專利名稱：狹縫噴嘴的橫向噴射均勻度測(cè)量裝置及方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及測(cè)量基板涂敷裝置(Substrate Coating Apparatus)的狹縫噴嘴(Slit Nozzle)所噴出的光刻膠的橫向噴射均勻度的裝置及方法，尤其涉及測(cè)量當(dāng)基板涂敷裝置的狹縫噴嘴噴出光刻膠時(shí)沿狹縫噴嘴的橫向噴出的光刻膠的橫向噴射均勻度的裝置及方法。
背景技術(shù)：
通常，在制造液晶顯示器件時(shí)，工藝誤差主要發(fā)生在使用光刻膠(Photoresist)的光刻工藝中。如果所述光刻膠沒有被均勻涂敷，則在后續(xù)工藝中會(huì)發(fā)生分辨率、電路線寬的差異，而且發(fā)生反射率差異，從而引起直接反映在畫面上的缺陷。
最近，提出了縮短在基板上涂敷光刻膠所需的工藝時(shí)間的要求。隨之，需要研究在短時(shí)間內(nèi)均勻涂敷所述光刻膠并進(jìn)行干燥的方法。
用來均勻涂敷光刻膠的方法有滾涂(Roll Coating)方法、旋涂(SpinCoating)方法、狹縫涂敷(Slit Coating)方法。滾涂是在將光刻膠承載于圓柱形輥?zhàn)油獠恐笫顾鲚佔(zhàn)釉诨迳习匆欢ǚ较驖L動(dòng)而涂敷光刻膠的方法；旋涂是在圓盤形支撐體上放置基板并在所述基板中央滴落光刻膠之后使基板旋轉(zhuǎn)，從而根據(jù)離心力在基板上涂敷光刻膠的方法；狹縫涂敷是按照一定方向掃過基板的同時(shí)通過狹縫形狀的噴嘴將光刻膠噴到基板而進(jìn)行涂敷的方法。
所述涂敷方法中，滾涂方法難以精密地控制光刻膠膜的均勻性及膜厚度，因此形成高精密圖案時(shí)使用旋涂方法。但是，旋涂方法適合在晶片等面積較小的基板上涂敷感光物質(zhì)，不適用于液晶顯示面板所使用的玻璃基板等大面積大重量的平板顯示裝置用基板。這是因?yàn)榛逶酱笤街?，越難以使基板高速旋轉(zhuǎn)，而且高速旋轉(zhuǎn)時(shí)基板受到的損傷或能耗也越大。因此，在大型玻璃基板上涂敷光刻膠時(shí)主要使用狹縫涂敷方法。
圖1為一般的狹縫涂敷機(jī)(Slit Coater)的結(jié)構(gòu)示意圖，圖2為表示利用圖1中示出的狹縫涂敷機(jī)在基板上涂敷光刻膠狀態(tài)的剖面圖。
如圖1所示，一般的狹縫涂敷機(jī)100包含將光刻膠PR涂敷在基板GS上的狹縫噴嘴110、按一定方向移動(dòng)所述狹縫噴嘴的一對(duì)噴嘴移送單元120、貼附在所述噴嘴移送單元一側(cè)的光刻膠供應(yīng)部115、從所述光刻膠供應(yīng)部115向所述狹縫噴嘴110運(yùn)送光刻膠PR的第一光刻膠供應(yīng)管116、向所述光刻膠供應(yīng)部115供應(yīng)光刻膠PR的第二光刻膠供應(yīng)管117。
所述狹縫噴嘴110為長條(Bar)狀噴嘴，在面對(duì)基板GS的狹縫噴嘴下端中央部分形成微細(xì)的狹縫形狀噴出口112，通過所述噴出口112向基板噴出一定量的光刻膠PR。所述光刻膠供應(yīng)部115是向所述狹縫噴嘴110供應(yīng)光刻膠PR，并向供應(yīng)的光刻膠PR施加預(yù)定壓力而噴出光刻膠PR的單元。通常，所述光刻膠供應(yīng)部115包含泵，由此向狹縫噴嘴110施加一定壓力，并根據(jù)該壓力將儲(chǔ)藏在狹縫噴嘴中的光刻膠PR噴射到基板上。
如圖2所示，具有上述結(jié)構(gòu)的狹縫涂敷機(jī)通過使所述狹縫噴嘴110一邊從基板一端以一定速度沿縱向前進(jìn)，一邊向基板GS上噴出光刻膠PR，從而在基板GS上均勻涂敷光刻膠PR。
此時(shí)，所述狹縫涂敷機(jī)100的狹縫噴嘴110不僅要在狹縫噴嘴110的移動(dòng)方向上均勻噴出光刻膠PR，而且在狹縫噴嘴110的橫向上也要均勻噴出光刻膠PR。為了在狹縫噴嘴110的移動(dòng)方向上均勻噴出光刻膠PR，需要控制所述光刻膠供應(yīng)部115向光刻膠PR施加的壓力隨時(shí)間的變化、狹縫噴嘴110的移動(dòng)速度、基板與狹縫噴嘴之間的距離等因素。
與此不同，為了沿狹縫噴嘴110的橫向均勻噴出光刻膠PR，需要調(diào)節(jié)沿狹縫噴嘴110橫向的噴出口的間距。為此，在所述狹縫噴嘴上沿噴嘴的橫向按預(yù)定間距設(shè)置用于調(diào)節(jié)噴出口間距的螺栓(附圖中未示出)。為了在狹縫噴嘴110的橫向上均勻噴出光刻膠PR，首先沿狹縫噴嘴110的橫向測(cè)量所述狹縫噴嘴110噴出的光刻膠PR厚度分布，即均勻度，并利用此時(shí)測(cè)量的光刻膠PR均勻度調(diào)節(jié)狹縫噴嘴噴出口間距。
實(shí)際應(yīng)用中，為了在狹縫噴嘴110的橫向上均勻噴出光刻膠PR，多次測(cè)量狹縫噴嘴110的橫向均勻度以確保均勻度數(shù)據(jù)的可靠性之后調(diào)節(jié)狹縫噴嘴噴出口間距。然后，利用進(jìn)行調(diào)節(jié)的噴出口反復(fù)進(jìn)行多次測(cè)量，以確認(rèn)光刻膠PR均勻度。
為此，以往采用由狹縫涂敷機(jī)在基板上直接涂敷光刻膠PR之后，直接測(cè)量涂敷的光刻膠PR厚度的方式。但是，由于這種方式直接在基板上涂敷光刻膠PR，因此會(huì)造成高價(jià)的基板及光刻膠PR的浪費(fèi)。尤其，隨著基板日益大型化，所消耗的光刻膠PR量會(huì)進(jìn)一步增加。
并且，在測(cè)量涂敷在基板上的光刻膠PR厚度時(shí)，難以在涂敷于基板上的光刻膠PR還沒有干的狀態(tài)下測(cè)量光刻膠PR厚度。因此，涂敷的光刻膠PR需要經(jīng)過干燥工藝之后測(cè)量厚度，這導(dǎo)致測(cè)量涂敷的光刻膠PR厚度的工作變得非常繁瑣。尤其，由于是在涂敷的光刻膠PR經(jīng)過干燥工藝之后測(cè)量其厚度，因此無法直接測(cè)量實(shí)際涂敷的光刻膠PR厚度，從而無法直接測(cè)量光刻膠的噴射均勻度。并且，由于涂敷在基板上的光刻膠PR厚度非常薄，因此測(cè)量其厚度時(shí)需要使用高價(jià)的厚度測(cè)量設(shè)備。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是為了解決現(xiàn)有技術(shù)存在的上述問題而提出的，其目的在于提供一種能夠簡便而精密地測(cè)量由狹縫噴嘴噴射到基板上的光刻膠的橫向噴射均勻度的狹縫噴嘴橫向噴射均勻度測(cè)量裝置及方法。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的，依據(jù)本發(fā)明第一形式所提供的狹縫噴嘴的橫向噴射均勻度測(cè)量裝置包含具有與所述狹縫噴嘴的噴出口相對(duì)的檢測(cè)面的多個(gè)流體壓力測(cè)量單元，所述流體壓力測(cè)量單元沿所述狹縫噴嘴的橫向并排。
依據(jù)本發(fā)明第二形式所提供的狹縫噴嘴的橫向噴射均勻度測(cè)量裝置包含具有與所述狹縫噴嘴的噴出口相對(duì)的檢測(cè)面的流體壓力測(cè)量單元和沿所述狹縫噴嘴的橫向移動(dòng)所述流體壓力測(cè)量單元的移動(dòng)單元。
所述狹縫噴嘴最好噴出水或氣體。
最好對(duì)所述流體壓力測(cè)量單元進(jìn)行表面處理以使其對(duì)噴射流體具有疏水性。
所述流體壓力測(cè)量單元的檢測(cè)面與前方表面之間或者所述流體壓力測(cè)量單元的檢測(cè)面與后方表面之間可以形成傾斜面。此時(shí)，所述檢測(cè)面和傾斜面之間的棱角最好形成為圓角。
所述流體壓力測(cè)量單元最好包含壓電元件。
依據(jù)本發(fā)明第三形式所提供的狹縫噴嘴的噴射均勻度測(cè)量方法，包含步驟通過所述狹縫噴嘴的噴出口噴出流體；測(cè)量沿所述狹縫噴嘴的橫向噴出的流體的噴射壓力；根據(jù)測(cè)量的所述噴射壓力算出均勻度，并進(jìn)行顯示。
此時(shí)，所述測(cè)量流體噴射壓力的步驟最好包含沿所述狹縫噴嘴的橫向并排多個(gè)流體壓力測(cè)量單元而同時(shí)進(jìn)行測(cè)量的步驟或沿所述狹縫噴嘴的橫向移動(dòng)一個(gè)流體壓力測(cè)量單元而進(jìn)行測(cè)量的步驟。


圖1為一般的狹縫涂敷機(jī)(Slit Coater)的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為表示利用圖1中示出的狹縫涂敷機(jī)在基板上涂敷光刻膠狀態(tài)的側(cè)剖面圖；圖3為概略地表示狹縫噴嘴和本發(fā)明所提供的狹縫噴嘴噴射均勻度測(cè)量裝置的正面圖；圖4為用于說明由本發(fā)明所提供的狹縫噴嘴噴射均勻度測(cè)量裝置噴出噴射流體的狀態(tài)的側(cè)面圖；圖5為概略地表示狹縫噴嘴和本發(fā)明另一實(shí)施例所提供的狹縫噴嘴噴射均勻度測(cè)量裝置的正面圖。
主要符號(hào)說明100為狹縫涂敷機(jī)，110為狹縫噴嘴，112為噴出口，115為光刻膠供應(yīng)部，116為第一光刻膠供應(yīng)管，117為第二光刻膠供應(yīng)管，320為流體壓力測(cè)量單元，320f為檢測(cè)面，320i為傾斜面，330為流體壓力測(cè)量單元，360為控制單元，F(xiàn)1為噴射流體，PR為光刻膠。
具體實(shí)施例方式
下面參照附圖詳細(xì)說明本發(fā)明所提供的狹縫噴嘴噴射均勻度測(cè)量裝置及方法的優(yōu)選實(shí)施例。本發(fā)明的噴射均勻度測(cè)量裝置用于測(cè)量背景技術(shù)部分進(jìn)行說明的一般狹縫涂敷機(jī)的狹縫噴嘴所噴出的光刻膠PR的噴射均勻度。下面省略對(duì)這種狹縫涂敷機(jī)的說明，對(duì)于該狹縫涂敷機(jī)可以參照?qǐng)D1及圖2。
圖3為概略地表示狹縫噴嘴和本發(fā)明所提供的狹縫噴嘴噴射均勻度測(cè)量裝置的正面圖，圖4為用于說明由本發(fā)明所提供的狹縫噴嘴噴射均勻度測(cè)量裝置噴出噴射流體的狀態(tài)的側(cè)面圖。
如圖3所示，本發(fā)明所提供的狹縫噴嘴的橫向噴射均勻度測(cè)量裝置沿狹縫噴嘴的橫向測(cè)量從狹縫噴嘴噴出的噴射流體的噴射壓力。
即，所述本發(fā)明所提供的狹縫噴嘴的橫向噴射均勻度測(cè)量裝置包含與狹縫噴嘴110下端即噴出口112保持一定間距而固定在其下方的多個(gè)流體壓力測(cè)量單元320；控制單元360，該控制單元360與所述流體壓力測(cè)量單元320相連接，并從所述流體壓力測(cè)量單元320接收信號(hào)而計(jì)量施加在各流體壓力測(cè)量單元320上的噴射壓力，由此算出噴出的噴射流體F1的均勻度，并將其顯示出來。
所述多個(gè)流體壓力測(cè)量單元320沿所述狹縫噴嘴110的橫向排列成一列，而且相互之間保持一定間距，各傳感器的流體壓力檢測(cè)面320f與所述狹縫噴嘴110的噴出口112面對(duì)面設(shè)置。此時(shí)，所述流體壓力測(cè)量單元320的數(shù)量越多，就能以更精密的分辨率測(cè)量噴射均勻度，而且這些流體壓力測(cè)量單元320之間的間距也越小越好。所述流體壓力測(cè)量單元320可以包含具有壓電元件而可以計(jì)量作用在其檢測(cè)面320f上的噴射壓力的各種傳感器。
此時(shí)，如果為了利用本發(fā)明所提供的噴射均勻度測(cè)量裝置來測(cè)量光刻膠PR均勻度而使用狹縫涂敷機(jī)100實(shí)際使用的光刻膠PR作為噴射流體F1，則由于光刻膠PR本身的價(jià)格很高，而且噴射均勻度測(cè)量裝置所使用過的光刻膠PR要被廢棄掉，因此會(huì)花費(fèi)很多費(fèi)用。再加上光刻膠PR具有一定粘度，因此如果噴出的光刻膠PR殘留在流體壓力測(cè)量單元320的檢測(cè)面320f上，則所述流體壓力測(cè)量單元320將難以可靠地測(cè)量出施加在檢測(cè)面320f上的噴射流體F1的噴射壓力。因此，本發(fā)明所提供的噴射均勻度測(cè)量裝置所用的噴射流體F1不僅可以使用液體，還可以使用氣體，而且最好使用水或空氣。這是由于沿狹縫噴嘴110的橫向以區(qū)間為單位測(cè)量噴射流體F1的噴射壓力時(shí)，不是測(cè)量各區(qū)間的絕對(duì)值和噴出狀態(tài)，而是相對(duì)測(cè)量各區(qū)間的分布度，因此可以不必使用實(shí)際所使用的光刻膠PR或與其具有相同物理特性的等同物質(zhì)。
下面，首先說明使用水作為噴射流體F1的情況，然后再說明使用空氣作為噴射流體F1的情況。
當(dāng)使用水作為所述噴射流體F1時(shí)，所述狹縫噴嘴110的噴出口112與所述流體壓力測(cè)量單元320的檢測(cè)面320f之間的間距最好小于預(yù)定間距。當(dāng)所述間距較大時(shí)，由于從狹縫噴嘴110的噴出口112噴出的噴射流體F1因表面張力而聚成液滴形態(tài)，因此有時(shí)會(huì)發(fā)生噴出口112噴出的噴射流體F1不能施加到位于所述噴出口112正下方的流體壓力測(cè)量單元320的情況。因此，所述狹縫噴嘴110的噴出口112與所述流體壓力測(cè)量單元320的檢測(cè)面320f之間的間距最好小于300微米。
另外，施加到流體壓力測(cè)量單元320的噴射流體F1在測(cè)量噴射壓力之后流到流體壓力測(cè)量單元320的下方，這些噴射流體F1有必要收集到設(shè)在流體壓力測(cè)量單元320下方的噴射流體收集容器(未圖示)中。
如上所述，噴射到所述流體壓力測(cè)量單元320上部的噴射流體F1在施加在檢測(cè)面320f上之后最好不殘留在所述檢測(cè)面320f上。為此，所述流體壓力測(cè)量單元320的檢測(cè)面320f的前后方向?qū)挾茸詈么笥谒鰢姵隹?12間距，并且最好在檢測(cè)面320f與前方表面之間或者檢測(cè)面320f與后方表面之間形成傾斜面320i(應(yīng)注意所述前后方向在圖4中為左右方向)。即，最好根據(jù)如上所述的傾斜面320i使噴到所述檢測(cè)面320f的水等噴射流體F1沿著傾斜面320i流到下方而不殘留在所述檢測(cè)面320f上。尤其，雖然圖4中由所述檢測(cè)面320f和傾斜面320i形成的棱角呈尖角，但形成為圓角效果更好。此時(shí)，流體壓力測(cè)量單元320最好只能在所述檢測(cè)面320f測(cè)量噴射壓力，而不能在傾斜面320i測(cè)量噴射壓力。
此時(shí)，為使所述噴射流體F1從所述檢測(cè)面320f經(jīng)傾斜面320i流到下方，最好對(duì)所述流體壓力測(cè)量單元320進(jìn)行表面處理，使所述流體壓力測(cè)量單元320具有不在表面附著噴射流體F1的疏水性，即所述流體壓力測(cè)量單元320表面不會(huì)被噴射流體弄濕。為此，最好對(duì)所述流體壓力測(cè)量單元320表面進(jìn)行疏水性涂敷或者增加其表面粗糙度。
另外，如圖3所示，所述流體壓力測(cè)量單元320對(duì)應(yīng)于所述狹縫噴嘴110兩端部，從相隔一定距離Lm的位置開始進(jìn)行布置。這是由于當(dāng)狹縫噴嘴110在基板上涂敷光刻膠PR時(shí)，在狹縫噴嘴110的橫向邊緣部分涂敷的光刻膠PR的厚度均勻度并不重要。因此，所述距離Lm相當(dāng)于涂敷的光刻膠PR厚度均勻度不重要的部分的寬度。但是，根據(jù)情況需要測(cè)量該區(qū)域的光刻膠PR分布量時(shí)，也可以在該區(qū)域布置流體壓力測(cè)量單元320。
所述本發(fā)明所提供的噴射均勻度測(cè)量裝置是測(cè)量在玻璃基板上按照一定厚度涂敷光刻膠PR等物質(zhì)的狹縫涂敷機(jī)所噴射的光刻膠PR的橫向噴射均勻度的裝置。為此，在實(shí)際噴射光刻膠PR的狹縫噴嘴110下方設(shè)置本發(fā)明所提供的噴射均勻度測(cè)量裝置，并在其上方噴射代替光刻膠PR作為噴射流體F1的水，由此間接測(cè)量沿狹縫噴嘴110橫向的光刻膠PR分布度。
為了利用具有上述構(gòu)成的噴射均勻度測(cè)量裝置測(cè)量沿狹縫噴嘴110橫向的噴射流體F1分布，如圖3及圖4所示，在狹縫噴嘴110下方設(shè)置噴射均勻度測(cè)量裝置。然后，通過背景技術(shù)中提到的狹縫涂敷機(jī)(參照?qǐng)D1)的第二光刻膠供應(yīng)管117向光刻膠供應(yīng)部115供應(yīng)作為噴射流體F1的水(而不是光刻膠PR)。接著，起動(dòng)光刻膠供應(yīng)部115的泵，通過第一光刻膠供應(yīng)管116向狹縫噴嘴110供應(yīng)水，從而使水通過狹縫噴嘴110的噴出口112噴到所述流體壓力測(cè)量單元320的檢測(cè)面320f。通常，在實(shí)際涂敷工藝中由狹縫噴嘴110噴出的光刻膠PR的噴射量約在0.5至15.0cc/sec范圍內(nèi)，這取決于基板大小和狹縫噴嘴110的移動(dòng)速度。據(jù)此，噴射到所述流體壓力測(cè)量單元320的檢測(cè)面320f的水的噴射量被設(shè)定為1.0至12.0cc/sec左右。
由于具有預(yù)定寬度檢測(cè)面320f的所述流體壓力測(cè)量單元320在所述狹縫噴嘴110的噴出口112下方沿狹縫噴嘴110橫向排列，因此所述各流體壓力測(cè)量單元320的檢測(cè)面320f上只會(huì)施加其寬度范圍內(nèi)的位于其正上方的噴出口112所噴出的噴射流體F1。由此，所述各流體壓力測(cè)量單元320測(cè)量其寬度范圍內(nèi)的位于其正上方的噴出口112所噴出的噴射流體F1的噴射壓力。
即，噴出口112噴出的噴射流體F1的噴射壓力按照一定寬度被均勻分割而進(jìn)行測(cè)量，其信號(hào)傳送到控制單元360?？刂茊卧?60分別計(jì)算各流體壓力測(cè)量單元320所測(cè)量的噴射流體F1的噴射壓力而測(cè)量沿狹縫噴嘴110橫向的噴射壓力變化。所述沿狹縫噴嘴110橫向的噴射壓力變化表現(xiàn)為噴射流體F1的均勻度。
這種噴射流體F1的均勻度測(cè)量工作最好反復(fù)進(jìn)行約10次左右，以確?？煽啃?。完成所述測(cè)量之后，基于所述均勻度調(diào)整狹縫噴嘴110的噴出口112間距。這種噴射流體均勻度測(cè)量工作及噴出口間距調(diào)整工作要反復(fù)進(jìn)行，直到獲得所期望的噴射流體均勻度。
雖然前述實(shí)施例中多個(gè)流體壓力測(cè)量單元320按照一定間距布置在狹縫噴嘴110的噴出口112下方而同時(shí)測(cè)量噴射流體F1的噴射壓力，但是也可以采用一個(gè)流體壓力測(cè)量單元沿狹縫噴嘴110橫向移動(dòng)的方式。
即，圖5所示的噴射均勻度測(cè)量裝置包含與狹縫噴嘴110下端即噴出口112保持一定間距而位于其下方的流體壓力測(cè)量單元330，該流體壓力測(cè)量單元330可以沿所述狹縫噴嘴110橫向移動(dòng)；移動(dòng)所述流體壓力測(cè)量單元330的移動(dòng)單元(未圖示)；控制單元360，該控制單元360與所述流體壓力測(cè)量單元330相連接，并從所述流體壓力測(cè)量單元330接收信號(hào)而計(jì)量施加在流體壓力測(cè)量單元330上的噴射壓力，由此算出噴出的噴射流體F1的均勻度，并將其顯示出來，同時(shí)還控制所述移動(dòng)單元。
所述流體壓力測(cè)量單元330除了可以移動(dòng)之外與前述實(shí)施例的流體壓力測(cè)量單元320具有相同結(jié)構(gòu)。所述移動(dòng)單元用于使所述流體壓力測(cè)量單元330沿狹縫噴嘴110的橫向移動(dòng)，可以采用液壓缸或氣壓缸、電機(jī)以及齒條-齒輪機(jī)構(gòu)等方式構(gòu)成。因?yàn)檫@些裝置均為已公知的現(xiàn)有技術(shù)，所以省略對(duì)其進(jìn)行說明。
如上所述，如圖5所示的噴射均勻度測(cè)量裝置在所述狹縫噴嘴110噴出噴射流體F1期間沿狹縫噴嘴110的橫向按照一定速度移動(dòng)所述流體壓力測(cè)量單元330，同時(shí)測(cè)量噴射壓力變化而求出噴射壓力隨時(shí)間的變化。此時(shí)，由于時(shí)間乘以所述流體壓力測(cè)量單元330的速度即為沿狹縫噴嘴110的橫向移動(dòng)的距離，因此求出噴射流體F1在狹縫噴嘴110橫向上的噴射壓力，而所述噴射壓力變化表現(xiàn)為噴射流體F1均勻度。
此時(shí)，所述移動(dòng)單元應(yīng)能在狹縫噴嘴110的整個(gè)寬度區(qū)域(或者，至少在除了狹縫噴嘴110兩端的一定區(qū)域(Lm)以外的區(qū)域)按照一定速度直線移動(dòng)流體壓力測(cè)量單元330。為此，考慮到流體壓力測(cè)量單元330在初期及最后移動(dòng)時(shí)的加減速情況，所述移動(dòng)單元最好使所述流體壓力測(cè)量單元330從狹縫噴嘴110一端的外部開始移動(dòng)，并停在狹縫噴嘴110另一端的外部。此時(shí)，最好在流體壓力測(cè)量單元330經(jīng)過狹縫噴嘴110兩端部的各時(shí)刻在流體壓力變化信號(hào)上附加觸發(fā)(trigger)信號(hào)而表示狹縫噴嘴110兩端部位置。
另外，雖然前述實(shí)施例中使用水作為噴射流體F1，但氣體也可以作為噴射流體F1使用。尤其，在各種氣體中最好使用空氣、氮?dú)狻鍤獾确欠磻?yīng)氣體作為所述噴射流體F1。此時(shí)，作為噴射流體F1的非反應(yīng)氣體具有不殘留在流體壓力測(cè)量單元上，并且在測(cè)量施加在流體壓力測(cè)量單元上的噴射流體F1的噴射壓力之后無需專門收集流到下方的噴射流體F1的優(yōu)點(diǎn)。
只是，使用空氣等非反應(yīng)氣體作為噴射流體F1時(shí)，難以直接使用如圖1所示的狹縫涂敷機(jī)的第一及第二光刻膠供應(yīng)管(116、117)及光刻膠供應(yīng)部115。例如，驅(qū)動(dòng)設(shè)在光刻膠供應(yīng)部115中的泵向狹縫噴嘴110供應(yīng)非反應(yīng)氣體是存在限制的。因此，還需要設(shè)置與所述狹縫噴嘴110相連接而向狹縫噴嘴110供應(yīng)非反應(yīng)氣體的氣體供應(yīng)單元(未圖示)。
使用非反應(yīng)氣體作為噴射流體F1時(shí)，與使用水等液體時(shí)相比除了要另外設(shè)置向狹縫噴嘴110供應(yīng)非反應(yīng)氣體的氣體供應(yīng)單元之外，其構(gòu)成及工作情況與本發(fā)明所提供的噴射均勻度測(cè)量裝置相同，因此省略對(duì)其進(jìn)行說明。
以上，雖然參照附圖及實(shí)施例對(duì)本發(fā)明做了說明，但本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該能理解在不脫離權(quán)利要求所記載的本發(fā)明技術(shù)思想的范圍內(nèi)可以對(duì)本發(fā)明進(jìn)行各種修改及變形。
如上所述的本發(fā)明所提供的狹縫噴嘴噴射均勻度測(cè)量裝置及方法，可以簡便而精密地測(cè)量由狹縫噴嘴噴射到基板上的光刻膠的橫向噴射均勻度。
根據(jù)這種測(cè)量，可以更加容易地調(diào)節(jié)狹縫噴嘴的噴出口間距，因此可以縮短為了利用狹縫涂敷機(jī)涂敷基板而預(yù)先進(jìn)行的準(zhǔn)備時(shí)間和整個(gè)工藝時(shí)間。
尤其，由于測(cè)量光刻膠沿橫向的噴射均勻度時(shí)不使用光刻膠，而是使用水或非反應(yīng)氣體，因此不會(huì)浪費(fèi)高價(jià)的光刻膠，由此可以節(jié)省廢棄光刻膠的處理費(fèi)用。
權(quán)利要求
1.一種噴射均勻度測(cè)量裝置，用于測(cè)量狹縫噴嘴的噴射均勻度，其特征在于包含沿所述狹縫噴嘴的橫向并排的多個(gè)流體壓力測(cè)量單元，該流體壓力測(cè)量單元具有與所述狹縫噴嘴的噴出口相對(duì)的流體壓力檢測(cè)面，并測(cè)量所述噴出口所噴出的流體的噴射壓力；控制單元，該控制單元計(jì)量施加在所述流體壓力測(cè)量單元上的噴射壓力而算出均勻度，并進(jìn)行顯示。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的噴射均勻度測(cè)量裝置，其特征在于所述狹縫噴嘴噴出水或氣體。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的噴射均勻度測(cè)量裝置，其特征在于對(duì)所述流體壓力測(cè)量單元進(jìn)行表面處理以使其對(duì)噴射流體具有疏水性。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的噴射均勻度測(cè)量裝置，其特征在于在所述流體壓力測(cè)量單元的檢測(cè)面與前方表面之間或者所述流體壓力測(cè)量單元的檢測(cè)面與后方表面之間形成傾斜面。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的噴射均勻度測(cè)量裝置，其特征在于所述檢測(cè)面和傾斜面之間的棱角形成為圓角。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的噴射均勻度測(cè)量裝置，其特征在于所述流體壓力測(cè)量單元包含壓電元件。
7.一種噴射均勻度測(cè)量裝置，用于測(cè)量狹縫噴嘴的噴射均勻度，其特征在于包含沿所述狹縫噴嘴的橫向并排的多個(gè)流體壓力測(cè)量單元，該流體壓力測(cè)量單元具有與所述狹縫噴嘴的噴出口相對(duì)的流體壓力檢測(cè)面，并測(cè)量所述噴出口所噴出的流體的噴射壓力；控制單元，該控制單元計(jì)量施加在所述流體壓力測(cè)量單元上的噴射壓力而算出均勻度，并進(jìn)行顯示；移動(dòng)單元，以用于沿所述狹縫噴嘴的橫向移動(dòng)所述流體壓力測(cè)量單元。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的噴射均勻度測(cè)量裝置，其特征在于所述狹縫噴嘴噴出水或氣體。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的噴射均勻度測(cè)量裝置，其特征在于對(duì)所述流體壓力測(cè)量單元進(jìn)行表面處理以使其對(duì)噴射流體具有疏水性。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的噴射均勻度測(cè)量裝置，其特征在于在所述流體壓力測(cè)量單元的檢測(cè)面與前方表面之間或者所述流體壓力測(cè)量單元的檢測(cè)面與后方表面之間形成傾斜面。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的噴射均勻度測(cè)量裝置，其特征在于所述檢測(cè)面和傾斜面之間的棱角形成為圓角。
12.根據(jù)權(quán)利要求7所述的噴射均勻度測(cè)量裝置，其特征在于所述流體壓力測(cè)量單元包含壓電元件。
13.一種噴射均勻度測(cè)量方法，用于測(cè)量狹縫噴嘴的噴射均勻度，其特征在于包含步驟通過所述狹縫噴嘴的噴出口噴出流體；測(cè)量沿所述狹縫噴嘴的橫向噴出的流體的噴射壓力；根據(jù)測(cè)量的所述噴射壓力算出均勻度，并進(jìn)行顯示。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的噴射均勻度測(cè)量方法，其特征在于所述測(cè)量流體噴射壓力的步驟包含沿所述狹縫噴嘴的橫向并排多個(gè)流體壓力測(cè)量單元而同時(shí)進(jìn)行測(cè)量的步驟。
15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的噴射均勻度測(cè)量方法，其特征在于所述測(cè)量流體噴射壓力的步驟包含沿所述狹縫噴嘴的橫向移動(dòng)一個(gè)流體壓力測(cè)量單元而進(jìn)行測(cè)量的步驟。
全文摘要
本發(fā)明涉及測(cè)量基板涂敷裝置(Substrate Coating Apparatus)的狹縫噴嘴(Slit Nozzle)所噴出的光刻膠的橫向噴射均勻度的裝置及方法。依據(jù)本發(fā)明所提供的狹縫噴嘴的橫向噴射均勻度測(cè)量裝置包含具有與所述狹縫噴嘴的噴出口相對(duì)的檢測(cè)面的多個(gè)流體壓力測(cè)量單元，所述流體壓力測(cè)量單元沿所述狹縫噴嘴的橫向并排。
文檔編號(hào)G02F1/1333GK101078882SQ20071010744
公開日2007年11月28日 申請(qǐng)日期2007年5月11日 優(yōu)先權(quán)日2006年5月23日
發(fā)明者趙康一 申請(qǐng)人:K.C.科技股份有限公司