技術(shù)編號(hào)：2729785
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及測(cè)量基板涂敷裝置(Substrate Coating Apparatus)的狹縫噴嘴(Slit Nozzle)所噴出的光刻膠的橫向噴射均勻度的裝置及方法，尤其涉及測(cè)量當(dāng)基板涂敷裝置的狹縫噴嘴噴出光刻膠時(shí)沿狹縫噴嘴的橫向噴出的光刻膠的橫向噴射均勻度的裝置及方法。背景技術(shù) 通常，在制造液晶顯示器件時(shí)，工藝誤差主要發(fā)生在使用光刻膠(Photoresist)的光刻工藝中。如果所述光刻膠沒有被均勻涂敷，則在后續(xù)工藝中會(huì)發(fā)生分辨率、電路線寬的差異，而且發(fā)生反...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。