專利名稱：熱顯影感光材料的涂布方法及裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及熱顯影感光材料的涂布方法及裝置。
背景技術(shù)：
近年來，在醫(yī)療診斷膠片領(lǐng)域和照像制版膠片領(lǐng)域中，寄予環(huán)保、省空間的目的，強烈希望減少處理廢液量。因此，必須要有能用激光圖像設(shè)定裝置或激光圖像儀有效暴光且形成高分辯率及清晰度的明顯黑色圖像醫(yī)療診斷膠片和照像制版膠片的熱顯影感光材料技術(shù)。這種熱顯影感光材料的優(yōu)點是具有能給用戶提供不必用溶液類化學(xué)藥品且更簡便地、對環(huán)境無害的熱顯影處理體系。
熱顯影感光材料通常在結(jié)構(gòu)上設(shè)置有在基體上以有機酸銀、感光性鹵化銀、用作粘合劑的疏水性聚合物乳膠等及其分散物構(gòu)成的感光層以及在該感光層的前述基體側(cè)面相反側(cè)的面上至少由一種水溶性聚合物作為粘合劑的非顯影記錄性保護層。當在基體上對感光層及保護層雙層進行涂布時，不足之處在于因兩層的物理性狀及粘度特性顯著不同，基體上涂布的涂布層膜厚容易產(chǎn)生不勻、條紋及斑點。

發(fā)明內(nèi)容
可是，由于本發(fā)明涂布方法及裝置所指的熱顯影感光材料是全新材料，實際上要完全確定能在連續(xù)傳送的基體上更高效地形成感光層和保護層的技術(shù)，或者要有能使涂布的涂布層膜厚不產(chǎn)生不勻、條紋、斑點的技術(shù)。
現(xiàn)有技術(shù)中的熱顯影感光材料由于形成感光層及保護層的涂布液中使用了有機溶劑，存在的問題是在基體上涂布形成的涂布層中殘留的有機溶劑在熱顯影感光材料顯影時揮發(fā)污染環(huán)境。這種環(huán)境污染在生產(chǎn)熱顯影感光材料時同樣會發(fā)生。
本發(fā)明鑒于這種情況，目的在于提供能有效形成感光層及保護層且形成涂布層的厚度不產(chǎn)生不勻、條紋及斑點的高質(zhì)量熱顯影感光材料的涂布方法及裝置。另一個目的是提供不用擔心污染環(huán)境的涂布方法及裝置。
為了達到本發(fā)明的前述目的，在熱顯影感光材料涂布方法中，把熱顯影感光材料結(jié)構(gòu)上設(shè)置為在基體上含有至少一種有機酸銀及至少一種疏水性聚合物乳膠用作粘合劑的一層以上感光層以及與該感光層相對前述基體側(cè)面相反側(cè)的面上至少由一種水溶性聚合物作為粘合劑的一層以上非顯影記錄性保護層，在把形成前述感光層及前述保護層的各涂布液供給滑斗的各歧管后，從連通各歧管的開口壓出到滑動面上使其一邊形成重層液膜一邊下流，并在卷掛在支承輥上的連續(xù)輸送的前述基體上同步重層涂布前述重層液，其特征在于把前述涂布液從前述歧管的一端向另一端供給的同時，把流到前述開口的壓力損耗從前述一端至前述另一端變小，從而能抵消由流到前述歧管的壓力損耗產(chǎn)生的液壓減小。
為了達到本發(fā)明的前述目的，在熱顯影感光材料涂布裝置中，在熱顯影感光材料結(jié)構(gòu)上設(shè)置有在基體上含有至少一種有機酸銀及至少一種疏水性聚合物乳膠用作粘合劑的一層以上感光層以及在該感光層相對前述基體側(cè)面相反側(cè)的面上至少由一種水溶性聚合物作為粘合劑的一層以上非顯影記錄性保護層，在把形成前述感光層及前述保護層的各涂布液供液給滑斗的各歧管后，從連通各歧管的開口壓出到滑動面上使其一邊形成重層液膜一邊下流，并在卷掛在支承輥上的連續(xù)輸送的前述基體上同步重層涂布前述重層液，其特征在于前述涂布液從前述歧管的一端向另一端供給，并把從前述開口的前述歧管至前述滑動面的長度制成從前述一端至前述另一端變短的形式。
形成本發(fā)明熱顯影感光材料感光層的感光層涂布液的要點在于因不膠化且在基體上涂布后流動性小而具有觸變性，從開口先端的流出量在開口寬度方向(相當于基體上涂布的涂布膜的涂布寬度方向)中極為均一，不會產(chǎn)生涂布層膜厚不勻、條紋及斑點等涂布缺陷。
根據(jù)本發(fā)明，由于是把涂布液從歧管的一端向另一端供給且流到開口的壓力損耗會從前述一端至另一端變小，能抵消由流到前述歧管的壓力損耗產(chǎn)生的液壓減小。在裝置中，把從開口的歧管至滑動面的長度制成以從前述一端至前述另一端變短的形式。因此，因能從開口寬度方向(相當于涂布寬度方向)整體在滑動面上壓出的涂布液流量均一，得到無涂布缺陷的良好的涂布層。這種情況下，感光層、保護層既可是單層也可以是復(fù)層，可以在感光層和保護層間設(shè)置防止接觸的中間層。
本發(fā)明的涂布方法及裝置因在感光層、保護層各涂布液主要溶劑為水的情況下也能得到良好的涂布層，不必要使用現(xiàn)有技術(shù)中所用的有機溶劑，不用擔心環(huán)境污染。在此，在本發(fā)明的所謂溶劑水的涂布液溶劑(分散劑)中占重量的30％以上是水，高于重量的50％較好，最好是高于重量的70％。涂布液溶劑水以外的成分能用甲醇、乙醇、異丙醇、甲基溶纖劑、乙基溶纖劑、二甲基甲酰胺、醋酸甲酯等水溶性有機溶劑。
如上所述，根據(jù)本發(fā)明的熱顯影感光材料涂布方法及裝置，能高效地形成感光層和保護層，能形成涂布層膜厚無不勻、條紋和斑點等涂布缺陷的高質(zhì)量熱顯影感光材料。
另外，由于本發(fā)明熱顯影感光材料的涂布方法及裝置在感光層、保護層的各涂布液的主要溶劑是水的情況下也能獲得良好的涂布層，不必使用現(xiàn)有技術(shù)中所用的有機溶劑，不用擔心污染環(huán)境。


圖1是說明本發(fā)明熱顯影感光材料涂布裝置局部剖面圖；圖2是說明滑斗歧管與開口關(guān)系的剖面圖；圖3是說明滑斗歧管與開口關(guān)系的模式圖；圖4是基體間接合帶處接合的側(cè)視圖。
具體實施例方式
下面參照附圖詳細說明本發(fā)明熱顯影感光材料涂布方法及裝置的最佳實施形式。
圖1表示本發(fā)明熱顯影感光材料涂布裝置10并使用滑斗14的局部剖面圖。作為熱顯影感光材料，結(jié)構(gòu)上設(shè)置有在基體12上含有至少一種機酸銀及至少一種疏水性聚合物乳膠用作粘合劑的一層以上感光層以及在該感光層相對前述基體側(cè)面相反側(cè)的面上至少由一種水溶性聚合物作為粘合劑的一層以上非顯影記錄性保護層，在本實施例中，以形成感光層、中間層和保護層三層同時涂布3種涂布液為例進行說明。
如圖1所示，涂布裝置10主要構(gòu)成有滑斗14、與滑斗14對置的支承輥16、移動滑斗14的移動機構(gòu)18、給基體12賦予靜電荷的電暈放電裝置20。
滑斗14上有分別用多個金屬或陶瓷模塊加工的且能用螺釘結(jié)合的、相對多種液布液在涂布的寬度方向中把涂布液分配壓出到滑動面上的結(jié)構(gòu)，即在滑斗14內(nèi)部，在基體12被涂布的涂布液涂布方向中并列形成平行的3個歧管22、22…，從各個歧管22至向下方傾斜的滑動面28形成開口30。并且，供給各歧管22的各涂布液是在歧管22處的涂布寬度方向中擴流后通過開口30在滑動面28上壓出，并把涂布液下流到滑動面28上重合形成重層液膜A。下流到滑動面28上的重層液膜A在滑動面先端28A與卷掛在支承輥16上連續(xù)輸送的基體12間隙中形成液滴36(涂布液液滯留珠)，通過插入這種液滴36使基體12涂布。這時，由位于滑動面28第一下位處的歧管22供給形成感光層的涂布液，由正中間的歧管22供給形成中間層的涂布液，由位于第一上位處的歧管22供給形成保護層的涂布液。并且，在基體12上涂布形成的多層涂布膜B從近基體12側(cè)依次為感光層、中間層、保護層。
如圖2和圖3所示，在上述滑斗14中，涂布液是從歧管22的一端a入口通過供應(yīng)管38供給的，并且流向歧管22的另一端b(入口的相對側(cè))。從而使涂布液在涂布寬度方向中擴流。并且，從開口30的歧管22至滑動面28的長度(L)是以從一端a至另一端b變短的形式形成的。從而因流過開口30時的壓力損耗是從一端a至另一端b變小的，能抵消流到歧管22時的壓力損耗所產(chǎn)生的液壓減小。即一方面歧管22一端a側(cè)涂布液的液壓比另一端b側(cè)液壓變高的部分在流過開口30時壓力損耗變大；另一方面歧管22另一端b側(cè)涂布液的液壓比一端a側(cè)液壓變小的部分在流過開口30時壓力損耗變小。并且，從開口先端32下流的流量在開口30寬度方向中能變均一。這時，開口30的長度(L)的變化從一端a向另一端b既可以是直線變化也可以是二次曲線變化，二次曲線因從開口先端32的下流量在開口30的寬度方向中容易變均一也是可以的。作為開口30的縫隙尺寸可以為0.1-1mm，最好為0.3-0.6mm。另外，一端位置中開口30的長度(L1)可以是30-100mm，同時，在一端位置中開口30的長度(L1)與另一端位置中開口30的長度(L2)的差(L1-L2)在涂布寬度為1m的情況下可以小于10mm。
如圖2所示，歧管22另一端端面形狀形成沿涂布液流動方向向上傾斜的。所以，由于能把歧管22另一端b中涂布液流順利地導(dǎo)入開口30，涂布液流不會在歧管22的另一端處滯留。并且，能使從開口先端32下流的流量在開口30的寬度方向中成均一一層。為了在歧管22的另一端b上形成上述端面形狀，通過在歧管22的另一端b上設(shè)置使端面34A形成帶狀或彎曲狀栓34來實現(xiàn)的。不過要實現(xiàn)更順利的涂布液流最好為彎曲狀。
另外，在開口先端32(出口部)上，如圖3所示，設(shè)置接近滑動面28漸漸變大的擴徑部33。相對開口長度(L)為30-100mm的擴徑部33自滑動面28的長度(D)可以為2-10mm，最好為4-8mm。擴徑部33的最大間隙(開口先端的間隙尺寸)可以為1-5mm，最好為2-4mm。所以，能使涂布液從開口30到滑動面28上壓出的速度(或動壓)減小。而且位于滑動面28下游處從開口30壓到滑動面28上的涂布液能阻擋從滑動面28上游下流的涂布液流而使其重層。所以因光滑形成涂布液重層液膜A，能順利地進行流過滑動面28的重層膜液A流動。
如圖2所示，在滑斗14上通過限制涂布液流動范圍達到規(guī)定涂布寬度的目的，在開口30的兩端部及滑動面28的兩端部上設(shè)置有規(guī)定涂布寬度的一對開口限定板40、40以及一對滑動面限定板42、42?；瑒用嫦薅ò?2上接觸涂布液的面42A相對滑動面28是不垂直的而是傾斜成鈍角的。作為鈍角的傾斜角度(α)可以為110°-150°。因此，能防止基體12上涂布形成多層涂布液膜B兩端部比中央部的涂布變厚。
另外，滑動面28相對于鉛直方向的傾斜角度是60°-80°。該角度低于60°時重層液膜A流中產(chǎn)生波紋使重層液膜A不穩(wěn)定，而超過80°時帶有觸和性的感光層用涂布液在滑動面28處不能下流。
另外，如圖1所示，流在滑動面28上的重層液膜A接觸基體12在涂布點(O)中的基體接觸線46與滑動面28間的角度(β)可以是55°-85°。該角度β低于55°時在滑斗14與基體12間隙中形成液滴36變形大，產(chǎn)生所謂的‘肋現(xiàn)象’(Ribbing現(xiàn)象)，出現(xiàn)涂布波紋。相反，該角度超過85°時會使能在支承輥16上方設(shè)置涂布點(O)的涂布裝置的結(jié)構(gòu)變復(fù)雜。另外，滑動面先端28A端面的傾斜與前述基體接觸線46間的角度(γ)可以低于20°。當該角度γ超過20°時重層液膜A上鄰近滑動面28感光層下面的接觸線不能固定在先端28A端面的棱線處。所以，形成重層液膜A的感光層涂布液滑動面先端28A中的接觸線不是直線狀，這是由于基體12上涂布形成的多層涂布膜B中感光層膜厚分布的原因和產(chǎn)生條紋之故。
另外，從鄰近基體12最下層的感光層至最上層保護層構(gòu)成多層的各涂布液表面張力在上層平衡表面張力及動態(tài)表面張力常會比下層平衡表面張力及動態(tài)表面張力小。這樣由于從鄰近基體12最下層至上層中各層涂布液表面張力依次會變小，能防止滑動面28或者基體12中下層最上層的表面中出現(xiàn)所謂的‘緩沖現(xiàn)象’。因此，能使在滑動面28上流動的重層液膜A及在基體12上涂布形成的多層涂布膜層B的重疊穩(wěn)定。
另外，如圖1所示，在滑斗14上形成由滑斗14、支承輥及小室成形部件50圍成的減壓室52，減壓室52連接著壓氣機53或吸氣風(fēng)扇。通過對該減壓室52減壓，能使液滴36下方變成負壓而使液滴36穩(wěn)定。
另外，滑斗14及減壓室52搭載在移動臺54上，利用移動機構(gòu)18使移動臺54對著支承輥16進退移動，同時控制這種移動速度。另外，在本實施形式中，雖然只說明了使滑斗14移動，但也可使支承輥16移動。
另外，在用滑斗14和支承輥16在基體12上使涂布液涂布向前中，由電暈放電裝置20給基體12至少一個涂布面上賦予電荷。電暈放電裝置20是由配置在基體12涂布面?zhèn)鹊姆烹婋姌O68、與夾持基體12的放電電極68對置的接地輥70、附加在放電電極68與接地輥70間并使電暈放電的高壓直流電源72構(gòu)成。所以，在基體12的涂布面上攜帶正向或負向任一電荷后在基體12的涂布面上產(chǎn)生電壓。另外，在本實施形式中，雖然是以電暈放電裝置20為例說明的，但也可以不使支承輥16接地且形成使其表面絕緣覆蓋的結(jié)構(gòu)后使支承輥16上賦有高電壓而使液滴36起靜電場作用。
在此，涂布開始時為了使滑斗14的滑動面28流下的涂布液一次涂布在基體12上變?yōu)橹貙右耗，也可定時把在基體12上涂布形成的多層涂布液膜B厚度加大。
另外，作為把使用中的基體12與下一個要使用的基體12連接起來的方法，如圖4(a)、(b)所示，廣泛應(yīng)用著利用接合帶74的基體12‘平接接合’方法。該基體12的接合部80通過滑斗14和支承輥16的間隙時由于滑動面先端28A與基體12的間隙突然變化，在滑動面先端28A與基體12間形成的液滴36的位置突然變動，所以，容易產(chǎn)生使涂布液在基體12上不涂布的故障或涂厚的問題。
為了防止這種問題，有效的方法是降低減壓室52壓力的方法，在就要涂布的被涂布基體12表面上賦予靜電荷或在支承輥16上賦予高電壓使液滴36起靜電場作用。
在降低減壓室52壓力的方法中，把涂布開始前減壓室52的壓力降得低于正常涂布時的壓力，在涂布開始時形成液滴36的同時，能有效地漸漸升高至正常涂布的壓力。
另外，在基體12具有接合部80的情況下，在基體12的接合部80就要有效地通過滑動面先端28A與支承輥16的間隙時把減壓室52的壓力從低于正常涂布壓力通過后漸漸升高返回為正常涂布壓力。
在給支承輥16賦予高電壓使液滴36起靜電場作業(yè)的方法中，支承輥16上基體12表面電壓可以為500-2000V。并且，在支承輥16上必須實施礬土等絕緣性陶瓷覆蓋，使非接地的表面絕緣。
另外，作為防止涂布開始時厚涂，有效的方法是在滑動面28上重層液膜A形成后使滑斗14或支承輥16在沿相互接近方向移動的同時，在把涂布液就要涂布到基體12上時使移動速度變小。
另外，作為防止基體12的接合部80通過時滑斗14與基體12的間隙突變方法，有效的是在接合部80就要通過滑斗14與支承輥16間隙時擴展滑斗14或支承輥16中的微小距離，例如以具體到不破壞液滴36的程度只按接合帶74的厚度擴展前述間隙，接合部80通過后能恢復(fù)到正常涂布時的間隙寬度。
對于本發(fā)明中基體12的平接接合來說，為了防止涂布液浸透到基體12的連接部，在被涂布基體12的面上貼上接合帶74。接合帶74是把粘合劑74B層狀附加在塑料等支持件74A上，厚度可以低于100μm，在基體12輸送方向中的長度可以低于100mm。另外，在對基體12的兩面涂布逐次涂布液的情況下，可以在基體12的兩面上貼上接合帶74。此外，為了防止基體12的接合部80厚度突變，可以把基體12各面上貼接合帶74的基體輸送方向中長度不同于圖4(b)所示的長度。
下面說明可以構(gòu)成本發(fā)明熱顯影感光材料的感光層形態(tài)。
能用于本發(fā)明的有機酸銀可以是含有還原性銀離子的任何有機物質(zhì)?？梢允怯袡C碳酸銀鹽，特別是長鏈(碳原子數(shù)為10-30，最好為15-28)脂肪酸銀鹽。供銀物質(zhì)可以為形成顯影形成層(感光層)重量的5-70％。這類例子雖然可以是脂肪酸銀鹽或芳香酸銀鹽，但并不限定于此。作為脂肪酸銀鹽的例子，可以是山俞酸銀、硬脂酸銀、油酸銀、月桂酸銀、己酸銀、肉豆蔻酸銀、棕櫚酸銀、馬來酸銀、富馬酸銀、酒石酸銀、亞油酸銀、酪酸銀及樟腦酸銀以及這些物質(zhì)的混合物。
對能用于本發(fā)明的有機酸銀的形狀沒有特殊的限制。
能用于本發(fā)明的有機酸銀可以是能脫鹽的，作為脫鹽方法沒有特殊的限制，可以用公知的方法，最好使用離心過濾、吸引過濾、限外過濾、凝聚成塊水洗等公知的過濾方法。
能用于本發(fā)明的有機酸銀粒子體積小，為了得到不凝聚的粒子，使用用分散劑形成固體微粒子分散物的方法。使有機酸銀固體粒子分散化的方法，可以用利用分散助劑的公知微細化裝置(如球磨機、振動球磨機、行星球磨機、砂磨機、膠體磨機、噴射式磨機、輥式磨機、高壓均化器)，可以機械分散，最好是用高壓均化器。
使用分散劑使有機酸銀固體微粒子化時，例如，可以適當?shù)剡x用聚丙烯酸、丙烯酸的共聚物、馬來酸共聚物、馬來酸單酯共聚物、丙烯?；惗⊥榛撬峁簿畚锏群铣傻年庪x子聚合物；羧甲基淀粉、羧甲基纖維素等半成合陰離聚合物；海藻酸、果膠酸等陰離子聚合物；特開昭52-92716、WO88/04794等記載的陰離子表面活性劑、特愿平7-350753記載的化合物或公知的陰離子性、非離子性、陽離子性表面活性劑或其它聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮、羧甲基纖維素、羥丙基纖維素、羥丙甲基纖維素等公知的聚合物，或明膠等天然存在的高分子化合物。
本發(fā)明的有機酸銀可以使用所希望的量，用每1m2熱顯影材料表示的涂布量中銀量可以為0.1-5g/m2，最好為1-3g/m2。
本發(fā)明在使用有機酸銀的同時可以使用感光性鹵化銀。
本發(fā)明中感光性鹵化銀形成方法可以是本領(lǐng)域所知的方法，例如，可以使用《分散反射研究》(リサ一チデイスクロ一ジヤ一)1978年6月的第17029號及美國專利號為3700458中記載的方法。作為能用于本發(fā)明的具體方法，可以使用在調(diào)制的有機酸銀中附加含有鹵素化合物而使有機酸銀中的部分銀用鹵化銀代替的方法，或者給明膠或其它聚合物溶液中附加供銀化合物及鹵素供給化合物而調(diào)制感光性鹵化銀粒子與有機酸銀混合的方法。最好能使用本發(fā)明中后一種方法。為了降低并抑制顯影形成后的白條，感光性鹵化銀粒子的大小可以小一些，具體來說可低于0.20μm，在0.01μm-0.15μm較好，最好為0.02μm-0.12μm。這里所謂的粒子大小在鹵化銀粒子為正方體或八面體的正常晶體情況下是指鹵化銀粒子的棱長；而在鹵化銀粒子為平板狀粒子的情況下是指把主表面投影面積換算成同面積園形圖象的直徑。作為本發(fā)明的鹵化銀粒子形狀，最好是正方體、平板狀。在使用平板狀鹵化銀粒子的情況下平均長寬比可以為100∶1-2∶1，50∶1-3∶1較好。作為感光性鹵化銀的鹵素組成沒有特珠的限定，可以使用氯化銀、氯溴化銀、溴化銀、碘溴化銀、碘氯溴化銀、碘化銀任意一種。本發(fā)明中最好使用溴化銀、碘溴化銀。特別是碘溴化銀，碘溴化銀的含量可以為0.1％-40％摩爾，為0.1％-20％摩爾較好。
本發(fā)明的感光性鹵化銀粒子可以含有銠、錸、釕、鋨、銥、鈷、水銀或鐵中選出的金屬絡(luò)合物至少一種。這種金屬絡(luò)合物既可以是一種也可以是同種金屬或不同金屬絡(luò)合物兩種以上并用。含有量相對1摩爾銀可以為1n(納)摩爾至10m(毫)摩爾，最好為10n(納)摩爾至100μ(微)摩爾。作為金屬絡(luò)合物結(jié)構(gòu)可以使用特開平7-225449號等記載結(jié)構(gòu)的金屬絡(luò)合物。對于鈷、鐵化合物來說，可以使用六氰類金屬絡(luò)合物。作為具體的例子列出的有鐵氰酸離子、亞鐵氰酸離子、六氰鈷酸離子等，但并不限定于此。鹵化銀中的金屬絡(luò)合物既可以是均一的也可以是核部濃度高或殼部濃度高，并沒有特殊的限定。
可以使本發(fā)明中的感光性鹵化銀粒子化學(xué)敏感。作為化學(xué)敏感的方法可以使用本領(lǐng)域共知的硒敏感法、碲敏感法。還可以使用含金化合物或白金、鈀、銥化合物等貴金屬敏感法或還原敏感法。作為本發(fā)明感光性鹵化銀的使用量相對1摩爾有機酸銀的鹵化銀可以為0.01-0.5摩爾，0.02-0.3摩爾較好，最好為0.03-0.25摩爾。
有機酸銀還原劑可以是把銀離子還原成金屬銀的任意物質(zhì)，用有機物質(zhì)比較好?？梢杂帽酵子?、對苯二酚及鄰苯二酚等現(xiàn)有技術(shù)中使用的照相顯影劑，也可以使用品他托酚(ヒンダ一ドフエノ一ル)還原劑。還原劑相對顯影形成層面中1摩爾銀含量可以為5-50％(摩爾)，含有10-40％(摩爾)較好。還原劑附加層是顯影形成層面以外的層也可以。在附加為顯影形成層以外層的情況下，相對1摩爾銀的使用量可以多到10-50％(摩爾)。另外，還原劑也可以誘導(dǎo)為在顯影時具有有效功能，或者還原劑是前驅(qū)體原物。
使用有機銀鹽的熱顯影感光材料中廣泛的還原劑公開的有日本公開號特開昭46-6074、47-1238、47-33621、49-46427、49-115540、50-14334、50-36110、50-147711、51-32632、51-1023721、51-32324、51-51933、52-84727、55-108654、56-146133、57-82828、57-82829及特開平6-3793；美國專利號3667958、3679426、3751252、3751255、3761270、3782949、3839048、3928686、5464738；獨聯(lián)體專利號2321328；歐洲專利號692732。
本發(fā)明的還原劑可以是采用溶液、粉末、固體微粒子分散物等任何方法附加的。固體微粒子分散可以采用公知的微細化裝置(如球磨機、振動球磨機、行星球磨機、砂磨機、膠體磨機、噴射式磨機、輥式磨機等)。另外，在固體微粒子分散時也可以使用分散助劑。
為了提高圖像質(zhì)量附加作為調(diào)色劑的公知附加劑會提高光學(xué)濃度。即使是調(diào)色劑會產(chǎn)生黑色銀顯影也是有利的。調(diào)色劑相對顯影形成層面中1摩爾銀的含量可以為0.1-50％(摩爾)，為0.5-20％(摩爾)較好。另外，還原劑也可以誘導(dǎo)為在顯影時具有有效功能或是前驅(qū)體原物。
使用有機銀鹽的熱顯影感光材料中廣泛使用的調(diào)色劑公開的有日本公開號特開昭46-6077、47-10282、49-5019、49-5020、49-91215、50-2524、50-32927、50-67132、50-67641、50-114217、51-3223、51-27923、52-14788、52-99813、53-1020、53-76020、54-156524、54-156525、61-183642、及特開平4-56848、特公昭49-10727、54-20333；美國專利號3080254、3446648、3782941、4123282、4510236；英國專利號1380795；比利時專利號841910。
本發(fā)明的調(diào)色劑可以是采用溶液、粉末、固體微粒子分散物等任何方法附加到感光層、保護層或中間層任意層中的。固體微粒子分散可以采用公知的微細化裝置(如球磨機、振動球磨機、行星球磨機、砂磨機、膠體磨機、噴射式磨機、輥式磨機等)。另外，在固體微粒子分散時也可以使用分散助劑。
本發(fā)明的感光層含有下述疏水性聚合物乳膠(以下稱作聚合物乳膠)的量占感光層整個粘合劑重量的50％以上。本發(fā)明的聚合物乳膠參見《合成樹脂乳劑》(奧田平、稻垣寬編輯，高分子刊物出版社出版(1978))、《合成乳膠的應(yīng)用》(杉村孝明、片岡靖男、鈴木聰一、笠原啟司編輯，高分子刊物出版社出版(1993))、《合成乳膠化學(xué)》(室井宗一著，高分子刊物出版社出版(1970))。
作為本發(fā)明的聚合物乳膠除了通常均一結(jié)構(gòu)的聚合物乳膠外，也可以使用核/殼型乳膠。這種核和殼的情況是變化玻璃化轉(zhuǎn)移溫度情況下產(chǎn)生的。
本發(fā)明聚合物乳膠最低制膜溫度(MFT)為-30℃-90℃，在0℃-70℃更好。為了控制最低制膜溫度可以附加上制膜助劑，制膜助劑是可塑劑的話可以用使聚合物乳膠的最低制膜溫度降低的有機化合物(通常用的有機溶劑)，如前述《合成乳膠化學(xué)》(室井宗一著，高分子刊物出版社出版(1970))記載的。
用于本發(fā)明聚合物乳膠的聚合物種類可以是丙烯酸樹脂、醋酸乙酯樹脂、聚酯樹脂、聚氨酯樹脂、橡膠類樹脂、氯乙烯樹脂、偏二氯乙烯樹脂或它們的共聚物。
聚合物既可以是直鏈聚合物也可以是支鏈聚合物，還可以是交聯(lián)型聚合物。作為聚合物既可以是單一的單體聚合的或同聚物，也可以是二種以上單體聚合的異聚物。
異聚物既可以是隨機異聚物也可以是成組異聚物。聚合物的分子量平均為5000-1000000，在10000-100000較好。分子量過小感光層的力學(xué)強度不好，分子量過大制膜性不良。
本發(fā)明所用聚合物乳膠類聚合物在25℃、60％RH下的平衡含水量重量低于2％，低于1％的物質(zhì)更好。雖對平衡含水量的下限沒有特殊的限定，但可以為重量的0.01％，為重量的0.03％更好。例如，定義平衡含水量及測定方法可以參照《高分子工學(xué)講座14，高分子材料試驗法》(高分子學(xué)會編，地人書館出版)。
本發(fā)明所用聚合物乳膠的具體例子可以是以下物質(zhì)異丁烯酸甲酯/乙基丙酯/甲基丙烯酸共聚物乳膠、異丁烯酸甲酯/2乙基己基丙烯酸酯/苯乙烯/丙烯酸共聚物乳膠、苯乙烯/丁二烯/丙烯酸共聚物乳膠、苯乙烯/丁二烯/二乙烯基苯/甲基丙烯酸共聚物乳膠、異丁烯酸甲酯/氯乙烯/丙烯酸共聚物乳膠、偏二氯乙烯/乙基丙酯/丙烯腈/甲基丙烯酸共聚物乳膠等。
這些聚合物既可以單獨使用也可以根據(jù)需要混合使用二種以上。本發(fā)明使用的上述聚合物乳膠占顯影形成層整個粘合劑重量50％以上，使用上述聚合物乳膠占重量的70％以上更好。
本發(fā)明的感光層中也可以根據(jù)需要附加占整個粘合劑重量50％以下的水溶性聚合物，這類水溶性聚合物可以是明膠、聚乙烯醇、甲基纖維素、羥基丙酰纖維素、羧甲基纖維素、羥丙基甲酰纖維素等。這些水溶性聚合物的附加量占顯影形成層整個粘合劑重量的30％以下更好。
本發(fā)明感光層整個粘合劑量為0.2-30g/m2，為1-15g/m2更好。另外，作為本發(fā)明感光層的粘度特性或觸和性，例如，剪切速度為0.1/s時粘度為300(毫帕秒，以下相同)-30000mPa·s，剪切速度為1000/s時粘度為1mPa·s-100mPa·s。這些涂布液的粘度測定可以使用任何裝置，本發(fā)明中是使用粘度計生產(chǎn)(レオメトリツクスフア一イ一スト)株式會社制的RFS流體分光儀在25℃下測定的。
在本發(fā)明的感光層中也可以根據(jù)需要附加敏感色素、還原劑、調(diào)色劑、過度感光防止劑等。另外，在本發(fā)明的顯影形成層中還可以附加用于調(diào)整色調(diào)的染料、用于交聯(lián)的交聯(lián)劑、改良涂布性的表面活性劑等。
作為本發(fā)明使用的敏感色素可以是在吸附鹵化銀粒子時在期望波長范圍內(nèi)能具有使鹵化銀粒子分光敏感功能的物質(zhì)。可用的敏感色素有花青素染料、對花青素染料、絡(luò)合式花青素染料、絡(luò)合式對花青素染料、混合式花青素染料、苯乙烯基染料、半花青素染料、氧化環(huán)已醇染料、半氧化環(huán)已醇染料等。本發(fā)明使用的有效敏感染料如所引用文獻《RESEARCH DISCLOSURE》第17643IV-A項(1978年12月第23頁)、第1831X項(1979年8月第437頁)中記載的染料。
能用于本發(fā)明中間層的聚合物材料可以使用非離子性水溶聚合物，把水溶性乳膠用在粘合劑中混合成有機酸銀層涂布液，不會凝聚或顯著增加粘度，更不用說可以使用能形成膜的種類。
作為非離子性水溶聚合物，可以使用聚乙烯醇、變性的聚乙烯醇、聚丙酰胺、葡聚糖、聚乙二醇、聚乙二醇和聚丙烯乙二醇的混合共聚物等，使用聚乙烯醇類比較好，特別是使用聚乙烯醇。
作為聚乙烯醇，皂化度可以為80-99.9％，聚合度可以為300-2400。
作為中間層的上述聚合物涂布量，用熱顯影材料每1m2的量表示，干膜可以為0.1-3.0g/m2，最好為0.2-2.0g/m2。達到這種涂布量就能提高表面的改良效果。相對該量涂布量不足時不能獲得能改良表面上中間層功能的效果，涂布量過多粘著性或密粘性不良，干燥過度會降低生產(chǎn)率，因涂布液粘度變高涂布面表現(xiàn)不良。
在涂布溶劑為水的情況下可以加入與水相溶的有機溶劑。不過水的重量要高于30％，高于50％較好，最好高于70％。涂布液的聚合物濃度是重量的2-20％，涂布液網(wǎng)狀(Wet)涂布量為2-30ml/m2，涂布液粘度是5-200mPa·s。該粘度是用東京計量器公司制造的B型粘度計在40度下測定的。
在中間層中，也可以附加種種附加劑。作為能附加的物質(zhì)，可以是調(diào)色劑或過度感光防止劑等與顯影有關(guān)的化合物，例如可以舉出例子有酞嗪或酞酸銨等，但并不限定于此。
為了保護本發(fā)明的感光層可在外側(cè)設(shè)置保護層。作為保護層的粘合劑，是能用水來涂布的粘合劑，可以使用的有明膠、聚乙烯醇、羥基丙酰纖維素、甲基纖維素、羥丙基甲酰纖維素、羥丙基乙酰纖維素、羧甲基纖維素、聚丙烯酰胺、葡聚糖等。
在本發(fā)明最佳實施形式中用水進行重層涂布時，因感光層不會凝固，為防止干燥時產(chǎn)生風(fēng)紋可以使用明膠，特別使用凝固快且脫灰的明膠效果更好。
根據(jù)需要保護層可以為二層，在最佳實施形式中，可以設(shè)置有近有機酸銀層的涂布液形成層和在最外層上附加粘著劑的保護層，該涂布液中附加有紫外線吸收劑和/或疏水聚合物乳膠，在無論哪一層中都可以附加上與顯影有關(guān)的調(diào)色劑等附加劑、膜面PH調(diào)節(jié)劑以及所需的硬膜劑。
保護層中粘合劑的涂布量每層為0.1-3.0g/m2，最好為0.2-2.0g/m2。作為粘度特性，在40℃條件下可以為5-100mPa·s，為10-50mPa·s更好。
也可以在最外的保護層上使用任何防止附著的材料。例如，防止附著的材料可以是蠟、硅粒子、含有苯乙烯帶彈性的塊式共聚物(如苯乙烯-丁二烯-苯乙烯、苯乙烯-異戊二烯-苯乙烯)、醋酸纖維素、醋酸纖維素丁酯、纖維素丙酸酯及它們的混合物。
本發(fā)明中所謂‘溶劑為水’的涂布液溶劑(分散劑)中加入的水量可以高于重量的30％，高于重量50％較好，最好高于重量70％。作為涂布液溶劑中除水以外的成分可以用甲醇、乙醇、異丙醇、甲基溶纖劑、乙基溶纖劑、二甲基甲酰胺、醋酸乙酯等能與水相混溶的有機溶劑。
符號說明10…涂布裝置；12…基體；14…滑斗；16…支承輥；18…移動機構(gòu)；20…電暈放電裝置；22…歧管；28…滑動面；30…開口；32…開口先端；33…擴徑部；34…栓；36…液滴；40…開口限定板；42…滑動面限定板；52…減壓室；53…壓氣機；54…移動臺；68…放電電極；70…接地輥；72…高壓直流電源；74…結(jié)合帶；80…接合部
權(quán)利要求
1.一種熱顯影感光材料涂布方法，其中熱顯影感光材料結(jié)構(gòu)上設(shè)置為在基體上含有至少一種有機酸銀及至少一種疏水性聚合物乳膠用作粘合劑的一層以上感光層以及與該感光層相對前述基體側(cè)面相反側(cè)的面上至少由一種水溶性聚合物作為粘合劑的一層以上非顯影記錄性保護層，在把形成前述感光層及前述保護層的各涂布液供給滑斗的各歧管后，從連通各歧管的開口壓出到滑動面上使其一邊形成重層液膜一邊下流，并在卷掛在支承輥上的連續(xù)輸送的前述基體上同步重層涂布前述重層液，其特征在于把前述涂布液從前述歧管的一端向另一端供給的同時，把流到前述開口的壓力損耗從前述一端至前述另一端變小，從而能抵消流到前述歧管的壓力損耗產(chǎn)生的液壓減小。
2.一種熱顯影感光材料涂布裝置，其中在熱顯影感光材料結(jié)構(gòu)上設(shè)置有在基體上含有至少一種有機酸銀及至少一種疏水性聚合物乳膠用作粘合劑的一層以上感光層以及在該感光層相對前述基體側(cè)面相反側(cè)的面上至少由一種水溶性聚合物作為粘合劑的一層以上非顯影記錄性保護層，在把形成前述感光層及前述保護層的各涂布液供液給滑斗的各歧管后，從連通各歧管的開口壓出到滑動面上使其一邊形成重層液膜一邊下流，并在卷掛在支承輥上的連續(xù)輸送的前述基體上同步重層涂布前述重層液，其特征在于前述涂布液是從前述歧管的一端向另一端供給的，并且把從前述開口的前述歧管至前述滑動面的長度制成從前述一端至前述另一端變短的形式。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的熱顯影感光材料涂布裝置，其特征在于前述涂布液的主要溶劑是水。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的熱顯影感光材料涂布裝置，其特征在于前述岐管的前述另一端端面形狀是沿前述涂布液流動方向向上傾斜形成的形狀。
5.根據(jù)權(quán)利要求2-4之一所述的熱顯影感光材料涂布裝置，其特征在于前述開口的兩端部以及前述滑動面的兩端部上設(shè)置有限定涂布寬度的開口用限定板與滑動面用限定板。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的熱顯影感光材料涂布裝置，其特征在于前述滑動面用限定板與前述涂布液接觸面相對滑動面傾斜著形成鈍角。
7.根據(jù)權(quán)利要求2-6之一所述的熱顯影感光材料涂布裝置，其特征在于前述開口先端部的縫隙是以近滑動面變大的形式形成的。
8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的熱顯影感光材料涂布裝置，其特征在于前述涂布裝置是在前述滑斗的前述滑動面先端部與前述基體間形成涂布液液滴的形式進行涂布的滑動液滴式涂布裝置。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的熱顯影感光材料涂布裝置，其特征在于前述滑動面相對鉛直方向傾斜的角度為60°-80°，流到前述滑動面的重層液膜接觸到前述基體上的涂布點中基體接觸線與前述滑動面形成的角度為55°-85°。
10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的熱顯影感光材料涂布裝置，其特征在于前述滑動面的先端部端面傾斜角度與前述涂布液與前述基體接觸線構(gòu)成的角度小于20°。
11.根據(jù)權(quán)利要求8-10之一所述的熱顯影感光材料涂布裝置，其特征在于在前述液滴下方設(shè)置有減壓室。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的熱顯影感光材料涂布裝置，其特征在于涂布開始時的前述減壓室的壓力低于正常涂布時的壓力，在涂布始形成前述液滴的同時，漸漸把減壓室的壓力升高至前述正常涂布時的壓力。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的熱顯影感光材料涂布裝置，其特征在于在前述基體有接合部的情況下，在前述接合部就要通過前述滑動面先端部與前述支承輥間隙時把前述減壓室的壓力從低于正常涂布時通過后漸漸上升高返回到正常涂布時的壓力。
14.根據(jù)權(quán)利要求8-13之一所述的熱顯影感光材料涂布裝置，其特征在于設(shè)置有使前述滑斗或前述支承輥相對進退移動且控制該移動速度的移動機構(gòu)。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的熱顯影感光材料涂布裝置，其特征在于在前述滑動面上形成前述重層液膜后，在使前述滑斗或前述支承輥在相互接近的方向中移動的同時，在涂布液就要涂布在前述基體上時把前述移動速度變小。
16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的熱顯影感光材料涂布裝置，其特征在于在前述基體有接合部的情況下，在前述接合部就要通過前述滑動面先端部與前述支承輥間隙時由前述移動機構(gòu)以不破壞前述液滴而變大前述間隙的形式移動前述滑斗或前述支承輥，在前述接合部通過前述間隙后能把前述間隙恢復(fù)到正常涂布時的間隙寬度。
17.根據(jù)權(quán)利要求2-16之一所述的熱顯影感光材料涂布裝置，其特征在于可以設(shè)置給前述基體賦予靜電荷的電暈放電裝置，或者形成使前述支承輥不接地且其表面絕緣覆蓋的結(jié)構(gòu)。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的熱顯影感光材料涂布裝置，其特征在于涂布開始時由前述電暈放電裝置給基體賦予靜電荷，或者在前述液滴形成的同時給前述支承輥附加直流高電壓。
19.根據(jù)權(quán)利要求17所述的熱顯影感光材料涂布裝置，其特征在于在前述基體有接合部的情況下，在涂布開始時由前述電暈放電裝置給前述接合部賦予靜電荷，或者，在前述接合部通過前述間隙時給前述支承輥附加直流高電壓。
20.根據(jù)權(quán)利要求2-19所述的熱顯影感光材料涂布裝置，其特征在于從鄰接前述基體的最下層前述感光層至最上層前述保護層構(gòu)成多層，同時，上層的平衡表面張力及動態(tài)表面張力通常比下層的平衡表面張力及動態(tài)表面張力小。
21.根據(jù)權(quán)利要求13、16、19之一所述的熱顯影感光材料涂布裝置，其特征在于前述基體接合方式是平接接合的，前述基體至少被涂布的面貼著接合帶。
全文摘要
本發(fā)明提供了能有效形成感光層及保護層且涂布層的膜厚無不勻、條紋及斑點等缺陷的高質(zhì)量熱顯影感光材料的涂布方法及裝置。把涂布液從岐管(22)的一端向另一端供給的同時,把流到開口(30)的壓力損耗從一端到另一端變小,從而抵消流到岐管(22)時的壓力損耗產(chǎn)生的液壓減小。在裝置中,把開口(30)的岐管22至滑動面(28)的長度制成從一端至另一端變短的形式。因而,能把從開口(30)寬度方向(相當于涂布寬度方向)整體壓出到滑動面(28)上的涂布液流量均一,并能獲得無涂布缺陷的良好涂布層。
文檔編號G03C1/74GK1342526SQ0113130
公開日2002年4月3日 申請日期2001年8月31日 優(yōu)先權(quán)日2000年9月4日
發(fā)明者中嶌賢二 申請人:富士膠片株式會社