(gòu)來支撐一個圖案成形裝置。圖案成形裝置被建構(gòu)來依據(jù)一個想要的圖案使一道投射束形成圖案?！獋€基板平臺被建構(gòu)來握持一個基板。一個投射系統(tǒng)被建構(gòu)來投射被圖案成形過的光束到該基板的目標(biāo)部分上。至少一個洗滌氣體供應(yīng)系統(tǒng)被建構(gòu)來將一種洗滌氣體提供到至少部分的微影投射設(shè)備。該至少一個洗滌氣體供應(yīng)系統(tǒng)具有一個洗滌氣體混合物產(chǎn)生器，而該洗滌氣體混合物產(chǎn)生器則包括一個蒸發(fā)器，其被建構(gòu)來將蒸氣加入到一種洗滌氣體中，以形成一種洗滌氣體混合物。在某些變化形式中，該洗滌氣體主要由該洗滌氣體與一種來自可蒸發(fā)液體的蒸氣所組成。在某些實施例中，該洗滌氣體混合物能夠包括一種洗滌氣體與一種來自可蒸發(fā)液體的蒸氣。該可蒸發(fā)液體形成一種在該洗滌氣體中未受到污染的蒸維持在一個基板的上的披覆物的化學(xué)活性。一個洗滌氣體混合物出口被連接到洗滌氣體混合物產(chǎn)生器，并且能夠被建構(gòu)來將洗滌氣體混合物供應(yīng)到至少部分的微影投射設(shè)備。在該洗滌氣體混合物產(chǎn)生器中的蒸發(fā)器是在高流率下將蒸氣加入到洗滌氣體中，而不會對該洗滌氣體造成超過1ppt(每兆分之一)的污染物。在某些實施例中，在洗滌氣體混合物產(chǎn)生器中的蒸發(fā)器是在高流率下將蒸氣加入到洗滌氣體中，而不會對該洗滌氣體造成超過1ppb(每十億分之一)的污染物，1ppb的污染物降低在微影投射系統(tǒng)中光學(xué)元件的光學(xué)特性。本發(fā)明的一個方面是提供一種改良式微影投射設(shè)備，特別是使用某種洗滌氣體就能夠降低污染物，而不會影響光阻劑顯影的一種纟敬影才殳射設(shè)備。依據(jù)本發(fā)明的一個方面，一種微影投射設(shè)備包括一個照明器與一個支撐結(jié)構(gòu)，該照明器被建構(gòu)來提供一道輻射束，而該支撐結(jié)構(gòu)被建構(gòu)來支撐一個圖案成形裝置。該圖案成形裝置被建構(gòu)以依據(jù)一個想要的圖案來使一道投射束形成圖案。一個基板平臺被建構(gòu)來握持一個基板。一個投射系統(tǒng)被建構(gòu)來投射被圖案成形過的光束到該基板的目標(biāo)部分的上。至少一個洗滌氣體供應(yīng)系統(tǒng)被建構(gòu)來將一種洗滌氣體提供到至少部分的微影投射設(shè)備。該至少一個洗滌氣體供應(yīng)系統(tǒng)具有一個洗滌氣體混合物產(chǎn)生器，而該洗滌氣體混合物產(chǎn)生器則包括一個蒸發(fā)器，或者該蒸發(fā)器被建構(gòu)來將濕氣加入到一種洗滌氣體中。該洗滌氣體混合物產(chǎn)生器被建構(gòu)來產(chǎn)生一種洗滌氣體混合物。該洗滌氣體混合物包括至少一種洗滌氣體與該濕氣。一個洗滌氣體混合物出口被連接到洗滌氣體混合物產(chǎn)生器，并且能夠被建構(gòu)來將該洗滌氣體混合物供應(yīng)到至少部分的微影投射設(shè)備。因此，存在著濕氣，而化學(xué)活性，例如，阻劑的顯影，并不會受到洗滌氣體混合物的影響。依據(jù)本發(fā)明另一個方面，一種洗滌氣體供應(yīng)系統(tǒng)，其包含一個洗滌氣體混合物產(chǎn)生器，而該洗滌氣體混合物產(chǎn)生器包括一個霧化器，其被建構(gòu)來將霧氣增加到一種洗滌氣體中。該洗滌氣體混合物產(chǎn)生器:f皮建構(gòu)來產(chǎn)生一種洗滌氣體混合物且包括一個洗滌氣體出口，而該洗滌氣體混合物包括至少一種洗滌氣體與霧氣。在某一個實例中，洗滌氣體出口被建構(gòu)來將洗滌氣體混合物供應(yīng)到至少一部分的微影投射設(shè)備。在本發(fā)明的某一型式中，該洗滌氣體混合物是一種由洗滌氣體與霧氣組成的成分，該種成分包含小于大約lppb的對于光學(xué)元件的光學(xué)特性方面會有不利影響的污染物，該等光學(xué)元件則與輻射交互作用，以在微影投射設(shè)備中的基板形成一個圖案。在一個較佳實施例中，該洗滌氣體混合物供應(yīng)系統(tǒng)包括一個洗滌氣體源、一個水源、與一個洗滌氣體混合物產(chǎn)生器，而該洗滌氣體混合物產(chǎn)生器具有一個霧化器，其被建構(gòu)來將霧氣增加到一種洗滌氣體中。選擇上，該供應(yīng)系統(tǒng)也包括一個用于水的加熱裝置，使得水在進入霧化器時或在進入霧化器前被加熱。在本發(fā)明的某個型式中，該蒸發(fā)器是用于洗滌氣體供應(yīng)系統(tǒng)的一種霧化器，而微影投射設(shè)備較佳包括一個包含一洗滌氣體流的第一區(qū)域與一個包含水的第二區(qū)域，第一區(qū)域與第二區(qū)域是被蒸發(fā)器的一個氣體可滲透式薄膜在洗滌氣體供應(yīng)系統(tǒng)處隔開，該蒸發(fā)器實質(zhì)上可以抵抗可蒸發(fā)液體的液體侵入。更佳地，霧化器包含具有一個第一端部與一個第二端部的一束全氟化氣體可滲透式塑料中空纖維薄膜，該等薄膜具有一個外表面與一個內(nèi)表面，而該內(nèi)表面包括一個內(nèi)腔(lumen),而每一個纖維束的端部是以一個液密式全氟化熱塑性密封件封住(potted),而形成一個單件式端部結(jié)構(gòu)，而該單件式端部結(jié)構(gòu)具有一個環(huán)繞的全氟化熱塑性外罩，纖維端部則對于流體流動開放。該外罩具有一個內(nèi)壁與一個外壁，而該內(nèi)壁界定一個在該內(nèi)壁與該等中空纖維薄膜之間的流量容積；該外罩包括一個洗滌氣體入口，而該洗滌氣體入口被連接到該洗滌氣體源與一個洗滌氣體混合出口。該外罩包括一個被連接到該水源的水入口及一個水出口，該洗滌氣體入口不是被連接到該纖維束的第一端部且該洗滌氣體混合物出口被連接到該纖維束的第二端部，就是該水入口被連接到該纖維束的第一端部且該水出口被連接到該纖維束的第二端部，其中，該洗滌氣體混合物包含至少一種洗滌氣體與濕氣。依據(jù)本發(fā)明的另一個方面，一種用于將蒸氣加入洗滌氣體的方法包括將該洗滌氣體輸送通過上述的蒸發(fā)器一段足以將蒸氣加入洗滌氣體的時間。含有蒸氣的洗滌氣體被提供到至少一部分的微影投射設(shè)備。在一個實施例中，該蒸氣是水蒸氣，且包括藉由將濕氣加入到一種洗滌氣體中的方式來產(chǎn)生一種洗滌氣體混合物的動作，而該洗滌氣體混合物具有至少一種洗滌氣體與濕氣，以及將該洗滌氣體混合物供給到至少一部分的微影投射設(shè)備，而該洗滌氣體混合物包括一種洗滌氣體與濕氣。因此，用于該微影投射設(shè)備中的化學(xué)品并不會受到洗滌氣體的影響。依據(jù)本發(fā)明進一步的一方面，一種裝置制造的方法包括將上述方法運用到至少部分的基板，而該基板至少部分被一層輻射敏感性材料所覆蓋；投射一個被圖案成形過的輻射光束到該層輻射敏感性材料的一個目標(biāo)部分上；以及將該洗滌氣體混合物供應(yīng)到靠近在該裝置制造方法中使用的組件的表面。本發(fā)明進一步的細節(jié)、該些方面與實施例將僅藉由實例參照附圖來描述。圖1概略地顯示依據(jù)本發(fā)明某一型式的微影投射設(shè)備實施例的實例。圖2顯示依據(jù)本發(fā)明EUV照射系統(tǒng)與一種微影投射設(shè)備的投射用光學(xué)元件的側(cè)視圖。圖3概略地圖示說明依據(jù)本發(fā)明實施例的洗滌氣體混合物供給系統(tǒng)的一個實例。圖4概略地顯示適用于圖3實例的霧化器裝置。圖5是能夠使用于圖3實例中的中空纖維薄膜式蒸發(fā)器或霧化器的圖示。圖6顯示使用于圖1中薄膜接觸器的測試分歧管線。圖7顯示用于超潔凈干空氣(XCDA)的氣相色層分析/火焰離子偵測器(GC/FID)的讀數(shù)。圖8顯示用于如實例1所示，XCDA的GC/FID的讀數(shù)，該XCDA通過一個霧化器。圖9顯示用于XCDA的氣相色層分析/脈沖式火焰離子偵測器(GC/PFID)的讀數(shù)。圖10顯示用于如實例1所示，XCDA的GC/PFID的讀H該XCDA通過一個霧化器。圖11(A)圖標(biāo)說明一種型式的洗滌氣體供給系統(tǒng)，其具有用于稀釋洗滌氣體混合物的一個洗滌氣體源；也同時顯示一個光學(xué)收集器。圖11(B)圖標(biāo)說明一種型式的洗滌氣體供給系統(tǒng)，其具有用于稀釋洗滌氣體混合物的一個洗滌氣體源與一個用以維持來自蒸發(fā)器或霧化器的洗滌氣體混合物的溫度的熱交換器區(qū)域。圖12說明相對于在來自一個蒸發(fā)器的兩種不同氣體出口壓力下的飽和狀態(tài)的蒸氣輸出圖形，其中在18psig下的水是可蒸發(fā)的液體。圖13(A)說明相對于在來自一個蒸發(fā)器的數(shù)種不同流率下的飽和狀態(tài)以及用于在59psig下于蒸發(fā)器中像是水的可蒸發(fā)液體的蒸氣輸出圖形。圖13(B)是在蒸發(fā)器中于數(shù)種不同氣體壓力下的洗滌氣體混合物中所計算出來的蒸氣濃度的圖形。圖14是用于產(chǎn)生洗滌氣體混合物的設(shè)備的圖示，而該設(shè)備利用一個或更多連接在一起的中空纖維式蒸發(fā)器。圖15說明在洗滌氣體中的蒸氣濃度的圖示，該洗滌氣體流過一個中空纖維式蒸發(fā)器，而該中空纖維式蒸發(fā)器可以被控制在一個基本上與流過該蒸發(fā)器的洗滌氣體流率無關(guān)的范圍內(nèi)。主要元部件符號說明1微影投射設(shè)備LA輻射源MT光罩臺MA光罩PM定位裝置PL投射透鏡c目標(biāo)位置w基板LA光源IL照明器EX光束擴展器AM調(diào)整裝置IN積光器CO冷凝器PB光束IF干涉儀WT基板臺PW定位裝置Ml光罩對準標(biāo)記M2光罩對準標(biāo)記Xx軸YY軸PI基板對準標(biāo)記P2基板對準標(biāo)記BP底板100洗滌氣體供給系統(tǒng)具體實施方式在描述本發(fā)明的構(gòu)成與方法前，應(yīng)該了解到，本發(fā)明并未受限于所描述的特定分子、構(gòu)成、方法或規(guī)則，因為這些是會改變的。也應(yīng)該了解到，用于本發(fā)明說明書中的術(shù)語僅是為了描述特定的型式與實施例的目的，并且并未意圖限定本發(fā)明的范圍，而本發(fā)明則僅由申請專利范圍所限定。也必須注意到，除非內(nèi)文明確地指出，如在本文中與在申請專利范圍所使用的，單數(shù)形式"一個(a、an)"與"該(the)"是包括復(fù)數(shù)型式。因此，例如提及一"中空纖維"是指一個或更多的中空纖維與熟悉此項技術(shù)的人士所知道的均等物等等。除非以其它方式界定，否則使用于本文中的所有技術(shù)與科學(xué)術(shù)語皆具有一種為一般熟悉此項技術(shù)的人士所共同了解的相同意義。雖然任何類似或均等于本文中所描述的方法與材料能夠使來實施或測試本發(fā)明的實施例，但是現(xiàn)在要描述的是較佳的方法、裝置與材料。本文中戶斤有提到的公開文件皆被并入于本文中作為參考。本文中并無任何事物被建構(gòu)成承認可藉由早于本發(fā)明的揭示內(nèi)容使本發(fā)明不具有專利要件。本發(fā)明的數(shù)種型式提供用于將蒸氣加到洗滌氣體中的一種設(shè)備與一種方系統(tǒng)，但是它們的用途并非僅限定于此種系統(tǒng)。藉由本發(fā)明的一種方法將蒸氣引入到一個系統(tǒng)中以避免引入可能污染該洗滌氣體的蒸氣的方法。本發(fā)明的某些型式提供用于將水蒸氣加入一洗滌氣體的一種設(shè)備與一種方法。雖然此種增濕過的洗滌氣體特別有利于微影系統(tǒng)，但是它們的用途并未受限于此種系統(tǒng)。藉由本發(fā)明的方法將水引入一個系統(tǒng)中避免引入可能污染該洗滌氣體的水的方法。本文中所用的圖案成形裝置一詞應(yīng)該被廣泛地解釋成一種能夠被用來賦予進來的輻射光束以一種形成圖案的橫剖面，該橫剖面對應(yīng)于要被建立在基板的目標(biāo)部分中的圖案。用語"光閥(lightvalve)"也能夠被使用在內(nèi)文中。通常，該圖案將對應(yīng)于在一種將在目標(biāo)區(qū)域中要被建立起來的裝置中的某一種特殊功能層(functionallayer),該裝置例如是集成電路或其它的裝置(請參照下文)。此種圖案成形裝置的實例是光罩。光罩的概念在微影技術(shù)方面是眾所熟知的，而光罩類型包括二元(binary)光罩、交替式相改變(alternatingphase-shift)光罩與衰減式相移光罩，以及數(shù)種混合式光罩類型。此種光罩在輻射依據(jù)在光罩的上的圖案，光束中的擺置會造成照射在光罩上輻射光束的選擇性穿透(在穿透式光罩(transmissivemask)的情況下)或反射(在反射式光罩(reflectivemask)的情況下)。在光罩的情況中，支撐件通常將是一個光罩臺，其確保光罩能夠被保持在進來的輻射光束中的所需位置處，并且如果需要的話，其能夠相對于輻射光束移動。另一個圖案成形裝置的實例是可編程的鏡片數(shù)組。此種數(shù)組的實例是具有一個黏彈體控制層與一個反射表面的矩陣式可尋址表面。支持著此種設(shè)備的基本原理是例如，反射表面的被尋址的區(qū)域?qū)⑷肷涔夥瓷涑衫@射光，而未尋址的區(qū)域則將入射光反射成非繞射光。利用一種合適的過濾器，非繞射光能夠過濾出被反射的光束，而僅留下繞射的光。以這種方式，依據(jù)矩陣式可尋址表面的尋址圖案，光束逐漸形成圖案。替代實施例的一種可編程鏡片數(shù)組是利用極小的鏡片(tinymirror)的一種矩陣配置方式，藉由施加一種合適的局部化電場或藉由利用數(shù)個壓電致動器，每個微鏡片均能夠分別地對著一個軸傾斜。再次地，該等鏡片是矩陣可尋址式的，使得尋址的鏡片能夠以不同的方向?qū)⑦M來的輻射光束反射到未尋址的鏡片。以這種方式，反射的光束依據(jù)矩陣式可尋址鏡片的尋址圖案被形成圖案。使用合適的電子組件，能夠進行所要的矩陣尋址。在上述的兩種情況中，該圖案成形裝置可以包括一個或更多的可編程鏡片數(shù)組。更多在本文中所提及的鏡片數(shù)組方面的信息能夠見于例如美國專利5,296,891與5,523,193以及PCT公開的WO98/38597與WO98/33096。在一種可編程鏡片數(shù)組的情況中，結(jié)構(gòu)可以被實施成一種例如是固定式或移動式的框架或臺桌?！N圖案成形裝置的實例是可編程LCD數(shù)組。此種結(jié)構(gòu)的實例揭示在美國專利5,229,872中。如上述，在這個情況中的支撐結(jié)構(gòu)可以被實施成一種可以是固定式或移動式的框架或臺桌。為了簡化的目的，本文的其它部分在某些位置處特別針對數(shù)種微影設(shè)備(例如，光罩或光罩臺)的實例。然而，在這些實例中討論的一般原則應(yīng)該會在加入蒸氣到洗滌氣體的更廣的內(nèi)容中看見，例如本文中所討論的，使用一種洗滌氣體產(chǎn)生器加入水蒸氣以濕潤洗滌氣體。例如，可以在集成電路(IC，s)的制造中使用微影投射設(shè)備。在此情況中，圖案成形裝置可以對應(yīng)于IC的個別層來產(chǎn)生一種電路圖案，而這個圖案能夠被映像到在一個基板(硅晶圓)上的一個目標(biāo)區(qū)域(例如，包括一個或更多的壓模)上，該基板已被涂布一層輻射敏感材料(光阻劑)。在本發(fā)明的某些型式中，單一的晶圓將包括相鄰目標(biāo)區(qū)域的一整個網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，而此等目標(biāo)區(qū)域一次一個地經(jīng)由投射系統(tǒng)而被相繼地輻照。在目前的設(shè)備中，藉由一個在光罩臺上的光罩來形成圖案的方式，在兩個不同機器類型間能作出一種區(qū)別。在一種類型的微影投射設(shè)備中，每個目標(biāo)區(qū)域都是藉由將整個光罩圖案立刻曝光到目標(biāo)區(qū)域上的方式而被輻照。此種設(shè)備通常稱為晶圓步進機。在通常稱為步進掃描設(shè)備(step-and-scanapparatus)的替代設(shè)備中，藉由在輻射光束下以一個給定參考方向("掃描"方向)漸進地掃描光罩圖案來輻照每個目標(biāo)區(qū)域，同時平行于或反向平行于這個方向而同步地掃描基板臺。一般來說，因為投射系統(tǒng)會具有放大倍率系數(shù)M(通常小于1)，所以掃描基板臺的速度將會是系數(shù)M乘以掃描光罩臺的速度。更多關(guān)于本文所述的微影裝置的信息可以從美國專利6,046,792中看到。在一種使用微影投射設(shè)備的已知制程中，一個圖案(例如是在一個光罩中)被映像到一個至少部分由一層輻射敏感材料(光阻劑)所覆蓋的基板上。在這種映像作用前，該基板會經(jīng)歷數(shù)種不同的程序，例如，涂底(priming)、光阻涂布與軟烘烤。在曝光完后，基板會經(jīng)歷其它制程，例如，曝光后烘烤(PEB)、顯影、硬烤與映射特性方面的量測/檢視。這些使用到的制程序列是當(dāng)做以圖案成形于一裝置(例如是IC)的一個別層的基礎(chǔ)使用。接著，此圖案成形層會經(jīng)歷各種制程，例如，蝕刻、離子布植(摻雜作業(yè))、金屬化、氧化、化學(xué)機械研磨等等，所有的制程均為了完成個別層的加工。如果需要數(shù)層的話，那么對于每一新的層來說均必須重復(fù)整個程序或該程序的變化。各種相迭的層的重迭(并列)容許多層裝置的結(jié)構(gòu)能夠被制造出來。為了這個目的，會在晶圓上的一個或更多位置處提供小參考標(biāo)記，從而界定在該晶圓上的坐標(biāo)系統(tǒng)的原點。利用光學(xué)與電子裝置并結(jié)合基板支托座定位裝置(以下稱為"對準系統(tǒng)")，每一次有新的層必須被并置在既存的層上時，這個光罩能夠接著被重新定位。最后，這些裝置數(shù)組將呈現(xiàn)在基板(晶圓)上。然后，這些裝置藉由一種例如切塊或鋸切的技術(shù)而彼此分開，因此，個別的裝置能夠被裝設(shè)在一個載體(carrier)上、被連接到銷件上等等。關(guān)于這些制程的進一步信息例如從，，微芯片制造半導(dǎo)體制程實務(wù)導(dǎo)覽"一書(由McGrawHill出版公司，PetervanZant于1997年所著,ISBN0-07-067250-4第三版)中可以獲知。為了簡化的目的，投射系統(tǒng)于下文可以稱為"透鏡(lens)"。然而，這個術(shù)語應(yīng)該被廣泛地解釋成含括數(shù)種不同的投射系統(tǒng)例如包括折射式光學(xué)、反射式光學(xué)與反射折射式系統(tǒng)。輻射系統(tǒng)也可以包括依據(jù)用于導(dǎo)引、修整或控制輻射光束的任何設(shè)計類型而運作的數(shù)個組件，并且這些組件在下文中也可以共同或特定地稱為"透鏡"。此外，微影設(shè)備可以是一種具有兩個或更多基板臺(及/或兩個或更多的光罩臺)的類型。在此種"多平臺(multiplestage)"裝置中，額外的臺桌可以被使用于可以在一個或更多臺桌上實施的平行或準備步驟中，而一個或更多的其它臺桌將使用于曝光制程。雙平臺型微影設(shè)備被描述于例如美國專利5,969,441與6,262,796中。雖然可以特別參照在本文中依據(jù)本發(fā)明在ICs制造中使用的設(shè)備，但是應(yīng)該明白此種設(shè)備具有許多其它可能運用。例如，該設(shè)備可以被運用在積體光學(xué)系統(tǒng)的制造、用于磁域內(nèi)存的導(dǎo)引與偵觀寸圖案(guidanceanddetectionpatternsformagneticdomainmemory)、液晶顯示器面板、薄膜式磁頭等等。一般熟習(xí)此
技術(shù)領(lǐng)域：
的人士將體認到，在此種替代應(yīng)用的內(nèi)文中，在文中任何使用"標(biāo)線片"、"晶圓"或"模具"的術(shù)語應(yīng)該被視為可以分別由更通用的術(shù)語，，光罩，，、"基板"與"目標(biāo)區(qū)域"來取代。在本文件中，"輻射"與"光束"被用來涵蓋被用來使光阻劑在一個基板上形成圖案的所有類型的電磁輻射。上述這些包括X射線、紫外線(UV)(例如，具有365奈米、248奈米、193奈米、157奈米或126奈米的波長)、與極紫外線(EUV)(例如，具有5奈米到20奈米范圍中的波長)以及粒子射束，例如，離子束或電子束。圖l概略地圖示描述依據(jù)本發(fā)明實施例的微影投射設(shè)備l。該微影投射設(shè)備1包括一個基座板(baseplate)BP。該設(shè)備也可以包括一個輻射源LA(例如，EITV輻射線)。第一物件(光罩)臺MT設(shè)有一個被建構(gòu)以握持一個光罩MA(例如，一個標(biāo)線片)的光罩支托座(maskholder)，并且被連接到一個相對于一個投射系統(tǒng)或透鏡PL準確地定位光罩的第一定位裝置PM。第二物件(基板)臺WT設(shè)有一個被建構(gòu)以握持一個基板W(例如，涂布光阻劑的硅晶圓)的基板支托座，并且被連接到一個相對于投射系統(tǒng)或透鏡PL準確地定位基板的第二定位裝置PW。該投射系統(tǒng)或透鏡PL(例如，一組鏡片)被建構(gòu)以將光罩MA的一個輻照部分映射到基板W上的一個目標(biāo)部分C(例如，包括一個或更多的模具)上。如本文所描述的，該設(shè)備屬于一種反射型(也就是說，其具有一個反射式光罩)。然而，一般而言，該設(shè)備也可以屬于一種穿透式，例如具有穿透式光罩。再者，該設(shè)備可以運用另一種圖案成形裝置，例如上述類型的可編程鏡片數(shù)組。該輻射源LA(例如，一個放電或雷射產(chǎn)生的電漿源)產(chǎn)生輻射。該輻射直接地或是在橫越例如一個擴束器(beamexpander)EX的調(diào)節(jié)裝置(conditioningdevice)之后被供應(yīng)到一個照明系統(tǒng)(照明器)IL中。該照明器IL可以包括一個調(diào)整裝置AM,該調(diào)整裝置AM設(shè)定在光束中強度分布的外部及/或內(nèi)部徑向范圍(通常分別稱為s-outer與s-inner)。此外，其通常將包括各種其它組件，例如積分器(integrator)IN與冷凝器CO。以這種方式，入射到光罩MA上的光束PB具有一種所需的均勻性與在其橫剖面上的強度分布。應(yīng)該注意到針對圖1,輻射源LA可以在微影投射設(shè)備的框罩內(nèi)，雖然當(dāng)輻射源LA是例如一個汞燈時，通常是上述的情況，但是該輻射源LA也可以遠離微影投射設(shè)備。輻射源LA所產(chǎn)生的輻射線被導(dǎo)入到設(shè)備中。后來的情況通常是當(dāng)輻射源LA是一種準分子雷射(excimerlaser)時的情形。本發(fā)明包含這兩種情況。光束PB隨后截住被握持在一個光罩臺MT上的光罩MA。在已經(jīng)橫過光罩MA之后，光束PB通過透鏡PL,透鏡PL將光束PB聚焦在基板W的一個目標(biāo)部分C上。由于第二定位裝置PW與干涉儀IF的輔助，基板臺WT能夠:故精確地移動，以例如在光束PB的if各徑上定位不同目標(biāo)區(qū)域C。同樣地，例如，在從一個光罩庫(masklibrary)中機械式取出光罩MA后，或在掃描期間，能夠使用第一定位裝置PM以相對于光束PB的路徑準確定位光罩MA。一般而言，對象臺(MT，WT)的移動將藉由一個長行程模塊(粗定位)與一個短行程模塊(細定位)的輔助來實現(xiàn)，該等模塊沒有被明確地描述在圖1中。然而，在一種晶圓步進機(相反于步進掃描設(shè)備)的情況中，光罩臺MT可以正好被連接到一個短行程致動器，或者是可以被固定。光罩MA與基板W可以使用光罩對準標(biāo)記(M1，M2)與基板對準標(biāo)記(PI,P2)而^皮對準。所描述的設(shè)備可以使用在兩種不同模式中(1)在步進模式中，基本上光罩臺MT被保持固定，且一整個光罩影像立刻地、也就是以單次"閃光"、被投射到一個目標(biāo)區(qū)域C上?；迮_WT接著在X以及/或Y方向上被變換，使得一個不同的目標(biāo)區(qū)域C能夠被光束PB所輻照。(2)在掃描模式中，除了一個給定的目標(biāo)區(qū)域C不會在單次，，閃光，，中被曝光，基本上應(yīng)用相同的方案。取代地，光罩臺MT可在一個給定方向上(所謂的"掃描方向"，例如是Y方向)以一個速度v移動，使得引起輻射PB的光束以掃描過一個光罩影像。同時，基板臺WT同時在相同或相反的方向上以速度V-Mv移動，其中，M是透鏡PL的放大倍數(shù)(典型上，M:l/4或1/5)。以這種方式，能夠曝光一個相當(dāng)大的目標(biāo)區(qū)域C，而不用放棄分辨率。圖2顯示能夠使用在圖l微影投射設(shè)備l中的4殳射系統(tǒng)PL與一個輻射系統(tǒng)2。輻射系統(tǒng)2包括一個照明光學(xué)單元4。輻射系統(tǒng)2也能夠包括一個光源聚集器模塊(source-collectormodule)或輻射單元3。輻射單元3設(shè)有一個由一種放電電漿形成的輻射源LA。輻射源LA可以利用一種氣體或蒸氣，例如氙氣或鋰蒸氣，其中，可以產(chǎn)生一種非常熱的電漿，以發(fā)射出在EUV范圍中的電磁頻譜的輻射。藉由導(dǎo)致一種電氣放電的部分離子化電漿崩潰在光學(xué)軸0上，可以產(chǎn)生非常熱的電漿。對于有效率地產(chǎn)生輻射，需要分壓0.1mbar的氱氣體、鋰蒸氣或其它合適的氣體或蒸氣。由輻射源LA所發(fā)射出的輻射從來源腔(sourcechamber)7，經(jīng)由一個氣體障壁結(jié)構(gòu)或"箔片捕獲器(foiltrap)9",通過進入到聚光腔(collectorchamber)8。氣體障壁結(jié)構(gòu)9包括一個信道結(jié)構(gòu)，該信道結(jié)構(gòu)是例如在美國專利6,862,75與6,359,969中所詳細描述的。聚光腔8包括一個輻射聚光器10，其可以是一種掠角射聚光器(grazingincidencecollector)。由聚光器10所傳遞的輻射^皮反射離開一個光4冊光譜濾器(gratingspectralfilter)11，以被聚焦在聚光腔8中的一孔隙處的虛擬源點(virtualsourcepoint)12。從聚光腔8處，投射光束16通過法線入射反射鏡13與14在照明光學(xué)單元4中被反射到一個標(biāo)線片或定位在標(biāo)線片或光罩臺MT上的光罩上。有圖案的光束17被形成，該光束通過反射式組件18與19而在投射系統(tǒng)PL中被映像到一個晶圓平臺或基板臺WT上。在照明光學(xué)單元4與投射系統(tǒng)PL中通?？梢源嬖诒人境龅母嗟慕M件。如圖2所示，微影投射設(shè)備1包括一個洗滌氣體供應(yīng)系統(tǒng)100。如圖2所示，洗滌氣體供應(yīng)系統(tǒng)100的洗滌氣體出口130到133凈皮定位在才史射系統(tǒng)PL及照明光學(xué)單元4中靠近反射器13與14與反射式組件18與19處。然而，如果需要的話，設(shè)備的其它部件同樣可以設(shè)有一個洗滌氣體供應(yīng)系統(tǒng)。例如，微影投射設(shè)備的一個標(biāo)線片與一個或更多個傳感器可以設(shè)有一個洗滌氣體供應(yīng)系統(tǒng)。在圖1與圖2中，洗滌氣體供應(yīng)系統(tǒng)100定位在微影投射設(shè)備1內(nèi)。洗滌氣體供應(yīng)系統(tǒng)100能夠利用在微影投射設(shè)備1外部的任何裝置、以任何適用于特定實施的方式受到控制。然而，同樣可能將洗滌氣體供應(yīng)系統(tǒng)100的至少一些組件定位在微影投射設(shè)備1外側(cè)，例如洗滌氣體混合物產(chǎn)生器120。圖3顯示洗滌氣體供應(yīng)系統(tǒng)100的實施例。一個洗滌氣體入口110#1連接到一個供應(yīng)一種實質(zhì)上沒有濕氣的干燥氣體的洗滌氣體供應(yīng)設(shè)備(未顯示)，該洗滌氣體供應(yīng)設(shè)備例如是一個加壓的氣體供應(yīng)回路、一個具有壓縮干空氣、氮氣、氦氣或其它氣體的汽缸。干燥氣體被進給通過洗滌氣體混合物產(chǎn)生器120。如于下文中解釋的，干燥氣體在洗滌氣體混合物產(chǎn)生器120中被進一步純化。此外，洗滌氣體混合物產(chǎn)生器120包括一個蒸發(fā)器150,該蒸發(fā)器150將蒸氣添加到洗滌氣體中，以形成一種洗滌氣體混合物。例如在本發(fā)明的一種型式中，蒸發(fā)器是一個霧化器150，其將濕氣添加到用于該洗滌氣體混合物出口130的干燥氣體。如在這個實施例所示的其它洗滌氣體出口131與132并未洗滌氣體混合物出口的數(shù)種不同的組合。因此，在洗滌氣體混合物出口130處存在有一種包含洗滌氣體與濕氣的洗滌氣體混合物，且在其它洗滌氣體出口131以及132處則僅存在干燥的洗滌氣體。藉以，可以僅在靠近被提供有需要一種蒸氣(例如水蒸氣)的化學(xué)品的表面(例如晶圓臺WT)附近提供洗滌氣體混合物，而微影投射設(shè)備l的其它部分則能夠被提供有一種干燥洗滌氣體，也就是說，沒有類似濕氣的一種蒸氣。然而，本發(fā)明并未被限制成產(chǎn)生器僅有一個出口供應(yīng)洗滌氣體混合物的洗滌氣體混合物產(chǎn)生器。此外，因為類似濕氣的蒸氣被添加到一種洗滌氣體中，所以能夠以優(yōu)良的準確度控制該洗滌氣體混合物的特性，蒸氣的濃度或純度。例如，優(yōu)良的準確度可以是在洗滌氣體中的蒸氣濃度，用以形成藉由將洗滌氣體、可蒸發(fā)液體或前述兩種的組合的溫度控制于大約±rc或土rc以下的方式來達成的一種洗滌氣體混合物。在洗滌氣體中的蒸氣濃度能夠藉由維持在氣體與液體間的壓力使得氣體并不會侵入到液體中而受到控制，且在洗滌氣體中的蒸氣濃度實質(zhì)上是恒定在大約5%或更小的范圍之內(nèi)。洗滌氣體中的蒸氣濃度藉由控制溫度、壓力、洗滌氣體流率或是上述條件的任意組合而被維持，使得洗滌氣體中的蒸氣濃度實質(zhì)上是穩(wěn)定的，例如，在制造洗滌氣體混合物期間，洗滌氣體混合物中的蒸氣濃度變動大約5%或更少，在某些型式中，其變動大約在1%或更少，而在又另外的型式中，洗滌氣體混合物中的蒸氣濃度小于大約0.5%。洗滌氣體混合物中的濕氣濃度可以是藉由控制洗滌氣體進入蒸發(fā)器中的流率、混合有洗滌氣體混合物的稀釋洗滌氣體的流率、或是上述條件的任何組合所達成的，以達成變化在5%或更少的蒸氣濃度。在某些型式中，洗滌氣體中的濕氣濃度能夠藉由一種可蒸發(fā)液體的壓力而受到控制，該可蒸發(fā)液體的壓力大約為超過洗滌氣體的壓力5psig或更高。在洗滌氣體與液體間的壓力差能夠藉由一個或更多的壓力調(diào)節(jié)器而受到控制，壓力調(diào)節(jié)器具有大約5%或更少的重復(fù)性，且在某些模式中具有大約小于士0.5%的重復(fù)性。來自霧化器下游處的一個濕氣探針的輸出訊號可以與在一個控制回路中的一個控制器一起使用，以調(diào)節(jié)在蒸發(fā)器中的洗滌氣體或可蒸發(fā)液體的壓力、調(diào)節(jié)在蒸發(fā)器中的可蒸發(fā)液體或洗滌氣體的溫度、調(diào)節(jié)添加到洗滌氣體混合物的稀釋洗滌氣體量、或是上述這些的任何組合，用以在洗滌氣體中達成一蒸氣量，以形成一種洗滌氣體混合物，在本發(fā)明的某些型式中該混合物提供一種變動小于5%的蒸氣濃度，在本發(fā)明的某些型式中，其變動小于1%，而在其它的型式中，其變動小于0.5%。有利的是，將洗滌氣體的溫度或洗滌氣體混合物的溫度維持在微影制程公差內(nèi)的一溫度范圍內(nèi)，用以將微影投射設(shè)備中光學(xué)元件的熱膨脹與熱收縮減少到最小程度，且降低折射率的變動。有利的是，將在洗滌氣體混合物中的蒸氣濃度維持在這些范圍內(nèi)，用以最小化在折射率以及在干涉量測裝置的輸出的變動。有利的是，系統(tǒng)的蒸發(fā)器是有彈性的，且例如在水的情況中，該蒸發(fā)器容許出現(xiàn)在該洗滌氣體混合物中的水蒸氣的量可以容易地藉由添加更多或更少的水蒸氣到洗滌氣體中而^皮調(diào)整。如其中蒸氣是水蒸氣的圖15所示的，藉由修改蒸發(fā)器的溫度與流率，蒸氣濃度能夠被控制在實質(zhì)與通過蒸發(fā)器的洗滌氣體流率無關(guān)的范圍內(nèi)。在某些型式中，蒸氣濃度能夠被控制在小于在洗滌氣體混合物中的蒸氣濃度大約5%的范圍內(nèi)，而在某些實施例中，小于大約1%的范圍內(nèi)，在其它實施例中，則小于大約0.5%的范圍內(nèi)。如圖15所示，本發(fā)明型式的蒸發(fā)器所能夠提供的一種洗滌氣體混合物具有在40slm的流量下大約6314ppm的水蒸氣濃度、在80slm的流量下大約6255ppm的濕氣濃度以及在120slm的流量下大約6286ppm的濕氣濃度。在洗滌氣體通過蒸發(fā)器的整個流率中，實質(zhì)固定的濕氣濃度的變動是小于大約0.5%。在某些型式的洗滌氣體混合物產(chǎn)生器120中，該產(chǎn)生器在一個流動方向上能夠包括一個凈化器裝置128、一個流量計量器127、一個閥件125、一個減量器(reducer)129、一個熱交換器126與該霧化器150。用于洗滌氣體的一個氣體源通過洗滌氣體入口110而被供應(yīng)到凈化器裝置128。例如，一種來自CDA源(未顯示)的壓縮干燥空氣(CDA)通過洗滌氣體入口IIO被供應(yīng)到凈化器裝置128。CDA則受到凈化器128凈化。凈化器128包括兩個平行的流動分歧管線128A與128B,每個流動分歧管線在流動方向上包括一自動閥件1281或1282與一個可再生式凈化器裝置1283或1284。每個可再生式凈化器裝置1283與1284設(shè)有一個加熱組件，用以加一個凈化器能夠被用來制作洗滌氣體，而其它凈化器則是離線被再生的。該等流動分歧管線被在凈化器裝置1283與1284下游處被連接到一個能夠被一個氣體凈化度傳感器1286所控制的關(guān)斷閥1285。因為凈化器是可再生的，藉由將該等凈化器在它們變得充滿著從洗滌氣體處被移除的化合物的情況下分開地加以再生，該系統(tǒng)能夠使用一段長時間。可再生式凈化器可以是任何合適的類型，例如與發(fā)生在一種木炭過濾器中的非可再生式化學(xué)制程相反的可再生式過濾器，該可再生式過濾器是從某一種氣體中、藉由一種例如吸附作用、觸媒或其它方式的物理程序移除污染的化合物或顆粒的。一般而言，可再生式凈化器并不含有有機材料，且可再生式凈化器典型上包含一種適合用來以物理方式結(jié)合洗滌氣體的污染物的材料，例如包含有沸石、氧化鈦、鎵或鈀化合物等等的金屬。較佳的凈化器是惰性氣體與氧兼容式凈化器，例如是可從Mykrolis公司(現(xiàn)在為Entegris公司)購得的AeronexInert或XCDA的凈化器(CE-70KF-I、氧或氮)。在本發(fā)明的某些型式中，合適的凈化器提供一種具有小于lppt的例如碳氫化合物、氮氧化物等等的污染物的洗滌氣體。凈化器裝置1283與1284能夠交替地處于一種凈化狀態(tài)與一種再生狀態(tài)，干凈的干燥空氣(CDA)或其它氣體在凈化狀態(tài)下被凈化。在再生狀態(tài)中，凈化器裝置被個別的加熱組件所再生。因此，例如，凈化器裝置1283在凈化CDA時，凈化器裝置1284則被分開地且獨立地再生。凈化器裝置128因此能夠連續(xù)地操作，同時維持一種氣體凈化度的穩(wěn)定位準。自動閥件1281或1282以與凈化器裝置1283與1284的才喿作一致的方式來操作。因此，當(dāng)一個凈化器裝置1283或1284被再生時，對應(yīng)的閥件1281或1282會被關(guān)閉。當(dāng)一個凈化器裝置1283或1284被用來凈化時，對應(yīng)的閥件1281或1282是打開的。在一個實施例中，例如凈化的CDA的凈化氣體通過關(guān)斷閥1285被饋入，該關(guān)斷閥1285受到純度傳感器1286的控制。當(dāng)凈化的CDA的純度低于預(yù)定的界限值時，純度傳感器1286會自動關(guān)閉關(guān)斷閥1285。因此，自動地防止微影投射設(shè)備1有具有\(zhòng)過低的純度程度的洗滌氣體的污染。凈化的CDA的流動能夠通過流動計量器127來監(jiān)控。閥件125能夠被用來手動地關(guān)掉該流動。減量器129在該減量器的出口處4是供穩(wěn)定的壓力，因此一種穩(wěn)定洗滌氣體的壓力能夠(通過熱交換器126)被提供給限流裝置(restriction)143到145。熱交換器126提供一種在實質(zhì)固定的溫度下的凈化CDA。熱交換器126吸收熱能或?qū)崮芴砑拥絻艋^的氣體，例如凈化過的CDA，以達成適合于特定實施方式的氣體溫度。在微影投射設(shè)備中，例如，使用穩(wěn)定的處理條件，并且熱交換器因此可以穩(wěn)定凈化過的CDA的溫度，以具有經(jīng)過一段時間是不變的或是在預(yù)定狹窄溫度范圍內(nèi)的氣體溫度。對于在微影投射設(shè)備中洗滌氣體出口處的洗滌氣體的合適條件可以例如是每分鐘20到30標(biāo)準升的流量及/或大約221:的洗滌氣體溫度及/或在30%到60%范圍內(nèi)的相對濕度。然而，本發(fā)明并未被限定于這些條件，并且這些參數(shù)的其它數(shù)值同樣也可以被使用在依據(jù)本發(fā)明的系統(tǒng)中。可以使用熱交換器以調(diào)整洗滌氣體的溫度，以修改來自一個蒸發(fā)器中的可蒸發(fā)式液體的蒸氣的攝入(uptake)。熱交換器126可以通過限流裝置143到145被連接到洗滌氣體出口130到132。限流裝置143到145能夠^^用來限制氣體的流動，^使得在每個洗滌氣體出口130到132處可以獲得所需要的、固定的洗滌氣體流動與壓力。在洗滌氣體出口處用于洗滌氣體壓力的合適的數(shù)值可以例如是100mbar。同樣可能l吏用可調(diào)整式限流裝置，用以在每個洗滌氣體出口131到132與洗滌氣體混合物出口處130處提供可調(diào)整的氣體流動。蒸發(fā)器，例如霧化器150，被連接到在限流裝置143與洗滌氣體出口130間的熱交換器的下游。洗滌氣體混合物出口130在圖1與圖2的實例中設(shè)在靠近晶圓臺WT處。霧化器150添加濕氣或水蒸氣到凈化過的CDA，并因此提供一種洗滌氣體混合物到出口130。在這個實施例中，只會在單一出口處排》文洗滌氣體混合物。然而，同樣可能的是例如藉由連接多個洗滌氣體出口到個別的霧化器，或連接兩個或更多的出口到相同的霧化器，而將洗滌氣體混合物排放到兩個或更多的洗滌氣體出口。同樣可能在除了圖3所示之外的洗滌氣體混合物產(chǎn)生器中的不同的位置處提供一個例如霧化器的蒸發(fā)器。例如，霧化器150可以放置在洗滌氣體混合物產(chǎn)生器120與閥體143間，而不是在閥體143與洗滌氣體出口130間。霧化器或其它蒸發(fā)器150也能夠當(dāng)作或操:作成一種流量限流裝置，并且如果需要的話，也可以省略連接到霧化器150的限流裝置130。霧化器150可以被實施成例如如圖4所示的。然而，霧化器150同樣可以用不同方式實施，且例如包括將液體蒸發(fā)成洗滌氣體流的蒸發(fā)器。顯示于圖4中的霧化器150包括一個液體槽151,該液體槽151以一種例如高純度水的可蒸發(fā)式液體154裝滿到液體位準A。一個氣體入口1521(以下稱為"濕氣體入口1521")被放置成使端部沒入可蒸發(fā)式液體154中，也就是低于液體位準A。另一個氣體入口1522(以下稱為，，干氣體入口1522")被放置成使其端部高于液體位準A,也就是在液體槽151中未充填可蒸發(fā)式液體154的部分。一個氣體出口153將液體槽151在液體154上方的部分與洗滌氣體供給系統(tǒng)100的其它部份相連接。在這種型式的蒸發(fā)器中，例如凈化過的壓縮干空氣的洗滌氣體通過濕氣體入口1521被饋送到液體槽151中。因此，在液體154中產(chǎn)生洗滌氣體的氣泡159。因此，如圖4中由箭頭B所指出的，由于浮力的關(guān)系，將濕氣體入口1521放入可蒸發(fā)式液體154后氣泡159會向上行進。在不希望被理論所限制下，在此向上行進期間，來自可蒸發(fā)式液體154的濕氣會由于例如擴散過程而進入氣泡159。因此，在氣泡159內(nèi)的洗滌氣體會與濕氣相混合。在液體表面處，也就是液體位準A處，氣泡159會將其氣態(tài)內(nèi)容物供應(yīng)到存在液體槽151中在液體154上方的該或該等氣體。所產(chǎn)生的洗滌氣體混合物通過氣體出口153而從槽排出。濕氣體入口1521可以是具有一個外端部的管件組件，該外端部一皮連接到液體槽151外側(cè)的一個洗滌氣體供給裝置(未顯示)，該洗滌氣體供給裝置例如是圖3的洗滌氣體混合物產(chǎn)生器120。含有蒸氣或濕氣體入口1521在一個定位在液體槽151內(nèi)側(cè)中的內(nèi)端部處設(shè)有過濾器組件1525,該過濾器組件1525具有例如大約0.5^t米的小通道。在這整個實施例中，過濾器組件1525至少部分地被放置在液體154中。因此，濕氣體入口1521產(chǎn)生大量的非常小的洗滌氣體氣泡。因為它們的尺寸小(例如大約0.5微米)，該等氣泡159在一段相當(dāng)短的時間內(nèi)，也就是氣泡159在通過液體154的一段相當(dāng)短的移動距離，被增加水分到飽和。干氣體入口1522設(shè)有一個過濾器組件1524，該過濾器組件1524類似于濕氣體入口1521的過濾器組件。從而，通過濕氣體入口1521與干氣體入口1522的氣體流實質(zhì)上是相似的，且在氣泡159離開液體154時，在洗滌氣體混合物中的濕氣量實質(zhì)上是在氣泡159中的濕氣量的一半。也就是說，如果氣泡159中的濕氣是飽和的話，也就是100%的相對濕度(Rh),洗滌氣體混合物具有50%的相對濕度。然而，同樣也可能分別通過該濕氣體入口1521與該干氣體入口1522提供不同比率的氣體流到液體槽中，并且從而在大約0%到大約100%間調(diào)整相對濕度。該氣體出口1530.003樣i米的細網(wǎng)狀過濾器1526，該細網(wǎng)過濾器1526能夠被用來將顆粒與小液滴從流出液體槽151的氣體中過濾出來。因此，此等顆粒在洗滌氣體混合物中的濕氣的相對量能夠以不同方式受到控制。舉例而言，例如氣泡所行進的液體高度的液體槽151的參數(shù)能夠受到控制。而且，舉例而言，通過干氣體入口1522被帶到液體槽151中無濕氣的洗滌氣體的量相對于透過濕氣體入口1521所產(chǎn)生的有濕氣的洗滌氣體的量能夠受到控制。液停留時間中的其中一個或更多個。溫度已知具有一種在類似濕氣的蒸氣的飽和量上的影響，該蒸氣例如能夠存在于一種氣體中。為了控制溫度，液體槽151可以設(shè)有一個加熱組件，該加熱組件則響應(yīng)一個溫度訊號而受到一個控制裝置或控制器的控制，該溫度訊號表示在液體槽內(nèi)側(cè)例如由溫度量測裝置所提供的溫度。藉由通過濕氣體入口1521來調(diào)整氣泡被置入液體中的位置的方式，可以改變氣泡在可蒸發(fā)式液體154中的停留時間。例如，當(dāng)過濾器1525被進一步定位到液體154中時，氣泡必須行進到液體位準A的距離會增加，因此停留時間也會增加。氣泡出現(xiàn)在液體154中的時間愈長，就有越多的蒸氣(例如水蒸氣)能夠被吸收到氣體中。因此，藉由改變停留時間能夠調(diào)整氣體的蒸氣內(nèi)容物，例如濕氣。霧化器裝置150進一步設(shè)有一個控制裝置157,在洗滌氣體混合物中例如是水蒸氣的蒸氣的量能夠透過此控制裝置157受到控制。例如，控制裝置157能夠利用一個濕氣控制接觸器1571被連接到在干氣體入口1522中的一個控制閥件1523，通過該控制閥件1523，被供給到干氣體入口1522的洗滌氣體的流率能夠受到控制，并且因此相對于濕潤氣體的量控制干燥的洗滌氣體的量?？刂蒲b置157進一步控制存在于液體槽151中的液體154的量?？刂蒲b置157使用一個液體控制接觸器1572而被連接到一個液體供給裝置156的控制閥1561,并且利用一個溢流接觸器1573而^^皮連接到氣體出口153的控制閥1531。一個液位量測裝置158被連通地連接到控制裝置157。液位量測裝置158提供一個液體位準訊號到控制裝置157,該液體位準訊號代表在液體槽151中的液體位準的特性。控制裝置157響應(yīng)該可蒸發(fā)式的液位訊號而操作控制閥1561及控制閥1561。在這個實例中，液位量測裝置158包括三個浮控開關(guān)1581到1583，這些開關(guān)相對于液體槽151的底部而被定位在適合的、不同的高度處。最低的浮控開關(guān)1581定位最靠近于底部。當(dāng)液體位準A系在或低于最低的浮控開關(guān)1581時，最低的浮控開關(guān)1581提供空的訊號給控制裝置157。響應(yīng)該空的訊號，控制裝置157會打開控制閥1561,并且自動地將液體供給到槽。在液體位準A到達這個浮控開關(guān)1582的高度的情況下，在中間位置的浮控開關(guān)1582則會提供滿的訊號。該控制裝置157則響應(yīng)該滿的訊號而關(guān)閉控制閥1561，并藉以關(guān)閉液體的供應(yīng)。一個頂部的浮控開關(guān)1583是定位在最遠離底部處。在液體位準A是在或高于頂部的浮控開關(guān)1583的情況下，頂部的浮控開關(guān)1583會提供滿溢訊號給控制裝置157。響應(yīng)該滿溢訊號，控制裝置157會關(guān)掉氣體出口153的控制閥1531,以防止液體泄漏到微影投射設(shè)備l的其它部份。一種具有高于或等于20%(例如等于或高于25%)的相對濕度的洗滌氣體混合物特別能夠提供優(yōu)良的結(jié)果。此外，具有高于25%且低于70%(例如是，60%)的相對濕度的洗滌氣體混合物對于在微影投射設(shè)備中的量測系統(tǒng)的準確度方面具有良好的防護效果。此外，也發(fā)現(xiàn)到例如大約40%的濕度，其類似于在微影投射設(shè)備周圍的例如無塵室的空間中的濕度，提供最理想的結(jié)果。在本發(fā)明的某些實施例中，例如，當(dāng)較高的氣體流率、改良的蒸氣濃度控制，或筒化的操作是相當(dāng)有利的，一個蒸發(fā)器能夠包括一個外罩、一個含有一洗滌氣體流的第一區(qū)域及一個含有一可蒸發(fā)液體的第二區(qū)域，其中第一區(qū)域與第二區(qū)域是由一種氣體可滲透的中空纖維薄膜所隔開，該纖維薄膜實質(zhì)上可抵抗液體的侵入。此種蒸發(fā)器能夠被利用來將液體蒸氣提供到一種洗滌氣體中，以形成一種洗滌氣體混合物。在某些實施例中，該蒸發(fā)器是一種霧化器，該霧化器包括一個外罩、一個含有一洗滌氣體流的第一區(qū)域及一個含有水份的第二區(qū)域，其中該第一區(qū)域與該第二區(qū)域由一氣體可滲透薄膜所隔開，該薄膜實質(zhì)上可以抵抗水份的侵入。用于該等蒸發(fā)器薄膜的合適的材質(zhì)包括熱塑性聚合物，例如聚合物(四氟乙烯-共聚-全氟-3,6-二惡-4-曱基-7-辛烯-磺酸(tetrafluoroethylene-co-perfluoro-3,6-dioxa-4陽methyl-7-octenesulfonicacid))與全氟化聚合物(例如聚四氟乙烯(polytetrafluoroethylene))。例如全氟化聚合物的非可潤濕性聚合物(non-wettablepolymer)是特佳的，特別是適合與高壓流體一起使用且大致上沒有無機氧化物(例如硫化物(SOx)與氮化物(NOx),X為從1到3的整數(shù))的聚合物。薄膜可以是一種能夠折迭或打褶或能夠在相對的側(cè)邊處被接合的薄片，用以形成中空的纖維。在本發(fā)明的某些型式中，中空纖維薄膜可以是擠制的多孔中空纖維。與任何用來將薄膜接合到一個外罩的密封劑、罐封樹脂或接著劑結(jié)合的薄膜在正常的操作條件下(例如，30psig或更少的壓力)可以防止液體滲透到洗滌氣體中，且減少或消除氣體逸出。該薄膜較佳被建構(gòu)成將薄膜與洗滌氣體及一種例如水的可蒸發(fā)液體相接觸的表面積增加到最大，且將薄膜體積減到最小。如下文所述，每個裝置中，一個霧化器能夠包括一個以上的薄膜。可以使用一種具有形成管子的中空纖維與殼體結(jié)構(gòu)的蒸發(fā)器。在某些實施例中，蒸發(fā)器被用來將水蒸氣增加到某一種載體氣體中，并且可以被稱為霧化器。例如，具有中空纖維薄膜的蒸發(fā)器或霧化器典型上包括a)—束有復(fù)數(shù)個氣體可滲透中空纖維薄膜，該束氣體可滲透中空纖維薄膜具有第一端部與第二端部，而該等薄膜具有外表面與內(nèi)表面，且該內(nèi)表面包圍該第一與第二區(qū)域中的其中一者；b)該束中空纖維薄膜的每個端部凈皮罐封(potted)以一種液密密封劑，其形成一種端部結(jié)構(gòu)，該端部結(jié)構(gòu)具有一個環(huán)繞的外罩，而纖維端部則對于流體流動開放；c)該外罩具有內(nèi)壁與外壁，該內(nèi)壁在該內(nèi)壁與該等中空纖維薄膜間界定第一與第二區(qū)域中的另一個區(qū)域；d)該外罩具有被連接到該洗滌氣體源的一洗滌氣體入口與一個洗滌氣體混合物出口；以及e)該外罩具有被連接到可蒸發(fā)液體源的一個可蒸發(fā)液體入口與一個可蒸發(fā)液體出口，其中，該洗滌氣體入口被連接到該束纖維薄膜的第一端部及該洗滌氣體混合物出口被連接到該束纖維薄膜的第二端部，或者該可蒸發(fā)液體入口被連接到該束纖維薄膜的第一端部及該可蒸發(fā)液體入口被連接到該束纖維薄膜的第二端部。在某些實施例中，該可蒸發(fā)液體是水。典型上，具有一般而言適合當(dāng)做蒸發(fā)器或霧化器使用的中空纖維薄膜的裝置被稱為薄膜接觸器，且被描述在美國專利第6,149,817號、第6，235，641號、第6,309,550號、第6,402,818號、第6，474，628號、第6,616,841號、第6,669,177號與第6,702,941號中，這些專利的內(nèi)容以參考的方式加入本文中。雖然描述在上述專利中的薄膜接觸器有許多是有助于將氣體添加到一種液體(例如水)中或是將氣體從一種液體移除，但是申請人已經(jīng)發(fā)現(xiàn)到薄膜接觸器通常能夠當(dāng)做蒸發(fā)器操作，使得來自一種液體的蒸氣可以被添加到具有降低的或小于大約1ppt的增加的污染物的洗滌氣體流動。在洗滌氣體混合物產(chǎn)生器中的蒸發(fā)器在高流率的下將蒸氣添加到洗滌氣體中，而不會對洗滌氣體造成超過1ppt的污染物。蒸發(fā)器的流出物是例如包含小于1ppt的非曱烷碳氫化合物以及小于1ppt的硫化物。合適的薄膜蒸發(fā)器能夠使用在一個凈化器下游，而不會影響由凈化器所形成的洗滌氣體的完整性?？梢允褂脷庀鄬游?脈沖火焰游離(gaschromatography/pulsedflameionization)、APMS或其它微量技術(shù)(tracetechniques),以特征化多孔薄膜蒸發(fā)器的清潔性。能夠被制造及/或處理來降低污染、且適合當(dāng)做霧化器使用的薄膜接觸器的特定實例包括由Pall公司所販賣的Infiizor薄膜接觸器模塊、由Membrana-Charlotte公司所販賣的Liqui-Ce胸薄膜接觸器模塊及由PermaPure公司所販賣的Nafion⑧薄膜燃料電池加濕器。特佳的蒸發(fā)器或霧化器概略地顯示在圖5中，該蒸發(fā)器或霧化器的商業(yè)實施例是pHasorII薄膜接觸器，其由美國麻薩諸塞州Billerica的Mykrolis⑧公司(現(xiàn)在是Entegris公司)所販賣。如圖5所說明的，流體1通過纖維內(nèi)腔3而進入霧化器2中，在該纖維內(nèi)腔3內(nèi)時橫越霧化器2內(nèi)部，在此處流體被薄膜而與流體4隔開，且通過纖維內(nèi)腔在連接件40處離開。流體4經(jīng)由連接件30進入外罩，并且實質(zhì)充滿在該外罩的內(nèi)壁與該等纖維的外徑的間的空間，以及經(jīng)由連接器20處離開。使用在本發(fā)明蒸發(fā)器或霧化器中的氣體可滲透式中空纖維薄膜典型上是下列其中一個a)具有一個多孔表層內(nèi)表面、一個多孔外表面及一個介于該內(nèi)表面與外表面間的多孔支撐結(jié)構(gòu)的中空纖維薄膜；b)具有一個表層非多孔表層內(nèi)表面、一個多孔外表面以及一個介于該內(nèi)表面與外表面間的多孔支撐結(jié)構(gòu)的中空纖維薄膜；c)具有一個多孔表層外表面、一個多孔內(nèi)表面以及一個介于該內(nèi)表面與外表面間的多孔支撐結(jié)構(gòu)的中空纖維薄膜；或d)具有一個非多孔表層外表面、一個多孔內(nèi)表面及一個介于該內(nèi)表面與外表面間的多孔支撐結(jié)構(gòu)的中空纖維薄膜。這些中空纖維薄膜能夠具有大約350微米到大約1450微米的外徑。當(dāng)這些中空纖維薄膜是具有一個多孔表層內(nèi)表面、一個多孔外表面及一個介于該內(nèi)表面與外表面間的多孔支撐結(jié)構(gòu)的中空纖維薄膜、或是具有一個多孔表層外表面、一多孔內(nèi)表面以及一個介于該內(nèi)表面與外表面間的多孔型支撐結(jié)構(gòu)的中空纖維薄膜時，該多孔表面的孔的直徑較佳是在從大約0.001微米到大約0.005微米或在它們最大的樣式。在表層表面中的孔較佳的是面向流體的流動。用于這些中空纖維薄膜的合適材料包括全氟化熱塑性聚合物，例如聚(四氟乙烯-共聚-全氟)(烷基乙烯基乙醚(alkylvinylether))(聚PTFE-CO-PFVAE)、聚(四氟乙烯-共聚-六氟丙烯(tetrafluoroethylene-co-hexafluoropropylene))(FEP)或其等的混合,因為這些聚合物并不會因為嚴厲的使用條件而有不利的影響。PFA鐵氟龍⑧是聚PTFE-CO-PFVAE的一個實例，其中烷基主要或完全為丙烷基群。FEP鐵氟龍⑧是聚FEP的一個實例。上述兩者均由杜邦公司所制造。NeoflonTM的PFA(DaikinIndustries)是一種類似于杜邦公司的PFA鐵氟龍⑧的聚合物。一種其中烷基群主要為曱基的聚PTFE-CO-PFVAE描述于美國專利第5，463，006號中，該專利的內(nèi)容以參考的方式加入本文中。一種較佳的聚合物是Hyflon⑧的聚PTFE-CO-PFVA620，其可從美國新澤西Thorofare的AusimontUSA，Inc.購得。將這些聚合物形成為中空纖維薄膜的方法揭示在美國專利第6,582,496號與第4,卯2，456號中，該等美國專利內(nèi)容以參考的方式加入本文中。罐封作業(yè)(potting)是形成一種在每個纖維周圍具有液密密封作用的管狀薄板的程序。管狀薄板或罐將霧化器的內(nèi)部與外界環(huán)境隔離。罐以熱結(jié)合到外罩容器，以產(chǎn)生一個單一端部結(jié)構(gòu)。當(dāng)纖維與罐被結(jié)合到外罩以形成完全由全氟化熱塑性材料所組成的單一全體時，可以獲得單一端部的結(jié)構(gòu)。單一端部的結(jié)構(gòu)包括纖維束被包圍在一個罐封端部、該罐與全氟化熱塑性外罩的端部部分中的部分，其內(nèi)表面則與該罐一致且被結(jié)合到全氟化熱塑性外罩的端部部分。藉由形成單一結(jié)構(gòu)，可以制造出更堅固的蒸發(fā)器或霧化器，在該罐與該外罩的接面處較不可能發(fā)生泄漏或其它損壞。此外，形成單一結(jié)構(gòu)避免使用例如環(huán)氧樹脂的接著劑來將纖維結(jié)合在適當(dāng)位置的需要。典型上，這些接著劑包括則會污染流過蒸發(fā)器或霧化器的洗滌氣體的揮發(fā)性碳氬化合物。例如，使用由PermaPure公司銷售的Liqui-cel霧化器而被增濕的洗滌氣體明顯地有環(huán)氧樹脂的味道，而清楚地顯示在洗滌氣體中有一種無法令人接受的例如像是數(shù)百個ppm的碳氫化合物內(nèi)容物。該罐封與接合程序是描述在1999年1月29日提出申請的美國專利申請案第60/117,853號中的方法的改良，且被揭示于美國專利第6,582,496號中，該等專利文件的教示以參考的方式加入本文中。該等中空纖維薄膜束較佳地被制備成使得該束中空纖維薄膜的第一端部與第二端部以一種液密的全氟化熱塑性密封見來封罐，而形成單一端部結(jié)構(gòu)，該端部結(jié)構(gòu)包括具有環(huán)繞的全氟化熱塑性外罩的第一端部與第二端部兩者，該等端部的纖維以分開方式對于流體流動開i文。本發(fā)明的一種型式是將蒸氣添加到洗滌氣體中的設(shè)備。設(shè)備能夠包括一個氣體源入口與一個來自凈化器的洗滌氣體出口，該氣體源入口與一個或更多的可再生凈化器以流體連通，該洗滌氣體出口則與一個蒸發(fā)器的洗滌氣體入口以流體連通。凈化器能夠被獨立地再生，并且移除從氣體源入口到凈化器的污染物，以形成洗滌氣體。蒸發(fā)器能夠包括一個外罩以及一個或更多的微孔中空纖維薄膜。外罩具有一個洗滌氣體入口與一個洗滌氣體混合物出口，洗滌氣體混合物出口與微孔型中空纖維薄膜的第一側(cè)以流體連通。外罩具有一個用于可蒸發(fā)液體的入口與一個與微孔中空纖維的第二側(cè)邊以流體連通的用于可蒸發(fā)液體的出口。微孔中空纖維薄膜會對一種來自蒸發(fā)器的可蒸發(fā)液體的蒸氣造成小于1ppb的污染物，而該污染物會劣化在微影投射系統(tǒng)中的光學(xué)元件的光學(xué)特性，而在某些實施例中會有小于100ppt的這種揮發(fā)性污染物。蒸發(fā)器可以被清潔或處理，以降低或移除這些污染物。微孔中空纖維藉由可蒸發(fā)液體抵抗液體的4曼入。該設(shè)備能夠進一步包括一個溫度調(diào)節(jié)系統(tǒng)，該溫度調(diào)節(jié)系統(tǒng)將蒸發(fā)器的溫度、洗滌氣體入口的溫度、洗滌氣體混合物出口的溫度或上述這些的組合的溫度維持在一個或更多的設(shè)定點范圍內(nèi)。該溫度調(diào)節(jié)系統(tǒng)能夠包括一個或更多個溫度量測裝置、一個或更多個能夠修改該設(shè)備的一個或更多個區(qū)段或區(qū)域的溫度的熱交換器及一個控制器。該控制器從溫度量測裝置接收溫度的輸入值，并且藉由控制一個或更多個熱交換器的操作來修改設(shè)備的溫度。熱交換器可以包括、但是不會被限定于加熱器、冷激器、珀爾帖冷卻器(peltiercooler)、風(fēng)扇或其它裝置。該溫度調(diào)節(jié)系統(tǒng)能夠?qū)⒄舭l(fā)器的溫度、洗滌氣體的溫度、洗滌氣體混合物的溫度或上述的任意組合的溫度維持在大約±5。C或更小的設(shè)定點溫度范圍內(nèi)，在某些實施例中，維持在大約士rc或更小的設(shè)定點溫度范圍內(nèi)，而其它的實施例則維持在大約土0.5。C或更小的設(shè)定點溫度范圍內(nèi)。該溫度調(diào)節(jié)系統(tǒng)能夠?qū)⑾礈鞖怏w混合物維持在高于蒸氣的凝結(jié)溫度以上的溫度，使得可以減少或消除蒸氣的凝結(jié)。在某些實施例中，溫度調(diào)節(jié)系統(tǒng)能夠?qū)⒃谙礈於确秶鷥?nèi)。該溫度調(diào)節(jié)系統(tǒng)能夠維持設(shè)備的溫度，使得在洗滌氣體、洗滌氣體混合物中的蒸氣濃度濃度的變動小于5%的濃度，在某些實施例中，變動小于1%的濃度、而在其它的型式中，變動小于0.5%的濃度。溫度調(diào)節(jié)系統(tǒng)能夠在該設(shè)備中維持一種溫度梯度。藉由維持設(shè)備的溫度，該溫度調(diào)節(jié)系統(tǒng)提供一種實質(zhì)固定的蒸氣濃度。在某些型式中，該溫度調(diào)節(jié)系統(tǒng)在不同的洗滌氣體流率下將洗滌氣體混合物的溫度維持在一種實質(zhì)固定的溫度。該設(shè)備能夠包括一個壓力調(diào)節(jié)系統(tǒng)，該壓力調(diào)節(jié)系統(tǒng)維持可蒸發(fā)式液體的壓力、一洗滌氣體的壓力或是上述任何組合的壓力，以防止在可蒸發(fā)式液體中的洗滌氣體氣泡形成在樣史孔中空纖維中，并且提供一種在洗滌氣體混合物中濃度變動小于5%的蒸氣，在某些實施例中，濃度變動小于r/。的蒸氣，在其它的實施例中，濃度變動小于0.5%的蒸氣。壓力調(diào)節(jié)系統(tǒng)能夠包括可蒸發(fā)液體的加壓源，該加壓源的進給壓力能夠例如藉由加壓氣體或泵浦來修改。壓力調(diào)節(jié)系統(tǒng)能夠包括壓力轉(zhuǎn)換器、計量閥與一個控制器，用以量測或修改在蒸發(fā)器的中空纖維多孔薄膜的其中一側(cè)上可蒸發(fā)液體的壓力。壓力調(diào)節(jié)系統(tǒng)能夠包括一個或更多個壓力轉(zhuǎn)換器、計量閥與一個控制器，以量測或修改與蒸發(fā)器的多孔中空纖維的第二側(cè)相接觸的洗滌氣體或洗滌氣體混合物的壓力。該壓力調(diào)節(jié)系統(tǒng)能夠維持洗滌氣體或洗滌氣體混合物的壓力，并且避免洗滌氣體氣泡形成在該可蒸發(fā)液體中。在某些型式的設(shè)備中，壓力調(diào)節(jié)系統(tǒng)將可蒸發(fā)液體的壓力維持在大約5psi或高于洗滌氣體的壓力。該壓力調(diào)節(jié)系統(tǒng)能夠包括一個壓力控制器與一個背壓調(diào)節(jié)器。在本發(fā)明實施例中的設(shè)備能夠包括一個流量控制系統(tǒng)，該流量控制系統(tǒng)維持洗滌氣體的流率、一稀釋氣體的流率、來自該設(shè)備的洗滌氣體混合物的流率、或上述的任何組合。該流量控制系統(tǒng)能夠包括一個或更多的質(zhì)量流控制器、一個或更多的蒸氣濃度傳感器與一個控制器。依據(jù)一蒸氣濃度或蒸氣飽合設(shè)定點的分壓，該控制器能夠從該等蒸氣傳感器取得濃度輸出值，并且修改洗滌氣體與洗滌氣體混合物的混合物，以產(chǎn)生具有所需蒸氣濃度或蒸氣設(shè)定點濃度的稀釋的洗滌氣體混合物。流量控制系統(tǒng)能夠在洗滌氣體混合物中提供變動小于5%的蒸氣濃度，在某些實施例中，變動小于1%,而在其它的實施例中，變動小于0.5%。該設(shè)備能夠使一種洗滌氣體混合物或是一種稀釋的洗滌氣體混合物有小于lppb的揮發(fā)性雜質(zhì)，而在某些型式中，小于1ppt的揮發(fā)性雜質(zhì)。在本發(fā)明某些型式中，洗涂氣體混合物能夠在大于20slm的洗滌氣體流率下形成，且在來自蒸發(fā)器的洗滌氣體混合物中的液體蒸氣量則比在^f敫影投射設(shè)備或其它輸送設(shè)定點的溫度與壓力下可以使洗滌氣體飽和的量更多大約20%。藉由控制在該設(shè)備中洗滌氣體混合物中的蒸氣溫度、壓力、流量或上述任何組合，在洗滌氣體混合物中的蒸氣濃度或組成能夠被修改。藉由以另外的洗滌氣體、利用將來自蒸發(fā)器的洗滌氣體混合物出口的洗滌氣體混合物與洗滌氣體混合的步驟或動作來稀釋，可以進一步修改在洗滌氣體混合物中的蒸氣濃度。藉由將含有洗滌氣體的混合物通過一個液體收集器并且移除液體的動作，可以進一步處理洗滌氣體混合物或稀釋的洗滌氣體混合物?？烧舭l(fā)流體能夠利用一個計量閥，從一個加壓源被進給到中空纖維。或者，可蒸發(fā)流體能夠被進給到蒸發(fā)器中，而該蒸發(fā)器具有以再循環(huán)的方式流動或是終端進給(deadendfeed)的可蒸發(fā)液體。例如，可蒸發(fā)液體可以是在一個溫控式槽內(nèi)且由一個泵浦進給到蒸發(fā)器中，且任何殘存的可蒸發(fā)液體則回到槽中進一步加熱。在某些型式中，接觸器液體側(cè)的出口能夠被關(guān)閉，當(dāng)可蒸發(fā)液體由洗滌氣體所蒸發(fā)時，該可蒸發(fā)液體從一個加壓液體源被進給到蒸發(fā)器。圖11(A)概略地說明一種洗滌氣體混合物供應(yīng)系統(tǒng)，該系統(tǒng)進一步調(diào)節(jié)來自一個來源(未顯示，但可以是一種外罩式氮氣供應(yīng)裝置(housenitrogensupply)、來自氣瓶的電子級氣體等等)、通過一個調(diào)節(jié)器1104且進入凈化器1108的氣體1102,用以產(chǎn)生能夠由質(zhì)量流控制器1112與1116控制的洗滌氣體流1110。該凈化器1108能夠包括一個或更多個獨立且分開的可再生凈化器。也可以存在選擇性的壓力轉(zhuǎn)換器1114、溫度轉(zhuǎn)換器1106與蒸氣傳感器(未顯示)。一種無污染的可蒸發(fā)液體1130能夠從一個來源(未顯示)被供應(yīng)到蒸發(fā)器或接觸器1120,該可蒸發(fā)液體1130的蒸氣能夠被用來控制、強化或修改光阻劑的活性、其它的微影化學(xué)涂布、或其它基板涂布。例如，來自一個來源(未顯示)的像是水的可蒸發(fā)液體1130可以流過壓力調(diào)節(jié)器1128、流過蒸發(fā)器或霧化器H20且流過選擇性的流量控制閥1124。相較于沒有蒸氣的洗滌氣體，在洗滌氣體中的蒸氣會強化光阻劑的活性；藉由維持在洗滌氣體中的蒸氣濃度，洗滌氣體混合物能夠被用來控制光阻劑的活性。亦顯示有選擇性的壓力轉(zhuǎn)換器1126與溫度轉(zhuǎn)換器1122。水1130能夠以與洗滌氣體流1110的方向逆流的方向流動，該洗滌氣體流1110的方向被圖示為從質(zhì)量流控制器1112移動通過霧化器1120。在某些型式中，水與氣體能夠以相同的方向流動。來自質(zhì)量流控制器1112的洗滌氣體1110通過在霧化器1120中抵抗液體的侵入的多孔薄膜取得液體蒸氣，以形成洗滌氣體混合物1140。洗滌氣體能夠被進給，且使用在連接到出口1136的微影投射系統(tǒng)中。洗滌氣體混合物1140能夠被選擇性地與來自第二質(zhì)量流控制器1116的洗滌氣體相混合且被該洗滌氣體稀釋，以形成稀釋的洗滌氣體混合物1144，該稀釋的洗滌氣體混合物1144能夠被進給且被使用在連接到出口1136的微影投射系統(tǒng)中。這種稀釋能夠被用來將來自質(zhì)量流控制器1112而通過蒸發(fā)器1120的洗滌氣體保持固定的流動，并且有助于蒸發(fā)器1120的溫度控制。可以使用其在設(shè)備中的位置能夠改變的選擇的捕獲器1132，用以移除霧化器1120的任何液滴或凝結(jié)。捕獲器可以是一種粒子過濾器或液體收集器，其位置被選擇以提供在液體或微量顆粒的減少作用。一種蒸氣傳感器1138能夠選擇性地定位在蒸發(fā)器1120下游。選擇地，可以使用控制器來接收蒸氣傳感器1138的輸出，且通過質(zhì)量流控制器1116來修改洗滌氣體流1110,以修改或維持在稀釋的洗滌氣體混合物1144中的蒸氣濃度。在某些實施例中，蒸氣傳感器是一種濕氣傳感器。該洗滌氣體混合物1144能夠設(shè)在一個出口1136處，用于使用在微影投射設(shè)備或是其它利用洗滌氣體混合物來洗滌的系統(tǒng)中。圖11(B)說明一個洗滌氣體混合物供應(yīng)系統(tǒng)，該系統(tǒng)進一步調(diào)節(jié)通過一個調(diào)節(jié)器1150且進入凈化器1158中的來自一個來源(未顯示，但可以是外罩氮氣供應(yīng)裝置、電子級氣體瓶、氣體產(chǎn)生器或類似者)的氣體1102，用以產(chǎn)生流到質(zhì)量流控制器1162與1166的洗滌氣體流1160。該凈化器1158能夠包括一個或更多的獨立且分開的可再生凈化器。一個或更多個選擇的壓力轉(zhuǎn)換器1164、溫度轉(zhuǎn)換器1156、蒸氣傳感器(未顯示)也能夠定位在蒸發(fā)器1170前。一種來自一來源(未顯示)的無污染可蒸發(fā)液體1180、例如水、可以流過壓力調(diào)節(jié)器1178、流過接觸器或霧化器1170、且通過選擇性的流量控制閥1174。也顯示出選擇的壓力轉(zhuǎn)換器1176與溫度轉(zhuǎn)換器1172。如圖所示，可蒸發(fā)液體能夠以相對于洗滌氣體流1160方向的逆流方向，從質(zhì)量流控制器1162流過接觸器1170。來自質(zhì)量流控制器1162的洗滌氣體通過多孔薄膜取得液體蒸氣，以形成洗滌氣體混合物ll卯。洗滌氣體混合物1190能夠選擇地與來自第二質(zhì)量流控制器1166的洗滌氣體1160相混合，且被洗滌氣體1160所稀釋，用以形成一種稀釋的洗滌氣體混合物1194。這種稀釋作用能夠被用來將流過蒸發(fā)器1170的洗滌氣體維持在固定流動，且有助于蒸發(fā)器的溫度控制。圖11(B)說明一種熱交換器或溫控環(huán)境1192，其能夠用來將所產(chǎn)生的洗滌氣體混合物1194的溫度維持在避免洗滌氣體混合物1190中的蒸氣凝結(jié)的溫度范圍內(nèi)。這種溫度高于在洗滌氣體混合物中的蒸氣凝結(jié)點。例如，如果水的分壓接近飽和壓力的話，溫度僅會在水蒸氣轉(zhuǎn)換成液態(tài)時稍微下降。溫控環(huán)境1192也能夠用來維持在接觸器中的液體溫度，并且從而將來自蒸發(fā)器1170的蒸氣濃度維持在能夠被用來提供光阻劑或其它在基板上形成圖案的涂層的合適反應(yīng)的范圍內(nèi)。例如，溫度經(jīng)調(diào)節(jié)的具有水蒸氣的洗滌氣體混合物能夠被提供在洗滌氣體混合物出口1186處，用于在圖2的微影投射設(shè)備中的照明光學(xué)以及/或投射透鏡PL中使用。洗滌氣體混合物能夠被提供在出口1186處，具有或不具有來自質(zhì)量流控制器1166的洗滌氣體1160的稀釋作用。一個蒸氣傳感器1184能夠選擇性地定位在蒸發(fā)器1170下游處。一個個控制器可以選擇性地被用來接收蒸氣傳感器1184的輸出，并且修改通過質(zhì)量流控制器1166的洗滌氣體1160，以修改或維持在稀釋的洗滌氣體混合物1194中的蒸氣濃度。在某些型式中，蒸氣傳感器是一種濕氣傳感器。洗滌氣體混合物1194能夠被設(shè)在一個出口1186處，用于使用在微影投射系統(tǒng)或是其它利用洗滌氣體混合物來洗滌的系統(tǒng)中。圖14概略圖示一個洗滌氣體混合物供應(yīng)系統(tǒng)，該系統(tǒng)進一步調(diào)節(jié)來自一個來源(未顯示)而通過一個調(diào)節(jié)器1404且進入凈化器1408的氣體1402,用以產(chǎn)生流進質(zhì)量流控制器1416與1440的洗滌氣體1412。該凈化器1408能夠包括一個或更多的獨立且分開的可再生凈化器。也可以存在有選擇性的壓力轉(zhuǎn)換器1420、溫度轉(zhuǎn)換器1424與蒸氣傳感器(未顯示)。一種能夠纟皮用來控制光阻劑活性的可蒸發(fā)液體成分1464或是其它微影用化學(xué)涂層也能夠從一個來源(未顯示)^皮供應(yīng)到一個或更多的蒸發(fā)器1428與1432。如圖14所示，一個或更多個蒸發(fā)器1428與1444可以用并聯(lián)的關(guān)系被建構(gòu)?；蛘撸摰冉佑|器能夠以串聯(lián)構(gòu)造連接。例如，一種來自一個來源的類似水的可蒸發(fā)液體1464可以流過壓力調(diào)節(jié)器1460,流過由導(dǎo)管1432互相連接的蒸發(fā)器或霧化器1428與1444，并且通過選擇的流量控制閥1436。也能夠使用選擇的壓力轉(zhuǎn)換器1456與溫度轉(zhuǎn)換器1452。通過蒸發(fā)器1428與1444的液體1464能夠以來自質(zhì)量流控制器1416的洗滌氣體的方向逆向的方向流動。來自質(zhì)量流控制器1416的洗滌氣體1412通過在蒸發(fā)器1428與1444中的多孔薄膜取得來自可蒸發(fā)液體的蒸氣，以形成洗滌氣體混合物1468。多孔薄膜抵抗液體的侵入。洗滌氣體能夠被進給并使用在被連接到出口1488的微影投射系統(tǒng)中。洗滌氣體混合物1468能夠選擇地與來自一個第二質(zhì)量流控制器1440的洗滌氣體1412相混合或以該洗滌氣體1412被稀釋，以形成能夠被進給通過壓力調(diào)節(jié)器1484且被使用在被連接到出口1488的微影投射系統(tǒng)中的稀釋的洗滌氣體1480。這種稀釋被用來將來自質(zhì)量流控制器1412的經(jīng)過一個或更多個蒸發(fā)器1428與1444的洗滌氣體保持在固定的流動，其能夠有助于蒸發(fā)器的溫度控制。一個在分歧管線中的位置能夠改變的選擇的捕獲器1488可以被使用來移除來自蒸發(fā)器的任何液滴或凝結(jié)。該捕獲器可以是一種顆粒過濾器或一種液體收集器。一個蒸氣傳感器1476能夠選擇地被定位在蒸發(fā)器下游處?；蛘?，蒸氣傳感器1476的輸出能夠選擇性地建構(gòu)成具有質(zhì)量流控制器1440與一個控制器，用以改變通過質(zhì)量流控制器1440的洗滌氣體流1412，以修改或維持在稀釋的洗滌氣體混合物1480中的蒸氣濃度。洗滌氣體混合物1480能夠在一個出口1488處提供，用以在微影投射系統(tǒng)或其它利用洗滌氣體混合物來洗滌的系統(tǒng)中使用。洗滌氣體混合物供應(yīng)系統(tǒng)典型上能夠以每分鐘至少大約30標(biāo)準升的洗滌氣體流率下運作。能夠選擇設(shè)備的溫度，使得可蒸發(fā)液體的溫度具有在所需的操作壓力下防止液體侵入薄膜的黏度，且具有一種在運作流率下提供用于洗滌氣體混合物的足夠蒸氣的蒸氣壓力。在某些實施例中，設(shè)備的溫度大約為室溫，在某些實施例中，高于大約25。C，在某些實施例中，至少大約30。C,在某些實施例中，大約為35。C,在某些實施例中，至少大約50。C,在某些實施例中，至少大約6(TC，而在其它實施例中，則至少大約卯r。通過蒸發(fā)器或霧化器的洗滌氣體的流率可以是每分鐘至少大約20標(biāo)準升(SLM)，在某些實施例中，每分鐘至少為大約60標(biāo)準升，而在某些實施例中，每分鐘至少為大約120標(biāo)準升。在其中洗滌氣體混合物含有離開蒸發(fā)器的水蒸氣的本發(fā)明某些型式中，洗滌氣體具有至少大約20%的相對濕度。依據(jù)霧化器的運作條件，至少大約50%、至少大約80%、至少大約90%、至少大約98%或是大約100%的較高相對濕度(用以產(chǎn)生實質(zhì)上飽和的洗滌氣體)是可能的。例如，藉由加長洗滌氣體停留在霧化器中的時間(例如，藉由減少流率或是增加霧化器的尺寸大小)、或是加熱霧化器抑或至少在霧化器中的水，可以達到較高的穩(wěn)定相對濕度值。洗滌氣體壓力與越過蒸發(fā)器薄膜的水的流動能夠被修改，以改變在洗滌氣體中的水蒸氣量。特別是，降低洗滌氣體的壓力導(dǎo)致洗滌氣體濕度增加。當(dāng)降低洗滌氣體壓力時，減少了需要加熱水以獲得高相對濕度的情況。如同以圖4所示的霧化器，圖5的霧化器裝置能夠設(shè)有一個控制裝置，通過該控制裝置，在洗滌氣體混合物中的濕氣量能夠受到控制?？刂蒲b置利用一個濕氣控制接觸器被連接到一個控制閥，(例如直接從洗滌氣體源)被供應(yīng)到一個具有離開圖5霧化器的已濕潤洗滌氣體的混合腔室的未濕潤的洗滌氣體流率可通過該控制閥而被控制。這種情況說明于例如圖11(A)之中。在某些實施例中，在洗滌氣體混合物產(chǎn)生器中的蒸發(fā)器是在高流率下將蒸氣添加到洗滌氣體中，而不會對洗滌氣體造成污染。污染物可以特征化成可能是會對與輻射線相互作用以形成在微影投射設(shè)備中的基板上的圖案的光學(xué)元件的光學(xué)特性有不利的影響、或是造成光學(xué)元件的光學(xué)特性劣化或不受控制的改變的這些材料、原子或分子。本發(fā)明的型式提供具有小于lppb的污染物的件的光學(xué)特性，在其它型式中，洗滌氣體含有小于大約100ppt的這些污染物，而其它型式中則含有小于1ppt的這些污染物。光學(xué)元件能夠包括、但未限定于鏡片、透鏡、光束分離器、光柵、光掩膜(pellicle)、標(biāo)線片或是與圖案成形光束互相作用的其它光學(xué)元件或是上述的組合。例如，藉由吸附作用、化學(xué)吸收作用(chemisorption)及/或物理吸收作用(physisorption)、化學(xué)反應(yīng)、與輻射束相互作用的化學(xué)反應(yīng)或上述任何組合，污染物可以進一步特征化成形成一個或更多的次單層(sub-monolayer)、一個或更多的單層、大約10到大約50個單層、或是是污染物與光學(xué)元件互相作用所產(chǎn)生的較厚薄膜者。薄膜會改變或劣化與光學(xué)元件相互作用的輻射的穿透性、反射性、折射性、聚焦深度或吸附性，而需要改變制程參數(shù)或替換光學(xué)元件，以維持^f數(shù)影程序的產(chǎn)量。藉由隨著時間改變光學(xué)元件的光學(xué)特性或是藉由其它例如熱吸附作用與氣相色層分析/質(zhì)譜分析、二次離子質(zhì)譜(SIMs)的飛行時間分析的方法可以決定這些污染物的量，或是這些污染物的累積可以藉由表面聲波或其它的壓電傳感器來決定。本發(fā)明的洗滌氣體混合物產(chǎn)生器能夠被處理來減少揮發(fā)性污染物。例如，蒸發(fā)器、霧化器與其它流體接觸表面能夠在足以實質(zhì)上移除在大約IO(TC或更低的溫度下?lián)]發(fā)的化合物的溫度下被加熱一段足夠長的時間。蒸發(fā)器可以與例如高純度過氧化氫或臭氧氣體的化學(xué)兼容的酸、鹽基(bases)、氧化劑或上述任何組合相接觸，用以分解與移除來自蒸發(fā)器的殘留物。這些處理容許蒸發(fā)器可以被使用在需要基本上無污染氣體的應(yīng)用中。為了本發(fā)明目的，洗滌氣體被界定成一種不大于大約lppb污染程度的氣體或氣體混合物。洗滌氣體包括例如氮氣與氬氣的惰性氣體連同例如壓縮的干空氣與干凈的干空氣的含氧氣體。可以依據(jù)所需應(yīng)用來決定合適的洗滌氣體，以致于例如氧氣的非惰性氣體在某些應(yīng)用中并非為污染物，然而在其它應(yīng)用中被認為是污染物。較佳的是，洗滌氣體混合物產(chǎn)生器(與蒸發(fā)器或霧化器)并不會對洗滌氣體造成污染。污染物的實例包括碳氬化合物、氮氧化物NOx、硫化物SOx等等。例如，含有不大于大約lppb(或是大約1000ppt)污染物的洗滌氣體會如同含有不大于大約1ppb(或是大約1000ppt)污染物的濕潤洗滌氣體離開該霧化器。已經(jīng)發(fā)現(xiàn)到，本發(fā)明的顆粒霧化器(請參照實例1)能夠濕潤洗滌氣體，使得污染程度維持小于lppt。被蒸發(fā)成洗滌氣體的液體能夠被用來維持或強化用在微影制程中的化學(xué)洗滌氣體混合物造成lppb或更少的污染物。在某些型式中，在霧化器中使用以形成用于洗滌氣體混合物的水蒸氣的水造成1ppb或更少的會對在微影l(fā)殳射系統(tǒng)中的光學(xué)元件的光學(xué)特性有不利影響的污染物。水可以是、但未被限定于、一種超高純度的水。UHP的水能夠從例如、但被未限定于、能夠選擇地被蒸餾或過濾的MilliposeMilliQ⑧水的水源處獲得。流過蒸發(fā)器的例如水的可蒸發(fā)液體的流率可以是大約0ml/hr或更高；此種低流率會發(fā)生在使用靜壓力來補足由洗滌氣體帶走的水的情況(終端流動(deadendflow))。在某些型式中，流過蒸發(fā)器的可蒸發(fā)液體的流率可以是大約100ml/hr或更高，而在其它型式中，可以是大約300ml/hr或更高?？梢哉{(diào)節(jié)例如是水的可蒸發(fā)液體的流率，以將所使用的可蒸發(fā)液體的量減少到最小程度，可以調(diào)節(jié)流動以維持在霧化器中的可蒸發(fā)液體的溫度，可以調(diào)節(jié)流動來補足由洗滌氣體所吸取的蒸發(fā)液體，或者是上述的任何組合。實例以下的實例是要說明本發(fā)明某些實例的特殊觀點。這些實例并不是要限制任何所使用的本發(fā)明的特殊實施例的范圍。實例1一種MykrolispHasorII的薄膜接觸器(現(xiàn)在可以從EntegrisInc.公司購得)被當(dāng)作一種用于釋放非曱烷的碳氫化合物與硫化物的蒸發(fā)器測試。一個不釋放污染物的薄膜接觸器可以被用來將濕氣添加到一種XCDA⑧的氣體流(對于碳氫化合物與硫化物來說小于1ppt)中。該pHasorII已被清潔以除去揮發(fā)性化合物。圖6表示用于量測來自pHasorII的濕潤洗滌氣體中的污染物的實驗配置結(jié)構(gòu)。一個壓力調(diào)節(jié)器被用來維持質(zhì)量流控制器(MFC)的氣體上游的壓力。一個MFC被用來維持流過pHasorII的腔側(cè)的空氣流率。一個凈化器被用來從pHasorII的氣體上游處除去污染物，以產(chǎn)生XCDA的洗滌氣體。pHasorII上游的一壓力規(guī)被用來監(jiān)控入口壓力。一個背壓調(diào)節(jié)器被用來維持pHasor⑧II的出口壓力。pHasorn的殼體側(cè)前方并未充滿水。在這種測試期間，因為高濃度的濕氣將會使偵測-器不穩(wěn)定，所以水被從pHasor⑧11中除去。一種具有火焰游離偵測器與與脈沖式火焰光度偵測器的氣相層析(GC/FID/PFPD)被用來量測在pHasorII的流出物中的碳氫化合物與硫化物的濃度。一種冷卻補獲器(coldtrap)方法被用來濃縮碳氫化合物與硫化物，其會將最低的偵測極限降低到lppt的濃度。圖7使用GC/FID表示小于1ppt的碳氫化合物污染物的空白背景的讀值。圖8表示該pHasorII下游的GC/FID讀值。如圖所示，兩種讀值基本上是相同的。因此，當(dāng)XCDA⑧正流過一個pHasorII時，會維持一種小于1ppt的碳氬化合物的污染濃度。圖9表示使用GC/PFPD的小于1ppt的硫化物污染物的干凈背景的讀數(shù)。圖10表示pHasorII下游的GC/PFPD讀數(shù)。如圖所示，兩種讀數(shù)基本上是相同的。因此，當(dāng)XCDA⑧正流過pHasorII時，則會維持小于1ppt的硫化物的污染物濃度。pHasorII的流出物含有小于1ppt的非曱烷碳氫化合物以及小于1ppt的硫化物。因此，pHasorII能夠使用在凈化器下游，而不會影響XCDA洗滌氣體的完整性。實例2一個Entegris公司的pHasorII薄膜被用來利用變動的水溫、CDA流率與CDA壓力來濕潤干凈的干空氣(CDA)。對于所有的實驗而言，pHasorII被清潔來除去揮發(fā)性化合物。一個MFC被用于維持流過pHasorII的內(nèi)腔側(cè)的空氣流率。去離子水被用作在該pHasorII的殼體側(cè)中的可蒸發(fā)液體，其用一個熱交換器來加熱。水的流動是使用在pHasorII出口側(cè)上的一個調(diào)節(jié)器而受到控制。水溫在pHasorII的液體側(cè)與出口側(cè)上被量測，而洗滌氣體的壓力、溫度與相對濕度在pHasorII的腔出口側(cè)上被量測。在第一個實驗中，水溫會隨著CDA不同的流率而改變。用于這個實驗的CDA具有20psi的背壓、19。C的初始溫度與6%的相對濕度。儲存的去離子水在160mL/min的速率下流過該pHasorII。第一次的實驗結(jié)果顯示在表1到表3中。表l一具有40SLM流率的CDA的濕潤化<table>tableseeoriginaldocumentpage38</column></row><table>在第二個實驗中，在pHasor⑧11中的CDA的背壓已被改變。用于這個實驗的CDA具有19。C的初始溫度與1%的相對濕度。儲存的去離子水已被加熱到35。C，并且在156mL/min的速率下流過該pHasor⑧n。第一次的實驗結(jié)果顯示在表4到表6中。表4一具有50SLM流率的CDA的濕潤化<table>tableseeoriginaldocumentpage39</column></row><table>表5—具有70SLM流率的CDA的濕潤化<table>tableseeoriginaldocumentpage39</column></row><table>表6—具有100SLM流率的CDA的濕潤化<table>tableseeoriginaldocumentpage39</column></row><table>第一次的實驗顯示出洗滌氣體的濕潤化隨著水溫的增加而增加。當(dāng)水溫達到30。C或更高時，觀察到CDA的相對濕度有最顯著的增加。在溫度小于3(TC的情況下，水溫在濕潤化方面的效果較小。第二次的實驗顯示出當(dāng)在薄膜接觸器中的洗滌氣體的背壓降低時，洗滌氣體的濕氣會更快地飽和。在受測的壓力范圍內(nèi)，這種效果大致為線性的。實例3本實驗?zāi)康氖且罁?jù)在各種流率與壓力下的蒸發(fā)器，決定一微孔中空纖維聚合薄膜的水蒸氣的輸出。使用一種圖11(A)所說明的分歧管線的修改型式。該分歧管線包括一個氣體質(zhì)量流控制器(MFC)，其被用來維持流過一個可從Entrgris公司獲得的pHasorII中空纖維接觸器的內(nèi)腔的氮氣流率。一個Aeronex公司的SS-500KF-I-4R型號的凈化器從pHasor⑧II(現(xiàn)在可從Entegris公司獲得)上游的外罩式氮氣除去濕氣。一個Kahn公司的濕氣探針被用來監(jiān)控pHasorII(未顯示在圖11(A)中)上游的濕氣。pHasorII被用來藉由容許水蒸氣從微孔薄膜的殼體側(cè)擴散通過內(nèi)腔且進入氣體流中來加入濕氣。氣體壓力被控制在每平方英寸大約5磅(5psig)的水壓內(nèi)，以防止洗滌氣體在水流束中產(chǎn)生氣泡。一個壓力規(guī)與熱電耦被用來監(jiān)控pHasorII上游的壓力與溫度。利用一個針閥，去離子化水的流率被維持在以每小時100毫米流過pHasorII的殼體側(cè)。壓力規(guī)被用來量測pHasorII上游與下游的水壓。一個熱電耦量測pHasorII下游的水溫。利用一個OmegaSilicone加熱器，pHasorII的溫度被維持在25°C。一個Mykrolis的ThermogardTM與WafergardII(現(xiàn)在是Entegris公司)^皮放置在pHasorII下游的測試分歧管線內(nèi)，用以除去任何濕氣液滴。一個Vaisala濕氣4笨針一皮用來量測pHasorII下游的相對濕度與溫度。一個APTech公司的背壓調(diào)節(jié)器被用來維持pHasorII(未顯示在圖11(A)中)下游的壓力。一個槽被充滿水且以氣體加壓來將高壓水提供到pHasorII。水壓已從18psig變化到59psig。pHasorII的一個閥被打開，讓水在設(shè)定的壓力下流過蒸發(fā)器的殼體側(cè)。圖12說明了在不同洗滌氣體流率(10、20、30、40與50slpm)下，以兩個不同的氣體出口氣體壓力(0psig與10psig)且液態(tài)水壓為18psig，由pHasorII產(chǎn)生的洗滌氣體中的濕氣濃度改變的測試結(jié)果。已經(jīng)觀察到，洗滌氣體混合物的濕氣濃度隨著洗滌氣體在兩種氣體出口壓力的流率的增加而降低。也已觀察到，當(dāng)氣體出口壓力接近液體壓力時，例如是10psig的氣體出口壓力，在氣體中對于給定流率與溫度的濕氣濃度會降低。圖13(A)說明對于在59psig下霧化器殼體側(cè)上的水，在不同流率(10、20、30、40與50slpm)與不同氣體壓力(10、25、與50psig)下，量測在所產(chǎn)生的洗滌氣體混合物中的相對濕度的測試結(jié)果。結(jié)果顯示相對濕度隨著流率的增加而降低，在洗滌氣體混合物中的相對濕度隨著出口壓力的減少而降低。圖13(B)說明從圖13(A)被轉(zhuǎn)換成以ppm表示的濕氣濃度的相對濕度數(shù)據(jù)。在圖13(B)中的結(jié)果顯示濕氣濃度隨著氣體流率的增加而降低。在圖13(B)中的結(jié)果也顯示當(dāng)氣體出口壓力接近液體壓力時，對于一種給定的流率與溫度來說，氣體中的濕氣濃度會降低。相對濕度能夠藉由利用Goff-Gratch方程式來計算水蒸氣的飽和壓力(Pws)而被轉(zhuǎn)換成濕氣濃度。Goff-Gratch方程式為Log10(Pws)=7.90(373.16/(T-1))+5.03Log10(37316/T)-1.38x10-7((1011.34(1-T)/373.16)-l)+8.13xl0-3((10-3.49(373.16/(l-T)))-l)+Logl0(1013.25)其中，T為絕對溫度〔K〕而Pws為〔hPa〕水蒸氣的分壓Pw能夠藉由以Pws乘以相對濕度(R.H.)而計算出來，這是因為R.H.=Pw/Pws對于理想氣體而言，濕氣濃度則能夠使用以下方程式從計算出的Pw來估算，該方程式為ppm(v/v)=(Pw/Pt)x106(其中，Pt為總壓力)實例4本實驗的目的是當(dāng)洗滌氣體流率已介于每分鐘80到120標(biāo)準升(SLM)間時，決定蒸氣器的濕氣輸出。壓力與溫度被改變，以Y務(wù)改濕氣的輸出。在實驗期間，整個系統(tǒng)的壓力與溫度降也被監(jiān)控。圖14說明概略的包括兩個并聯(lián)霧化器的測試分歧管線。一個槽;陂充滿去離子水且以空氣加壓，以提供大于18psig的液體壓力。首先，槽在通氣閥開啟的同時被充滿水。接著，關(guān)閉通氣閥，槽用純氮氣被加壓到59psig。一個Parker公司的壓力調(diào)節(jié)器被用來控制霧化器(可從Entegris公司獲得的pHasorII薄膜接觸器)上游的水壓到高于氣體入口壓力至少10psig。一個Entegris公司的壓力轉(zhuǎn)換器被用來量測這個調(diào)節(jié)器下游的壓力。水的流動通過這兩個pHasorII。一個Entegris公司的計量閥被用來將水流率維持在每小時100毫升。一個Millipore壓力規(guī)被用來監(jiān)控系統(tǒng)上游的氣體壓力。兩個pHasorII上游的氮氣被以一Aeronex的SS-500KF-I-4R型凈化器(無法從Entegris公司取得)所凈化。兩個100slm的Porter公司的質(zhì)量流控制器(MFC)被用來維持流過該等pHasorII的內(nèi)腔側(cè)的外罩式氮氣的流率。一壓力規(guī)與熱電耦被用來監(jiān)控pHasor⑧II上游的氣體壓力與溫度。壓力規(guī)被用來量測pHasorII上游與下游的水壓。在這個測試期間，pHasorII在25。C與60°C時被加熱。一個MykrolisWafergardII(現(xiàn)在是Entegris公司)放置在測試的分歧管線內(nèi)做為一個補獲器，用以在二個pHasorII的CHS中除去任何配合補獲器位置的水滴。一個Vaisala濕氣探針被用來量測霧化器下游的相對濕度與溫度。一個APTech公司的背壓調(diào)節(jié)器被用來維持霧化器下游的壓力。在用兩個分別^皮加熱到25。C與60。C的pHasorII處所收集到的初始相對濕度的數(shù)據(jù)顯示相對濕度會隨著pHasorII的氣體入口壓力或溫度的增加而增加，而且也顯示相對濕度隨著氣體流率的增加而降低。當(dāng)相對濕度的數(shù)據(jù)被轉(zhuǎn)換成濕氣濃度時，會觀察到當(dāng)霧化器或蒸發(fā)器的氣體入口壓力增加時，濕氣濃度會降低。也已經(jīng)觀察到隨著pHasorII的溫度增加，會發(fā)生濕氣濃度增加的現(xiàn)象。溫度的增加造成水蒸發(fā)的量的增加，且產(chǎn)生覺高的含水量。也已經(jīng)觀察到氣體出口溫度會隨著氣體流率的增加而降低。不希望受到理論的束縛，較高流率的氣體的冷卻可以是由于液體的蒸發(fā)冷卻。已經(jīng)發(fā)現(xiàn)到藉由調(diào)整霧化器的溫度，可以補足隨著氣體流率的增加而使來自接觸器的濕氣濃度降低。氣體出口溫度被保持在22.4°C,氣體流率則為40、80與120slm。藉由使用一個OmegaSilicone加熱器來改變pHasorII的溫度可以維持這種溫度。此外，在殼體側(cè)上的液體壓力祐L保持在高于在內(nèi)腔側(cè)上的氣體壓力10psig。如圖15所示，這個測試的結(jié)果顯示通常由增加的氣體流率所造成的冷卻作用(例如圖13(B))可以藉由控制蒸發(fā)器的溫度(在這個情況中是藉由加熱蒸發(fā)器)而得到補償，而以獨立于氣體流率的方式維持在洗滌氣體混合物中的相當(dāng)固定的水蒸氣濃度。實例5這個實例說明在流率大于100slpm時的洗滌氣體混合物的產(chǎn)生，其中容許液體流過一個或更多個以并聯(lián)方式連接的中空纖維蒸發(fā)器。使用一個類似在圖14中說明的分歧管線。如圖14所說明的，一個水補獲器直接放置在兩個pHasor⑧H(蒸發(fā)器)下游。用于這些測試的設(shè)定操作條件包括在壓力源為100psig(6.89barg)時，大約120slm的內(nèi)腔側(cè)氮氣流。系統(tǒng)的入口壓力(止回閥的上游，該止回閥并未顯示)大約為40psig(2.76barg)，且pHasor⑧II的霧化器上游的氣體壓力大約為16psig(1.01barg)。來自霧化器的氣體出口壓力為7psig(0.48barg)。對于液體在霧化器殼體側(cè)上的濕氣的操作條件包括一個超純化的水源與一個蒸發(fā)器的液體入口壓力35psig(2.41barg)，該超純化的水源以300ml/hr的流率來自在44psig(3.03barg)下的來源。測試時間大約為2個小時。使用OmegaSilicone加熱器維持接觸器的溫度。表7—高流量的霧化器測試條件與所產(chǎn)生的相對濕度<table>tableseeoriginaldocumentpage43</column></row><table>結(jié)果顯示能夠一起連接一個或更多的接觸器，以在洗滌氣體中產(chǎn)生蒸氣。在洗滌氣體混合物中濕氣的相對濕度能夠以一種洗滌氣體的固定流率、壓力與系統(tǒng)溫度^f皮控制在大約0.1%或更佳的范圍內(nèi)。雖然本發(fā)明已經(jīng)參照其較佳實施例而特別地說明與描述，但是熟習(xí)此項技術(shù)的人士將了解到可以做出數(shù)種形狀與細節(jié)上的改變，而不會偏離本發(fā)明由專利申請范圍所涵蓋的范圍。例如，蒸發(fā)器系統(tǒng)能夠使用于產(chǎn)生受到控制的濕度，包括用于減少在金屬蝕刻或其它制程中的靜電荷作用的環(huán)境。權(quán)利要求1.一種設(shè)備，其包括一個氣體入口，該氣體入口與一個或更多的可再生凈化器以相流體連通，可再生凈化器具有與一氣體源以流體相連通的一氣體入口及一與一蒸發(fā)器的洗滌氣體入口以流體相連通的洗滌氣體出口，該等凈化器從到達該等凈化器的一氣體入口移除污染物，以形成一洗滌氣體；該蒸發(fā)器包括一個外罩與一個或更多的微孔中空纖維薄膜；該外罩包含一洗滌氣體入口與一洗滌氣體混合物出口，該洗滌氣體混合物出口與該微孔中空纖維的一第一側(cè)以流體相連通，并且該外罩包括一可蒸發(fā)液體入口與可蒸發(fā)液體出口，該可蒸發(fā)液體出口與該微孔中空纖維的一第二側(cè)邊以流體相連通，該等微孔中空纖維薄膜被處理以移除會劣化在一微影投射系統(tǒng)中的光學(xué)元件的光學(xué)特性的污染物，該等微孔中空纖維可以抵抗一可蒸發(fā)液體的液體侵入；一溫度調(diào)節(jié)系統(tǒng)，該溫度調(diào)節(jié)系統(tǒng)將該蒸發(fā)器的溫度、該洗滌氣體混合物出口的溫度或上述這些的組合的溫度維持在一個或更多的設(shè)定點范圍內(nèi)；以及一壓力調(diào)節(jié)系統(tǒng)，該壓力調(diào)節(jié)系統(tǒng)維持可蒸發(fā)液體與洗滌氣體的壓力，以防止在該等微孔中空纖維中在該可蒸發(fā)液體中形成洗滌氣體的氣泡。2.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，該溫度調(diào)節(jié)系統(tǒng)進一步包括一個溫度控制器、一個加熱器、冷凝器或是上述的一組合。3.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，該壓力調(diào)節(jié)系統(tǒng)包括一個壓力控制器與一個背壓調(diào)整器。4.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，該壓力調(diào)節(jié)系統(tǒng)將該可蒸發(fā)液體的壓力維持在大約5psi，或是較高于該洗滌氣體壓力。5.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，該溫度調(diào)節(jié)系統(tǒng)將該洗滌氣體混合物出口的溫度維持在高于蒸氣的凝結(jié)點。6.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，該溫度調(diào)節(jié)系統(tǒng)獨立于該洗滌氣體的流率而維持該洗滌氣體混合物的溫度。7.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其進一步包括一洗滌氣體出口，該洗滌氣體出口與該洗滌氣體混合物出口以流體相連通。8，如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其進一步包括一液體收集器。9.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其包括一個或更多的蒸發(fā)器。10.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，該洗滌氣體混合物具有小于1ppb的會劣化在一微影投射系統(tǒng)中光學(xué)元件的光學(xué)特性的污染物。11.一種組成物，其包括一具有大于20slpm的流率的洗滌氣體混合物，該洗滌氣體包含小于1ppb的會劣化在一微影投射系統(tǒng)中光學(xué)元件的光學(xué)特性的污染物，該洗滌氣體混合物包含大于大約20%的飽和該洗滌氣體的蒸氣，該蒸氣維持或強化在一微影制程中所用的化學(xué)物的活性。12.—種方法，其包括利用一個溫度調(diào)節(jié)系統(tǒng)將一蒸發(fā)器的溫度、該蒸發(fā)器的一洗滌氣體入口的溫度或是上述的組合的溫度控制在一個或更多的設(shè)定點范圍內(nèi)；利用一個壓力調(diào)節(jié)系統(tǒng)控制在該蒸發(fā)器中被一個或更多的微孔中空纖維所隔開的一種可蒸發(fā)液體與一種洗滌氣體的壓力，用以降低在該等微孔中空纖維中的可蒸發(fā)液體中形成洗滌氣體氣泡；以及將一洗滌氣體與在該蒸發(fā)器中的可蒸發(fā)液體相接觸，該蒸發(fā)器包括一個外罩與該一個或更多的微孔中空纖維薄膜，該外罩包括一洗滌氣體入口與一洗滌氣體混合物出口，該洗滌氣體混合物出口與該一個或更多的微孔中空纖維的一第一側(cè)以流體相連通，該外罩包括一個可蒸發(fā)液體入口與可蒸發(fā)液體出口，該可蒸發(fā)式液體出口與該等微孔中空纖維的第二側(cè)以流體相連通，該等微孔型中空纖維薄膜被處理，以移除會劣化在一微影投射系統(tǒng)中光學(xué)元件的光學(xué)特性的可蒸發(fā)污染物，以及該等微孔中空纖維可以抵抗藉由一可蒸發(fā)液體的液體侵入。13.如權(quán)利要求12所述的方法，其中，該壓力調(diào)節(jié)系統(tǒng)將該可蒸發(fā)液體的壓力維持在大約5psi，或是更高于該洗滌氣體壓力。14.如權(quán)利要求12所述的方法，其中，該溫度調(diào)節(jié)系統(tǒng)將該洗滌氣體混合物出口的溫度維持在高于蒸氣的凝結(jié)點。15.如權(quán)利要求12所述的方法，其中，該溫度調(diào)節(jié)系統(tǒng)獨立于該洗滌氣體的流率而維持該洗滌氣體混合物的溫度。16.如權(quán)利要求12所述的方法，其進一步包括利用來自該蒸發(fā)器的洗滌氣體混合物出口的洗滌氣體混合物來混合該洗滌氣體的動作。17.如權(quán)利要求12所述的方法，其進一步包括將該冼滌氣體混合物通過一個液體捕獲器并且移除液體的動作。18.如權(quán)利要求12所述的方法，其進一步包括將該可蒸發(fā)液體進給到該蒸發(fā)器的動作，該可蒸發(fā)液體以一種再循環(huán)的方式流動。19.如權(quán)利要求12所述的方法，其中，該洗滌氣體混合物具有一種小于1ppb的雜質(zhì)。20.如權(quán)利要求12所述的方法，其中，該可蒸發(fā)液體產(chǎn)生一洗滌氣體混合物，該洗滌氣體混合物包括一在一微影制程中所利用的蒸氣。.全文摘要一種微影投射設(shè)備，其包括一個支撐件，其被建構(gòu)來支撐一個圖案成形裝置(patterningdevice)，該圖案成形裝置則被建構(gòu)以依據(jù)一個想要的圖案而使一道投射光束形成圖案。該設(shè)備具有一個基板平臺(substratetable)與一個投射系統(tǒng)，該基板平臺被建構(gòu)成托住一個基板，而該投射系統(tǒng)則被建構(gòu)成投射被圖案成形過的光束到該基板的目標(biāo)區(qū)域之上。該裝置也具有一種洗滌氣體供應(yīng)系統(tǒng)，其被建構(gòu)來將一種洗滌氣體提供到靠近該微影投射設(shè)備的一個組件的表面。該洗滌氣體供應(yīng)系統(tǒng)包括一個洗滌氣體混合物產(chǎn)生器，其被建構(gòu)來產(chǎn)生一種洗滌氣體混合物，其包括至少一種洗滌氣體與霧氣。該洗滌氣體混合物產(chǎn)生器具有一個霧化器(moisturizer)，而該霧化器則被建構(gòu)來將霧氣加入到該洗滌氣體中、以及一個洗滌氣體混合物出口，而該洗滌氣體混合物出口被連接到該洗滌氣體混合物產(chǎn)生器，該洗滌氣體混合物產(chǎn)生器則被建構(gòu)來將該洗滌氣體提供到靠近該表面。文檔編號G02B27/00GK101410760SQ200780011533公開日2009年4月15日申請日期2007年3月28日優(yōu)先權(quán)日2006年4月3日發(fā)明者羅瑟·J.·霍姆斯申請人:恩特格林斯公司