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利用光學(xué)鄰近效應(yīng)修正多邊形光罩特征圖案的方法

文檔序號(hào):2735349閱讀:215來源:國(guó)知局
專利名稱:利用光學(xué)鄰近效應(yīng)修正多邊形光罩特征圖案的方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明有關(guān)於一種光學(xué)鄰近修正光罩圖案的方法,特別地是有關(guān)一種具有內(nèi)角(corner)的多邊形光罩特征圖案的光學(xué)鄰近效應(yīng)修正方法。
(2)背景技術(shù)微縮集成電路(IC,integrated circuits)最小的特征尺寸(feature size)已經(jīng)進(jìn)行了許多年。隨著特征相當(dāng)於尺寸的縮小,不同的工藝限制使得集成電路的制作更加困難。而其中,一項(xiàng)工藝限制在光學(xué)微影步驟(photolithography)。
光學(xué)微影的重要成份為光罩,此光罩包含一圖案是根據(jù)集成電路設(shè)計(jì)的圖案特征。這些光罩一般包含了一透明的玻璃板且覆蓋一圖案轉(zhuǎn)移明亮區(qū)塊材料例如鉻(Cr,chromium)。
對(duì)於高階晶片而言,圖案設(shè)計(jì)的復(fù)雜性及光罩的文件大小都會(huì)極速的增加。例如,對(duì)於大小為50十億比特(Giga Bytes)的文件來說,光罩寫入的時(shí)間需要花上兩天的時(shí)問。因此,要如何減少文件的大小是重要的議題。在傳統(tǒng)的光學(xué)鄰近效應(yīng)修正(OPC,optical proximity correction)理論是利用外加的飾線(extraserif)修正內(nèi)角圖案。對(duì)於單一內(nèi)角(inner corner)而言,其數(shù)據(jù)點(diǎn)點(diǎn)數(shù)的數(shù)量可能由一個(gè)增加至五個(gè)??偫ǘ裕猛饧拥娘椌€會(huì)增加輸出的文件大小及快速地增加光罩寫入時(shí)間,這是因?yàn)轱椌€通常需要次分辨率的點(diǎn)所造成的。因此,寫入的數(shù)據(jù)點(diǎn)數(shù)大小會(huì)增加且寫入的速度會(huì)變慢。
在圖1A至圖3C是表示在傳統(tǒng)利用外加飾線(extra serif)修正L形(L-shaped)、T形(T-shaped)及交錯(cuò)形(crossed-shaped)的光罩特征圖案的光學(xué)鄰近效應(yīng)修正方法,并且利用外加的數(shù)據(jù)點(diǎn)(extra data point)及光罩寫入單位(maskwriting unit)修正這些光學(xué)鄰近效應(yīng)修正特征圖案。在圖1A至圖1C是表示對(duì)應(yīng)於集成電路圖案的光罩圖形。圖1A是表示一未修正的L形光罩特征圖案10。為了避免L形光罩特征圖案有內(nèi)角產(chǎn)生,利用飾線修正未修正的L形光罩特征圖案10以形成一修正的L形光罩特征圖案10a,且此修正的L形光罩圖案具有一單一內(nèi)角(single inner corner)14,如圖1B中所示。因此,外加的數(shù)據(jù)點(diǎn)點(diǎn)數(shù)及文件容量的大小都會(huì)在修正后增加。在未修正的L形光罩特征圖案10中只有一個(gè)數(shù)據(jù)點(diǎn)數(shù)12A,然而,經(jīng)修正后所形成的修正的特征圖案10a共有四個(gè)外加數(shù)據(jù)點(diǎn)數(shù)12B、12C、12D及12E。因此,在電腦數(shù)據(jù)處理的容量及文件容量大小都會(huì)隨著數(shù)據(jù)點(diǎn)數(shù)的增加而增加。參考圖1C,修正的L形光罩特征圖案分割成五個(gè)矩形特征圖案16a至16e,使得在光罩分割步驟后產(chǎn)生兩個(gè)外加的光罩寫入單位。
接著,圖2A中是表示具有兩個(gè)數(shù)據(jù)點(diǎn)22A與22B未修正的T形光罩特征圖案20。其修正步驟與圖1A至圖1C相同,經(jīng)飾線修正后所形成的修正的T形(T-shaped)光罩特征圖案20a具有兩個(gè)內(nèi)角24a與24b,如圖2B中所示。在圖2C中是表示在經(jīng)過修正后產(chǎn)生八個(gè)外加數(shù)據(jù)點(diǎn)數(shù)22C至22J,并且光罩在經(jīng)過分割后,產(chǎn)生七個(gè)外加的光罩單位26a至26h。接著,參考圖3A,此圖是表示具有四個(gè)數(shù)據(jù)點(diǎn)32A至32D的未修正的交錯(cuò)形(crossed-shaped)光罩特征圖案30。如以上所描述,在經(jīng)過飾線法的光學(xué)鄰近效應(yīng)修正后,經(jīng)修正的交錯(cuò)形光罩特征圖案30a具有四個(gè)內(nèi)角34a至34d且產(chǎn)生十六個(gè)外加數(shù)據(jù)點(diǎn)數(shù)32E至32T。因此,輸出文件容量大小及光罩寫入時(shí)間的增加是因?yàn)轱椌€需要增加新的數(shù)據(jù)點(diǎn)的原因。
接著,圖4是表示未修正的交錯(cuò)形光罩特征圖案30的結(jié)構(gòu)圖像(contourimage)。由實(shí)線所圍成的范圍為原來的未修正的交錯(cuò)形光罩特征圖案30,在經(jīng)過曝光步驟后,在未修正的交錯(cuò)形光罩特征圖案30上有一經(jīng)過模擬的后由虛線所構(gòu)成的模擬區(qū)域圖像(simulation area image)40,且其圖像40的范圍小於未修正的交錯(cuò)形光罩特征圖案30。但是模擬區(qū)域圖像40具有四個(gè)角42a、42b、42c及42d,且更進(jìn)一步地這些內(nèi)角會(huì)造成圖案檢查時(shí)的問題。此外,為了要解決內(nèi)角所產(chǎn)生的種種問題,傳統(tǒng)的技術(shù)是利用飾線以修正傳統(tǒng)的交錯(cuò)形光罩特征圖案30。根據(jù)圖3B中所示,在經(jīng)過曝光步驟之后,模擬區(qū)域圖像40a的大小是趨近於利用飾線修正之后的交錯(cuò)形光罩特征圖案30a,如圖5中所表示。在圖5中,即使模擬區(qū)域圖像40a的范圍大小接近已修正的交錯(cuò)形光罩特征圖案30a,但是模擬區(qū)域圖像40a有內(nèi)角產(chǎn)生且仍然使得光罩載入時(shí)間及光罩寫入時(shí)間增加。
鑒於上述的發(fā)明背景中,傳統(tǒng)的光學(xué)鄰近效應(yīng)修正所產(chǎn)生的諸多缺點(diǎn),本發(fā)明提供一種不需要利用外加飾線(serif)的光學(xué)鄰近效應(yīng)修正(OPC,opticalproximity correction)的方式以修正具有內(nèi)角的多邊形光罩特征圖案,并可以得到最小的光罩文件容量大小,通過精確地修正具有內(nèi)角的光罩特征圖案可以改善規(guī)則性的光罩寫入單位為具有數(shù)個(gè)的矩形寫入單位(或不規(guī)則四邊形)及縮短光罩圖案檢查時(shí)間。
(3)發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的主要目的,是利用一光學(xué)鄰近效應(yīng)修正且不需使用外加的飾線的方法以得到最高分辨率的光罩圖案尺寸。
本發(fā)明的另一目的是提供一有效的光學(xué)鄰近效應(yīng)修正方法以減少光學(xué)鄰近效應(yīng)修正的輸出文件大小。
本發(fā)明的再一目的是提供一種光學(xué)鄰近效應(yīng)修正方法對(duì)多邊形光罩特征圖案形成數(shù)個(gè)矩形或不規(guī)則四邊形光罩寫入單位,借以改善光罩寫入時(shí)間。
本發(fā)明的又一目的是提供一種光學(xué)鄰近效應(yīng)修正方法,改善光罩的一致性及減少圖案檢查時(shí)間。
根據(jù)本發(fā)明一方面的一種利用光學(xué)鄰近效應(yīng)修正具有第一內(nèi)角的一第一特征圖案的方法,其特點(diǎn)是,包括分割該第一特征圖案以形成至少兩個(gè)分開的特征圖案,使得該兩個(gè)分開的各個(gè)特征圖案中不具有該第一內(nèi)角。
根據(jù)本發(fā)明另一方面的一種光學(xué)鄰近效應(yīng)修正的方法,其特點(diǎn)是,包括提供一第一特征圖案,其中,該第特征圖案具有一第內(nèi)角;分割該第一特征圖案以形成一第二特征圖案與第三特征圖案,使得該第二特征圖案與該第三特征圖案中不具有該第一內(nèi)角。
根據(jù)本發(fā)明又一方面的一種光學(xué)鄰近效應(yīng)修正的方法,其特點(diǎn)是,包括提供一第一特征圖案,其中,該第特征圖案具有一第內(nèi)角;分割該第一特征圖案以形成一第二特征圖案與第三特征圖案,使得該第二特征圖案與該第三特征圖案中不具有該第一內(nèi)角。
根據(jù)本發(fā)明再一方面的一種光學(xué)鄰近修正方法,其特點(diǎn)是,包括提供一第一特征圖案,其中,該第一特征圖案的內(nèi)角數(shù)是由一第一內(nèi)角及相鄰於該第一內(nèi)角的一第二內(nèi)角、一第三內(nèi)角與一第四內(nèi)角組合確定;分割該第一特征圖案,其中,分開該第一特征圖案的特征圖案數(shù)是由一第二特征圖案、一第三特征圖案、一第四特征圖案與一第五特征圖案組合確定,其中,該第二特征圖案、該第三特征圖案、該第四特征圖案與該第五特征圖案中不具有該內(nèi)角數(shù)是由該第一內(nèi)角、該第二內(nèi)角、該第三內(nèi)角及該第四內(nèi)角組合確定。
本發(fā)明提供一種光罩圖案區(qū)塊的方式,且不需使用外加的飾線以修正光罩特征圖案。對(duì)於具有至少一個(gè)內(nèi)角(Inner corner)的多邊形光罩特征圖案進(jìn)行修正使得不會(huì)有任何外加的數(shù)據(jù)點(diǎn)數(shù)及光罩寫入單位增加。因此,可以取代傳統(tǒng)利用飾線作為光學(xué)鄰近效應(yīng)修正的方式,獲得有效的光學(xué)鄰近效應(yīng)修正。此外,對(duì)於規(guī)則的光罩寫入來說,當(dāng)未修正的多邊形光罩特征圖案分割成數(shù)個(gè)矩形或是不規(guī)則四邊形光罩寫入單位時(shí),可以改善光罩寫入的時(shí)間。再則,當(dāng)使用簡(jiǎn)單的幾何圖形時(shí),分割之后的各個(gè)矩形光罩寫入單位或是不規(guī)則四邊形光罩寫入單位不具有內(nèi)角的存在,可以簡(jiǎn)化圖案檢查時(shí)間并且可以較容易進(jìn)行光罩校正的步驟。
為進(jìn)一步說明本發(fā)明的所述目的、結(jié)構(gòu)特點(diǎn)和效果,以下將結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)的描述。
(4)


圖1A到圖1C為使用傳統(tǒng)的技術(shù),對(duì)於一L形光罩特征圖案利用傳統(tǒng)的光學(xué)鄰近效應(yīng)修正時(shí)的各步驟結(jié)構(gòu)示意圖;圖2A到圖2C為使用傳統(tǒng)的技術(shù),對(duì)於一T形光罩特征圖案利用傳統(tǒng)的光學(xué)鄰近效應(yīng)修正時(shí)的各步驟結(jié)構(gòu)示意圖;圖3A到圖3C為使用傳統(tǒng)的技術(shù),對(duì)於一交錯(cuò)式光罩特征圖案利用傳統(tǒng)的光學(xué)鄰近效應(yīng)修正時(shí)的各步驟結(jié)構(gòu)示意圖;圖4為使用傳統(tǒng)技術(shù)的一交錯(cuò)式光罩特征圖案的結(jié)構(gòu)圖案的俯視圖;圖5為使用傳統(tǒng)的技術(shù)經(jīng)過飾線修正之后交錯(cuò)形光罩特征圖案的結(jié)構(gòu)圖像的俯視圖;圖6A至圖6D是根據(jù)本發(fā)明所揭示的技術(shù)分割多邊形光罩特征圖案以形成多數(shù)個(gè)特征圖案的各步驟的俯視圖;圖7A至圖7D是根據(jù)本發(fā)明所揭示的技術(shù)分割一L形光罩特征圖案以形成兩個(gè)分割特征圖素的各步驟的俯視圖;圖8A至圖8B是根據(jù)本發(fā)明所揭示的技術(shù)分割一T形光罩特征圖案以形成兩個(gè)被分割特征圖案的各步驟的俯視圖;圖9A至圖9B是根據(jù)本發(fā)明所揭示的技術(shù)分割一交錯(cuò)形光罩特征圖案以形成三個(gè)被分割特征圖案的各步驟的俯視圖;圖10是根據(jù)本發(fā)明所揭示的技術(shù)的一交錯(cuò)形光罩特征圖案的結(jié)構(gòu)圖案的俯視圖;圖11A至圖11B是根據(jù)本發(fā)明所揭示的技術(shù)以不同的方法分割一L形光罩特征圖案以形成三個(gè)分割特征圖案的各步驟的俯視圖;圖12A至圖12B是根據(jù)本發(fā)明所揭示的技術(shù)以不同的方法分割一T形光罩特征圖案以形成三個(gè)分割特征圖案的各步驟的俯視圖;圖13A至圖13B是根據(jù)本發(fā)明所揭示的技術(shù)以不同的方法分割一交錯(cuò)形光罩特征圖案。
圖14是根據(jù)本發(fā)明的一交錯(cuò)形光罩特征圖案結(jié)構(gòu)圖像的俯視圖。
(5)具體實(shí)施方式
本發(fā)明的一些實(shí)施例將詳細(xì)描述如下。然而,除了詳細(xì)描述外,本發(fā)明還可以廣泛地在其他的實(shí)施例施行,且本發(fā)明的范圍不受限定,其以所附的權(quán)利要求書所限定的范圍為準(zhǔn)。
本發(fā)明的方法是利用不需外加的飾線作為圖案區(qū)塊(pattern section)的一種光學(xué)鄰近效應(yīng)修正光罩特征圖案的方法。對(duì)於具有至少一個(gè)內(nèi)角(corner)的光罩特征圖案可以得到有效的光學(xué)鄰近效應(yīng)修正且不會(huì)產(chǎn)生外加的數(shù)據(jù)點(diǎn)數(shù),且通過光學(xué)鄰近效應(yīng)修正之后所分割的各個(gè)特征圖案中不具有內(nèi)角的存在,可以減少圖案檢查的時(shí)間,進(jìn)一步地可以使得文件容量大幅地減少,在此,光罩特征圖案可以是多邊形光罩特征圖案。故利用圖案區(qū)塊的方式取代傳統(tǒng)飾線的光學(xué)鄰近效應(yīng)修正,以達(dá)到有效地光學(xué)鄰近效應(yīng)修正。此外,在光罩寫入的時(shí)間也因原始的特征圖案經(jīng)分割成為數(shù)個(gè)區(qū)塊的矩形或是不規(guī)則四邊形寫入單位而大幅的改善。同時(shí),當(dāng)使用簡(jiǎn)單的幾何圖形時(shí),光罩特征圖案的檢查時(shí)間及校正都比利用復(fù)雜的飾線修正方式來得簡(jiǎn)單且容易。
參考圖6A,是表示一具有三個(gè)數(shù)據(jù)點(diǎn)62A、62B及62C及至少具有三個(gè)內(nèi)角的多邊形特征圖案60。在本發(fā)明的方法中是提供一種分割光罩特征圖案且不需要使用飾線的光學(xué)鄰近效應(yīng)修正的方法,將多邊形光罩特征圖案60分割成數(shù)個(gè)不規(guī)則四邊形或是矩形的特征圖案。如圖6B所示,此圖是表示在經(jīng)過分割步驟之后,多邊形特征圖案60分割成數(shù)個(gè)矩形或是不規(guī)則四邊形的寫入單位60a至60e,此外在多邊形特征圖案60分割之后增加十一個(gè)數(shù)據(jù)點(diǎn)62D至62N,即使數(shù)據(jù)點(diǎn)數(shù)增加,在分割之后所形成的不規(guī)則四邊形或是矩形特征圖案比原來的多邊形的光罩經(jīng)飾線光學(xué)鄰近效應(yīng)修正後的特征圖案檢查時(shí)間及光罩載入(mask loading)時(shí)間要來的少。此外,在圖6C是為另一種具有至少三個(gè)內(nèi)角及三個(gè)數(shù)據(jù)點(diǎn)66A、66B及66C的多邊形特征圖案64,根據(jù)以上所描述的方法,將具有三個(gè)內(nèi)角的多邊形特征圖案64分割成三個(gè)矩形或是不規(guī)則形的特征圖案64a、64b及64c,并且在分割之后增加四個(gè)數(shù)據(jù)點(diǎn)數(shù)66D、66E、66F及66G。同樣地,由於特征圖案64經(jīng)修正之后,將原來的特征圖案圖形64簡(jiǎn)化成較簡(jiǎn)單的特征圖案形狀(64a、64b及64c)(與多邊形特征圖案64經(jīng)飾線光學(xué)鄰近效應(yīng)修正比較),且在各個(gè)分割的特征圖案64a、64b及64c中不具有原特征圖案64的三個(gè)內(nèi)角,如圖6D所表示,使得圖案檢查的時(shí)間可以大幅減少。在此,在本發(fā)明實(shí)施例中所提出的多邊形的夾角包含大於0度,并小於180度。
此外,在本發(fā)明的最佳實(shí)施例中提出計(jì)算兩個(gè)分開區(qū)塊之間的分割最佳距離的方法。在此,以具有一內(nèi)角的L形特征圖案作為計(jì)算分割的各個(gè)特征圖案之間的間隔寬度說明。在經(jīng)過光學(xué)鄰近效應(yīng)修正之后,將L形特征圖案分割成至少兩個(gè)或三個(gè)特征圖案,在兩個(gè)鄰近的被分割的各個(gè)特征圖案之間的距離修正為間隔寬度D。光源照射波長(zhǎng)則是以拉丁文λ修正,則間隔寬度可以以公式D=λ/n計(jì)算,其中n為兩個(gè)鄰近被分割的各個(gè)特征圖案之間的間距,其數(shù)值介於1.2至8之間。由此方法可以很快地計(jì)算出分割之后的兩個(gè)各個(gè)特征圖案之間的最佳距離,并且可以得到最適的光學(xué)鄰近效應(yīng)修正的光罩特征圖案。
在本發(fā)明的第一個(gè)最佳實(shí)施例中,是提供一種將多邊形特征圖案分割成數(shù)個(gè)不規(guī)則四邊形或是矩形的特征圖案,使得原本利用傳統(tǒng)飾線的方法修正特征圖案所產(chǎn)生的內(nèi)角效應(yīng)問題不存在外,也可以減少數(shù)據(jù)點(diǎn)數(shù)的產(chǎn)生使得文件輸出的容量大小可以減少。在圖7A至圖9B中是表示分割多邊形特征圖案時(shí)各步驟的俯視圖。圖7A至圖7D是表示一L形光罩特征圖案、圖8A至圖8B是表示一T形光罩特征圖案及圖9A至圖9B是表示一交錯(cuò)形(cross-shaped)光罩特征圖案。在本發(fā)明中,是提供一作為光罩的透明平板,其材質(zhì)通常為石英。接著,一不透明圖案形成在光罩上,此不透明圖案可以為鉻(Cr)、相位移光罩(PSM,phase shift mask)或是半色調(diào)(half tone),不透明的圖案在微影步驟時(shí),是投影在晶片表面上的旋涂的光阻層上。在本發(fā)明的實(shí)施例中,不透明圖案的圖形樣式包含有L形、T形及交錯(cuò)形等特征圖案,及其內(nèi)角角度大於0并小於180度的多邊形光罩特征圖案。
在圖1A中為具有一數(shù)據(jù)點(diǎn)數(shù)12A且未修正的L形光罩特征圖案10,為了要減少光罩載入時(shí)間及特征圖案檢查時(shí)間,在本發(fā)明中提出一不需使用外加的飾線的光學(xué)鄰近效應(yīng)修正方法,分割未修正的光罩特征圖案10形成兩個(gè)矩形的特征圖案70a及70b,如圖7A所示。
在經(jīng)過分割步驟之后,外加的數(shù)據(jù)點(diǎn)數(shù)是增加兩點(diǎn)72B及72C,且沒有任何的外加光罩寫人單位增加,如圖7B所表示。此外,如同圖7C與圖7D中所示,不規(guī)則L彤的光罩特征圖案10經(jīng)分割步驟之后形成兩個(gè)不規(guī)則四邊形特征圖案,此種分割的方式的優(yōu)點(diǎn)是所產(chǎn)生的外加數(shù)據(jù)點(diǎn)較傳統(tǒng)利用飾線作為修正的方法來得少,使得文件的容量大小大幅減少,并且在分開之后的各個(gè)特征圖案之間不會(huì)有內(nèi)角產(chǎn)生,同時(shí)也可以減少光罩載入與光罩寫入的時(shí)間。
接著,參考圖8A,此圖是根據(jù)傳統(tǒng)的圖2A中T形光罩特征圖案20分割成為兩個(gè)矩形光罩特征圖案80a及80b。在此僅以矩形光罩特征圖案作為實(shí)施例說明,其它樣式如圖7C及圖7D相同,在此及以下所描述的實(shí)施例中不再多加贅述。在經(jīng)分割步驟之后,產(chǎn)生兩個(gè)矩形光罩特征圖案,但是在各個(gè)矩形光罩特征圖案中并沒有任何數(shù)據(jù)點(diǎn)數(shù)增加,在圖2A中只有兩個(gè)數(shù)據(jù)點(diǎn)數(shù)22A與22B,在圖8A中也只有兩個(gè)數(shù)據(jù)點(diǎn)數(shù)82A與82B。此外,在第圖8B中也表示沒有任何的外光罩寫入單位增加。
同樣地根據(jù)傳統(tǒng)的圖3A的未修正交錯(cuò)形光罩特征圖案30,利用本發(fā)明的方法將該特征圖案30分割成三個(gè)矩形圖案90a、90b及90c,如圖9A所示。在原來未修正的交錯(cuò)形光罩特征圖案30中具有四個(gè)內(nèi)角及四個(gè)數(shù)據(jù)點(diǎn)數(shù)32A至32D。在經(jīng)過分割步驟之后,分開的三個(gè)的各個(gè)矩形圖案中并沒有任何的外加數(shù)據(jù)點(diǎn)數(shù)增加,仍然是四個(gè)數(shù)據(jù)點(diǎn)數(shù)92A至92D,同樣地,在圖9B中也表示沒有任何外加的光罩寫入單位增加。
接著,圖10是表示在一交錯(cuò)形特征圖案30上的一結(jié)構(gòu)圖像100。在圖中由實(shí)線所圍成的范圍為未修正的交錯(cuò)形光罩特征圖案30,在經(jīng)過曝光步驟之后,在未修正的交錯(cuò)形光罩特征圖案30上形成一通過模擬之后所形成的模擬區(qū)域圖像(simulation area lmage)100(圖中虛線所構(gòu)成的部份),此模擬區(qū)域圖像100的范圍小於原始的交錯(cuò)形光罩特征圖案30。此外,結(jié)構(gòu)圖像100是表示一相似的內(nèi)角修正效應(yīng)。
棍據(jù)以上所描述,在本發(fā)明的第一最佳實(shí)施例中是提出一種將多邊形光罩特征圖案分割成數(shù)個(gè)矩形或不規(guī)則四邊形的光罩特征圖案,使得原始光罩特征圖案中的內(nèi)角效應(yīng)降低,并且在分割之后的各個(gè)特征圖案中沒有內(nèi)角的存在,此外,利用飾線修正光罩特征圖案時(shí),減少所產(chǎn)生的外加數(shù)據(jù)點(diǎn)的點(diǎn)數(shù),同時(shí)也大幅降低文件的容量。
在本發(fā)明的第二個(gè)最佳實(shí)施例是提出另一種分割多邊形光罩圖案的方式,同樣地也可以得到更有效的光學(xué)鄰近效應(yīng)修正。在圖11A至圖13B是表示不同的光罩圖案分割方式,同樣地,在此也以L形(圖11A至圖11B)、T形(圖12A至圖12B)及交錯(cuò)形光罩特征圖案(圖13A至圖13B)三種光罩圖案作為舉例說明。
同樣地對(duì)傳統(tǒng)的圖1A未修正的L形光罩特征圖案10進(jìn)行分割步驟,使得未修正的L形光罩特征圖案10分割成三個(gè)被分割特征圖案110a、110b及110c,如圖11A所示,且各個(gè)被分割的特征圖案中不具有內(nèi)角存在。并且在經(jīng)過分割之后產(chǎn)生六個(gè)數(shù)據(jù)點(diǎn)數(shù)112B至112G,此外,在圖11B中也表示并沒有任何外加的光罩寫入單位產(chǎn)生。此外,在經(jīng)過曝光之后在晶片上所形成的特征圖案近似於原始未修正的特征圖案。
相似於圖11A至圖11B的步驟,對(duì)於原始未修正的T形光罩特征圖案20進(jìn)行分割步驟,使得T形光罩特征圖案20分割成為三個(gè)矩形的被分割特征圖案120a、120b及120c,如圖12A中所示。同時(shí),如圖12B中所表示,在經(jīng)過分割步驟之后,并沒有任何外加的光罩寫入單位形成,且分割之后各個(gè)特征圖案中沒有內(nèi)角存在。
接下來,參考圖3A為一未修正的交錯(cuò)形光罩特征圖案30且具有四個(gè)數(shù)據(jù)點(diǎn)數(shù)32A至32D。在經(jīng)過分割步驟之后,原始的交錯(cuò)形光罩特征圖案30被分割成五個(gè)矩形區(qū)塊130a至130e,并且增加八個(gè)外加數(shù)據(jù)點(diǎn)數(shù)132E至132L,如圖13A中所示。此外,如圖13B中所示,沒有任何的外加光罩寫入單位增加,在分開的各個(gè)特征圖案中也沒有內(nèi)角存在。
參考圖14,此圖是表示一交錯(cuò)形光罩特征圖案的結(jié)構(gòu)圖像。在圖中以實(shí)線所構(gòu)成的交錯(cuò)形光罩特征圖案范圍為原始的未修正的交錯(cuò)形光罩特征圖案30,經(jīng)曝光步驟之后,在未修正的交錯(cuò)形光罩特征圖案30上形成一模擬區(qū)域圖像140(由虛線構(gòu)成的范圍),此模擬區(qū)域圖像的大小較近似原來的交錯(cuò)形光罩特征圖案30。因此,結(jié)構(gòu)圖像所形成的特征圖案是表示相似的內(nèi)角修正效應(yīng)。
即使在第二個(gè)最佳實(shí)施例中,外加的數(shù)據(jù)點(diǎn)數(shù)及文件容量大小比第一個(gè)最佳實(shí)施例要來得多,并且造成光罩寫入的時(shí)間、載入光罩時(shí)間及特征圖案檢查時(shí)間增加。然而,根據(jù)第二種分割光罩特征圖案的方法可以得到較有效的光學(xué)鄰近效應(yīng)修正,同樣地,在經(jīng)過分割之后的各個(gè)特征圖案中沒有內(nèi)角存在。
根據(jù)以上所描述的結(jié)論,本發(fā)明所提出改變分割具有內(nèi)角的多邊形光罩特征圖案以產(chǎn)生數(shù)個(gè)矩形或是不規(guī)則四邊形的分割特征圖案的方式,使得不會(huì)有外加的數(shù)據(jù)點(diǎn)及外加的光罩寫入單位,較傳統(tǒng)的飾線方法為少并且在曝光步驟之后,分割的圖案中沒有內(nèi)角的存在。此外,文件容量大小也因?yàn)閿?shù)據(jù)點(diǎn)數(shù)的減少而大幅地縮小,同時(shí),由於分割之后所形成的矩形或不規(guī)則四邊形的光罩特征圖案所需要的光罩寫入時(shí)間、載入光罩時(shí)間以及圖案檢查時(shí)間都可以獲得立即的減少。
當(dāng)然,本技術(shù)領(lǐng)域中的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)認(rèn)識(shí)到,以上的實(shí)施例僅是用來說明本發(fā)明,而并非用作為對(duì)本發(fā)明的限定,只要在本發(fā)明的實(shí)質(zhì)精神范圍內(nèi),對(duì)以上所述實(shí)施例的變化、變型都將落在本發(fā)明權(quán)利要求書的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種利用光學(xué)鄰近效應(yīng)修正具有第一內(nèi)角的一第一特征圖案的方法,其特征在于,包括分割該第一特征圖案以形成至少兩個(gè)分開的特征圖案,使得該兩個(gè)分開的各個(gè)特征圖案中不具有該第一內(nèi)角。
2.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述該兩個(gè)分開的各個(gè)特征圖案之間的一間隔寬度可以根據(jù)公式D=λ/n計(jì)算,其中,λ為一光源照射波長(zhǎng),n為該兩個(gè)分割的各個(gè)特征圖案之間的一間距。
3.如權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,所述兩個(gè)分開的各個(gè)特征圖案之間的該間距的數(shù)值介於1.2至8。
4.如權(quán)利要求1項(xiàng)的方法,其特征在于,還包括分割該第一特征圖案以形成至少三個(gè)分開的特征圖案,使得該三個(gè)分開的各個(gè)特征圖案中不具有該第一內(nèi)角。
5.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述第一特征圖案包含相鄰於該第一內(nèi)角的一第二內(nèi)角,使得該兩個(gè)分開的各個(gè)特征圖案中不具有該第一內(nèi)角與該第二內(nèi)角。
6.如權(quán)利要求5所述的方法,其特征在于,還包括分割該第一特征圖案以形成至少三個(gè)分開的特征圖案,使得該三個(gè)分開的各個(gè)特征圖案中不具有該第一內(nèi)角與該第二內(nèi)角。
7.如權(quán)利要求6所述的方法,其特征在于,所述第一特征圖案包含相鄰於該第二內(nèi)角的一第三內(nèi)角,使得該三個(gè)分開的各個(gè)特征圖案中不具有該第一內(nèi)角、該第二內(nèi)角及該第三內(nèi)角。
8.如權(quán)利要求7所述的方法,其特征在于,所述第一特征圖案包含相鄰於該第三內(nèi)角的一第四內(nèi)角,使得該三個(gè)分開的各個(gè)特征圖案中不具有該第一內(nèi)角、該第二內(nèi)角、該第三內(nèi)角及該第四內(nèi)角。
9.如權(quán)利要求8的方法,其特征在于,還包括分割該第一特征圖案以形成至少五個(gè)分開的特征圖案,使得該五個(gè)分開的各個(gè)特征圖案中不具有該第一內(nèi)角、該第二內(nèi)角、該第三內(nèi)角與該第四內(nèi)角。
10.一種光學(xué)鄰近效應(yīng)修正的方法,其特征在于,包括提供一第一特征圖案,其中,該第特征圖案具有一第內(nèi)角;分割該第一特征圖案以形成一第二特征圖案與第三特征圖案,使得該第二特征圖案與該第三特征圖案中不具有該第一內(nèi)角。
11.如權(quán)利要求10的方法,其特征在于,還包括分割該第一特征圖案以形成一第四特征圖案,使得該第二特征圖案、該第三特征圖案與該第四特征圖案中不具有該第一內(nèi)角。
12.如權(quán)利要求10所述的方法,其特征在于,所述第一特征圖案包含相鄰於該第一內(nèi)角的一第二內(nèi)角,使得該第二特征圖案與該第三特征圖案中不具有該第一內(nèi)角與該第二內(nèi)角。
13.如權(quán)利要求12的方法,其特征在于,還包括分割該第一特征圖案以形成一第五特征圖案,使得該第二特征圖案、該第三特征圖案與該第五特征圖案中不具有該第一內(nèi)角與該第二內(nèi)角。
14.如權(quán)利要求13所述的方法,其特征在于,所述第一特征圖案包含相鄰於該第一內(nèi)角的一第三內(nèi)角,使得該第二特征圖案、該第三特征圖案與該第五特征圖案中不具有該第一內(nèi)角、該第二內(nèi)角與該第三內(nèi)角。
15.如權(quán)利要求14的方法,其特征在于,所述第一特征圖案包含相鄰於該第三內(nèi)角的一第四內(nèi)角,使得該第二特征圖案、該第三特征圖案與該第五特征圖案中不具有該第一內(nèi)角、該第二內(nèi)角、該第三內(nèi)角與該第四內(nèi)角。
16.如權(quán)利要求15所述的方法,其特征在于,還包括分割該第一特征圖案以形成一第六特征圖案與一第七特征圖案,使得該第二特征圖案、該第三特征圖案、該第五特征圖案、該第六特征圖案與該第七特征圖案中不具有該第一內(nèi)角、該第二內(nèi)角、該第三內(nèi)角與該第四內(nèi)角。
17.一種光學(xué)鄰近修正方法,其特征在于,包括提供一第一特征圖案,其中,該第一特征圖案的內(nèi)角數(shù)是由一第一內(nèi)角及相鄰於該第一內(nèi)角的一第二內(nèi)角、一第三內(nèi)角與一第四內(nèi)角組合確定;分割該第一特征圖案,其中,分開該第一特征圖案的特征圖案數(shù)是由一第二特征圖案、一第三特征圖案、一第四特征圖案與一第五特征圖案組合確定,其中,該第二特征圖案、該第三特征圖案、該第四特征圖案與該第五特征圖案中不具有該內(nèi)角數(shù)是由該第一內(nèi)角、該第二內(nèi)角、該第三內(nèi)角及該第四內(nèi)角組合確定。
18.如權(quán)利要求17所述的方法,其特征在于,還包括分割該第一特征圖案以形成第六特征圖案與一第七特征圖案,使得該第二特征圖案、該第三特征圖案、該第五特征圖案、該第六特征圖案與該第七特征圖案中不具有該第一內(nèi)角、該第二內(nèi)角、該第三內(nèi)角與該第四內(nèi)角。
全文摘要
本發(fā)明是提供一種光罩圖案區(qū)塊的方式,且不需使用外加的飾線以修正具有內(nèi)角多邊形的光罩特征圖案,使得具有至少一個(gè)內(nèi)角的特征圖案可以得到有效的光學(xué)鄰近效應(yīng)修正且不會(huì)有任何外加的數(shù)據(jù)點(diǎn)增加。因此,可以取代傳統(tǒng)的利用飾線作為光學(xué)鄰近效應(yīng)修正的方式,進(jìn)一步地可以獲得有效的光學(xué)鄰近效應(yīng)修正。此外,對(duì)於規(guī)則的光罩寫入單位,當(dāng)未修正的光罩特征圖案經(jīng)分割形成數(shù)個(gè)形狀為矩形或是不規(guī)則四邊形光罩寫入單位時(shí),可以改善光罩寫入的時(shí)間,并且在分割的光罩寫入單位中沒有內(nèi)角的存在。另外,當(dāng)使用簡(jiǎn)單的幾何圖形時(shí),可以簡(jiǎn)化圖案檢查并且使得校正步驟較為容易。
文檔編號(hào)G03F1/36GK1431558SQ02101840
公開日2003年7月23日 申請(qǐng)日期2002年1月9日 優(yōu)先權(quán)日2002年1月9日
發(fā)明者謝昌志, 黃俊仁, 黃瑞禎 申請(qǐng)人:聯(lián)華電子股份有限公司
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