本發(fā)明涉及用于對轉(zhuǎn)印物進行轉(zhuǎn)印的轉(zhuǎn)印用具。

背景技術(shù)：

以往以來，已知有:具備用于在不使用時覆蓋轉(zhuǎn)印頭的蓋的轉(zhuǎn)印用具(例如，參照專利文獻1)。

此外，作為在不使用時能夠通過比較簡單的操作來抑制轉(zhuǎn)印頭與外部的物品等接觸的情況的轉(zhuǎn)印用具，也存在設(shè)置有相對于主體殼體進行滑動的彎曲片狀的構(gòu)件的轉(zhuǎn)印用具等。該轉(zhuǎn)印用具使得：通過使片狀的構(gòu)件滑動移動，使該片狀的構(gòu)件位于轉(zhuǎn)印頭的轉(zhuǎn)印方向側(cè)。

但是，這樣的轉(zhuǎn)印用具，并非是能覆蓋轉(zhuǎn)印頭的大致整體的轉(zhuǎn)印用具，因此，不一定能夠充分避免外部的塵埃和/或污垢附著于轉(zhuǎn)印頭的情況。

【現(xiàn)有技術(shù)文獻】

【專利文獻】

【專利文獻1】日本特開2005－193410號公報

技術(shù)實現(xiàn)要素：

【發(fā)明要解決的問題】

本發(fā)明是著眼于以上這樣的情形而做出的，提供通過對蓋進行滑動操作而能夠適宜地覆蓋轉(zhuǎn)印頭的設(shè)計自由度優(yōu)異的轉(zhuǎn)印用具。

【用于解決問題的方案】

即，本發(fā)明形成為下面的結(jié)構(gòu)。

技術(shù)方案1的轉(zhuǎn)印用具，具備：轉(zhuǎn)印用具主體，具有用于對轉(zhuǎn)印物進行轉(zhuǎn)印的轉(zhuǎn)印頭；滑塊，以能夠滑動的方式被保持于該轉(zhuǎn)印用具主體；和蓋，被支持于該滑塊并具有遮蓋所述轉(zhuǎn)印頭的形狀，其中，該轉(zhuǎn)印用具具備導(dǎo)向(引導(dǎo))機構(gòu)，該導(dǎo)向機構(gòu)使所述蓋伴隨所述滑塊的滑動操作在被覆(覆蓋)所述轉(zhuǎn)印頭的被覆位置與從所述轉(zhuǎn)印頭退避開的使用位置之間進行位置變更。

技術(shù)方案2的轉(zhuǎn)印用具，在技術(shù)方案1所述的結(jié)構(gòu)中，所述蓋被支持為能夠相對于所述滑塊轉(zhuǎn)動，所述導(dǎo)向機構(gòu)具備：形成于所述蓋和所述轉(zhuǎn)印用具主體中的任一方的突出部；和形成于另一方并接合于所述突出部的突出部抵接部。

技術(shù)方案3的轉(zhuǎn)印用具，在技術(shù)方案2所述的結(jié)構(gòu)中，所述突出部形成于所述蓋，所述突出部抵接部是形成于所述轉(zhuǎn)印用具主體的導(dǎo)向槽。

技術(shù)方案4的轉(zhuǎn)印用具，在技術(shù)方案1、2或3所述的結(jié)構(gòu)中，所述轉(zhuǎn)印用具主體具備：在內(nèi)部收置有轉(zhuǎn)印物的主體殼體；和在該主體殼體的前側(cè)突出配置的所述轉(zhuǎn)印頭，所述蓋具備側(cè)壁，該側(cè)壁形成為：在所述被覆位置位于所述轉(zhuǎn)印頭的左右兩側(cè)并且后端邊緣沿著所述主體殼體的前端邊緣。

技術(shù)方案5的轉(zhuǎn)印用具，在技術(shù)方案1、2、3或4所述的結(jié)構(gòu)中，所述滑塊被保持于所述轉(zhuǎn)印用具主體的上側(cè)的部位。

技術(shù)方案6的轉(zhuǎn)印用具，在技術(shù)方案1、2、3、4或5所述的結(jié)構(gòu)中，所述滑塊構(gòu)成為：在所述被覆位置和所述使用位置能夠相對于所述轉(zhuǎn)印用具主體進行節(jié)制接合。

【發(fā)明效果】

如上所述，根據(jù)本發(fā)明，能夠提供通過對蓋進行滑動操作而能夠適宜地覆蓋轉(zhuǎn)印頭的設(shè)計自由度優(yōu)異的轉(zhuǎn)印用具。

附圖說明

圖1是示出本發(fā)明的一實施方式的右側(cè)視圖。

圖2是該實施方式中的右側(cè)視圖。

圖3是該實施方式中的左側(cè)視圖。

圖4是該實施方式中的左側(cè)視圖。

圖5是該實施方式中的俯視圖。

圖6是該實施方式中的主視圖。

圖7是該實施方式中的分解立體圖。

圖8是圖3中的a－a線剖視圖。

圖9是用于對該實施方式的蓋進行說明的立體圖。

圖10是用于對該實施方式的滑塊進行說明的立體圖。

具體實施方式

以下，參照圖1～10對本發(fā)明的一個實施方式進行說明。

該實施方式是將本發(fā)明應(yīng)用到用于將作為轉(zhuǎn)印物的糊料(未圖示)相對于用紙等轉(zhuǎn)印對象面進行轉(zhuǎn)印的轉(zhuǎn)印用具t中的實施方式。該轉(zhuǎn)印用具t比較小型，例如，設(shè)定為能夠收置于在包類中所收納的一般大小的筆筒中的大小。

轉(zhuǎn)印用具t具備：轉(zhuǎn)印用具主體1，具有用于對糊料進行轉(zhuǎn)印的轉(zhuǎn)印頭12；滑塊2，以能夠滑動的方式被保持于該轉(zhuǎn)印用具主體1；和蓋3，被支持于該滑塊2并具有遮蓋所述轉(zhuǎn)印頭12的形狀。該轉(zhuǎn)印用具t具備導(dǎo)向機構(gòu)g，該導(dǎo)向機構(gòu)g伴隨所述滑塊2的向前后方向的滑動操作而使所述蓋3在被覆所述轉(zhuǎn)印頭12的被覆位置(c)與從所述轉(zhuǎn)印頭12退避開的使用位置(u)之間進行位置變更。

以下，對該轉(zhuǎn)印用具t進行詳述。

轉(zhuǎn)印用具主體1具備：主體殼體11，在內(nèi)部收置有保持著作為轉(zhuǎn)印物的糊料的轉(zhuǎn)印帶p；和轉(zhuǎn)印頭12，朝向前方突出地配置于該主體殼體11的前側(cè)。

如圖1以及圖2所示，主體殼體11，在內(nèi)部將放出卷軸m和卷繞卷軸n支持為能夠旋轉(zhuǎn)，該放出卷軸m用于將轉(zhuǎn)印帶p放出，該卷繞卷軸n用于對從該放出卷軸m放出并且經(jīng)過了轉(zhuǎn)印頭12的轉(zhuǎn)印輥121的轉(zhuǎn)印帶p進行卷繞。

配置于主體殼體11的內(nèi)部的放出卷軸m一體地保持有放出齒輪mg。卷繞卷軸n被支持于嚙合于所述放出齒輪mg的卷繞齒輪ng。而且，以放出齒輪mg以及卷繞齒輪ng為主體，構(gòu)成了用于使放出卷軸m以及卷繞卷軸n聯(lián)動地旋轉(zhuǎn)的聯(lián)動機構(gòu)r。此外，聯(lián)動機構(gòu)r是通常的機構(gòu)，因此省略詳細的說明。被卷繞于放出卷軸m以及卷繞卷軸n的轉(zhuǎn)印帶p，是在膜狀基材的一面?zhèn)雀接凶鳛檗D(zhuǎn)印物的糊料而成的通常的轉(zhuǎn)印帶。

主體殼體11是合成樹脂制的殼體，具備：左右側(cè)壁111、112；上壁113，配置于該左右側(cè)壁111、112的上端邊緣部之間；后壁114，配置于所述左右側(cè)壁111、112的后端邊緣部之間；和下壁115，配置于所述左右側(cè)壁111、112的下端邊緣部之間。主體殼體11在其前端部具有開口部11a，該開口部11a用于將轉(zhuǎn)印帶p導(dǎo)出到作為轉(zhuǎn)印頭12的轉(zhuǎn)印端的轉(zhuǎn)印輥121并且將經(jīng)過了轉(zhuǎn)印輥121的所述轉(zhuǎn)印帶p導(dǎo)入主體殼體11的內(nèi)部。

在該實施方式中，主體殼體11由具有右側(cè)壁112的第一殼體c1和具有左側(cè)壁111、上壁113、后壁114以及下壁115的第二殼體c2構(gòu)成。通過組合該第一殼體c1和該第二殼體c2，從而形成具有能夠收置放出卷軸m以及卷繞卷軸n的內(nèi)部空間的主體殼體11。

左側(cè)壁111在其前端具有左前端邊緣111a，作為處于被覆位置(c)的蓋3的后端邊緣的開口端邊緣3a能夠抵接于或接近該左前端邊緣111a。左前端邊緣111a構(gòu)成主體殼體11的開口部11a。

右側(cè)壁112在其前端具有右前端邊緣112a，作為處于被覆位置(c)的蓋3的后端邊緣的開口端邊緣3a能夠抵接于或接近該右前端邊緣112a。右前端邊緣112a構(gòu)成主體殼體11的開口部11a。

右側(cè)壁112具備從上邊緣側(cè)的后部遍及至前端部而連續(xù)的凹陷區(qū)域112b。凹陷區(qū)域112b是在正面看時向中央側(cè)凹陷的部位，形成為要配置滑塊2和/或蓋3的右側(cè)的部位的區(qū)域。即，使得能夠在凹陷區(qū)域112b配置滑塊2的橫壁22以及蓋3的右側(cè)的側(cè)壁31，使所述橫壁22的外表面以及所述右側(cè)的側(cè)壁31的外表面與主體殼體11的右側(cè)壁112的主要的外表面大致共面。

在右側(cè)壁112，在與凹陷區(qū)域112b對應(yīng)的位置形成有作為用于對滑塊2以及蓋3進行導(dǎo)向的突出部抵接部的導(dǎo)向槽m。導(dǎo)向槽m是構(gòu)成后述的導(dǎo)向機構(gòu)g的槽。導(dǎo)向槽m在側(cè)面看時呈l狀，具備：前后槽m1，大致沿著主體殼體11的上壁113地在前后方向上延伸而成；彎曲槽m2，連續(xù)于該前后槽m1的前端而形成并朝向下方彎曲；和上下槽m3，連續(xù)于該彎曲槽m2的前端而形成并在上下方向上延伸。上下槽m3與前后槽m1相比尺寸短。

上壁113在其前端具有前端邊緣113a，作為處于被覆位置(c)的蓋3的后端邊緣的開口端邊緣3a能夠抵接于或接近該前端邊緣113a。上壁113的前端邊緣113a構(gòu)成主體殼體11的開口部11a。

上壁113具備：滑塊支持部j，用于將滑塊2支持為能夠在前后方向上滑動；滑動輔助部h，配置為與該滑塊支持部j大致平行并用于進行滑塊2的姿勢保持；和蓋接合止動部k，配置于前邊緣部附近并在左右方向上延伸。

滑塊支持部j為在前后方向延伸的槽狀。滑塊支持部j與作為設(shè)置于滑塊2的主體接合部的突出部23接合，能夠?qū)⒒瑝K2支持為能相對于主體殼體11滑動。

滑塊支持部j構(gòu)成為，使滑塊2的突出部23難以從主體殼體11脫離。即，滑塊支持部j使在內(nèi)側(cè)所形成的內(nèi)部槽j2的寬度形成得比在外部露出的狹縫(slit)狀的開口部j1的寬度寬。另一方面，滑塊2的突出部23具備：設(shè)置于前端的寬幅部分231；和與該寬幅部分231相比在左右方向上寬度較窄的基端部分232。而且，滑塊的寬幅部分231構(gòu)成為位于所述滑塊支持部j的內(nèi)部槽j2。

滑塊支持部j的開口部j1是在前后方向上延伸的狹縫狀的部分，在其后部側(cè)具備插通部j11，該插通部j11用于使滑塊2的突出部23的寬幅部分231插通于內(nèi)部槽j2側(cè)。插通部j11形成有:與相鄰的前后的部分相比,寬度大一些的離開空間。

內(nèi)部槽j2是供形成于突出部23的前端的寬幅部分231進行配置的部分。在內(nèi)部槽j2，在前側(cè)的部分具有朝內(nèi)突出的前側(cè)的突出部t1，并且在后側(cè)的部分具有朝內(nèi)突出的后側(cè)的突出部t2。前側(cè)的突出部t1成為在蓋3處于被覆位置(c)時使得滑塊2的寬幅部分231能夠節(jié)制接合的部分，限制滑塊2向后方的移動。通過這樣設(shè)置，保持蓋3處于被覆位置(c)的狀態(tài)。后側(cè)的突出部t2成為在蓋3處于使用位置(u)時使得滑塊2的寬幅部分231能夠節(jié)制接合的部分，限制滑塊2向前方的移動。通過這樣設(shè)置，保持蓋3處于使用位置(u)的狀態(tài)。此外，后側(cè)的突出部t2呈按大致四分之一圓柱狀朝內(nèi)突出的形狀。即，突出部t2的前側(cè)(朝向前側(cè)的突出部t1的一側(cè))構(gòu)成為具有曲面狀的外表面，并且突出部t2的后側(cè)構(gòu)成為具有朝向后方的平面狀的外表面。通過這樣構(gòu)成后側(cè)的突出部t2，因使蓋3從被覆位置(c)向使用位置(u)遷移的情況和使蓋3從使用位置(u)向被覆位置(c)遷移的情況的不同，而使得該后側(cè)的突出部t2與滑塊2的連接程度變化。即，在使蓋3從被覆位置(c)向使用位置(u)遷移時，滑塊2與突出部t2的曲面狀的外表面接合，因此該滑動操作能夠比較順暢地進行。另一方面，在使蓋3從使用位置(u)向被覆位置(c)遷移時，滑塊2與突出部t2的平面狀的外表面接合，因此該滑動操作(尤其是滑動開始階段)要求使用者使出比較大的滑動力。也就是，該實施方式中的滑塊2，通過與所述突出部t2接合，能夠適宜地保持蓋3處于使用位置(u)的狀態(tài)，抑制蓋3容易向被覆位置(c)移動的情況。

滑動輔助部h是形成于上壁113的在前后方向上延伸的槽狀的部分?；瑒虞o助部h與滑塊2的滑動突起212接合。由此，滑塊2相對于上壁113在左右方向上旋轉(zhuǎn)即擺動的情況受到抑制，能夠適宜地保持滑塊2向前后方向的滑動姿勢。

蓋接合止動部k形成于上壁113的前邊緣部附近，是在左右方向上延伸而成并向上開口的槽狀的部分。蓋接合止動部k成為下述部位：在使用者誤將蓋3向下方按壓而將蓋3從使用位置(u)朝向被覆位置(c)操作了的情況下，使得蓋3的端部邊緣即下壁33的后端邊緣33e能夠暫時接合止動。

下壁115在前端具有前端邊緣115a，作為處于被覆位置(c)的蓋3的后端邊緣的開口端邊緣3a能夠抵接于或接近該前端邊緣115a。下壁115的前端邊緣115a構(gòu)成主體殼體11的開口部11a。

轉(zhuǎn)印頭12用于將轉(zhuǎn)印物按壓于轉(zhuǎn)印對象物而進行轉(zhuǎn)印。轉(zhuǎn)印頭12以轉(zhuǎn)印輥121和左右的支持部122為主體而構(gòu)成，該轉(zhuǎn)印輥121作為將附有糊料的轉(zhuǎn)印帶p按壓于轉(zhuǎn)印對象面的轉(zhuǎn)印端，該左右的支持部122呈板狀并將該轉(zhuǎn)印輥121的兩側(cè)支持為能夠旋轉(zhuǎn)。左右的支持部122被支持于未圖示的橫架框架，被支持于該橫架框架的左右的支持部122通過合成樹脂與第一殼體c1形成為一體。轉(zhuǎn)印頭12的正面看時的左右方向上的寬度尺寸設(shè)定為比主體殼體11的對應(yīng)的寬度尺寸小。

接著，對滑塊2進行說明。

滑塊2是合成樹脂制，受到操作者手指的操作而能夠在前后方向上滑動移動?；瑝K2被保持于所述轉(zhuǎn)印用具主體1的上側(cè)的部位、即主體殼體11的上部?；瑝K2具備：滑塊主體21，位于主體殼體11的上壁113之上并且形成為沿著上壁113的板狀；橫壁22，從該滑塊主體21的右側(cè)的端部邊緣朝向下方延伸出；突出部23，從所述滑塊主體21向下側(cè)突出設(shè)置并作為主體接合部；和軸支持部24，設(shè)置于所述滑塊主體21的前端部并用于將設(shè)置于蓋3的旋轉(zhuǎn)軸x支持為能夠轉(zhuǎn)動。

滑塊主體21具備：軌道211，向底面?zhèn)韧怀龆纬刹⒃谇昂蠓较蛏涎由?，用于能夠與主體殼體11的上壁113滑動接觸；和滑動突起212，向底面?zhèn)韧怀龆纬刹⑴c滑動輔助部h接合。另外，在滑塊主體21在其頂面?zhèn)仍O(shè)置有顯示部213，該顯示部213具有對操作者提示滑動方向并且兼具防止手指打滑的功能的凹凸部分。在滑塊主體21的底面?zhèn)鹊淖笥曳较蛑虚g部，以向下方突出的形態(tài)設(shè)置有與上壁113的滑塊支持部j接合的突出部23。

橫壁22是從滑塊主體21的右側(cè)的端部邊緣朝向下方延伸的部分。橫壁22配置于在主體殼體11的右側(cè)壁112的上邊緣部所形成的凹陷區(qū)域112b。橫壁22在內(nèi)面?zhèn)染邆湓谇昂蠓较蛏涎由斓能壍罓畹耐黄?21。該突起221與在主體殼體11所形成的導(dǎo)向槽m的前后槽m1接合。由此，滑塊2變得難以相對于上壁113在上下方向上旋轉(zhuǎn)即變得難以擺動，向前后方向的滑動姿勢能夠穩(wěn)定保持。

突出部23與主體殼體11的滑塊支持部j接合。突出部23具備：寬幅部分231，設(shè)置于前端部并配置于滑塊支持部j的內(nèi)部槽j2內(nèi)；和基端部分232，設(shè)置于基端部并配置于滑塊支持部j的開口部j1內(nèi)。突出部23，通過寬幅部分231位于內(nèi)部槽j2內(nèi)，從而發(fā)揮抑制從主體殼體11脫離的功能。

軸支持部24設(shè)置于滑塊主體21的前端部。軸支持部24用于將設(shè)置于蓋3的旋轉(zhuǎn)軸x支持為能夠轉(zhuǎn)動，并具備支持所述旋轉(zhuǎn)軸x的下側(cè)的下臂構(gòu)件241和支持所述旋轉(zhuǎn)軸x的上側(cè)的上臂構(gòu)件242。上臂構(gòu)件242在前端側(cè)具備矩形平板狀的閉塞構(gòu)件242a。閉塞構(gòu)件242a在被覆位置(c)能夠?qū)υ谥С稚w3的旋轉(zhuǎn)軸x的左右的軸支持部35之間所形成的間隙sk進行閉塞。該間隙sk能夠?qū)⑸w3的內(nèi)部空間sp與外部空間連通，通過閉塞構(gòu)件242a將該間隙sk閉塞，因而將所述內(nèi)部空間sp閉塞，抑制來自外部的異物進入。

接著，對蓋3進行說明。

蓋3是合成樹脂制，是能夠與主體殼體11以及滑塊2協(xié)同動作以間隙受到了抑制的狀態(tài)覆蓋轉(zhuǎn)印頭12的整體的立體形狀。蓋3能夠在被覆位置(c)使轉(zhuǎn)印頭12位于其內(nèi)部空間sp，能覆蓋該轉(zhuǎn)印頭12的前側(cè)、左右側(cè)以及上下側(cè)，能夠抑制塵埃和/或污垢從外部進入內(nèi)部空間sp。蓋3被支持為能夠經(jīng)由鉸鏈部相對于所述滑塊2轉(zhuǎn)動，并且能夠相對滑動地接合于主體殼體11。蓋3具有在被覆位置(c)位于后方的開口端邊緣3a，該開口端邊緣3a設(shè)定為：在被覆位置(c)與主體殼體11的開口部11a大致一致。另外，在使用位置(u)，蓋3的開口端邊緣3a拼接于或接近于主體殼體11的上壁113。

蓋3具備：左右的側(cè)壁30、31；前壁32，設(shè)置于該左右的側(cè)壁30、31的前端部之間并在被覆位置(c)配置于轉(zhuǎn)印頭12的前側(cè)；下壁33，設(shè)置于所述左右的側(cè)壁30、31的下端部之間并在被覆位置(c)配置于轉(zhuǎn)印頭12的下側(cè)；上壁34，設(shè)置于所述左右的側(cè)壁30的上端部之間并在被覆位置(c)配置于轉(zhuǎn)印頭12的上側(cè)；壁狀的左右的軸支持部35，在上壁34的外表面?zhèn)韧怀鲈O(shè)置；和旋轉(zhuǎn)軸x，架設(shè)于該左右的軸支持部35之間并在左右方向上延伸。

右側(cè)壁31具備朝向內(nèi)側(cè)突出并接合于主體殼體11的導(dǎo)向槽m的突出部g。如果更具體地說，則右側(cè)壁31具有在被覆位置(c)朝向后方呈凸狀地延伸出的伸出壁部31a，在該伸出壁部31a的內(nèi)面配置有朝向內(nèi)側(cè)突出并接合于主體殼體11的導(dǎo)向槽m的圓柱狀的突出部g。

蓋3以左右側(cè)壁30、31、前壁32、下壁33以及上壁34為主體，在內(nèi)側(cè)形成有作為轉(zhuǎn)印頭收置空間的內(nèi)部空間sp。左右側(cè)壁30、31形成為，在所述被覆位置(c)位于所述轉(zhuǎn)印頭12的左右兩側(cè)并且后端邊緣30e、31e沿著所述轉(zhuǎn)印用具主體1的主體殼體11的前邊緣即左前端邊緣111a以及右前端邊緣112a。此外，右側(cè)壁31的一部分即上側(cè)的后端邊緣31e形成為，在被覆位置(c)沿著滑塊2的橫壁22的前端邊緣22e。上壁34形成為，在所述被覆位置(c)位于所述轉(zhuǎn)印頭12的上側(cè)并且后端邊緣34e沿著所述轉(zhuǎn)印用具主體1的主體殼體11的前邊緣即上壁113的前端邊緣113a。下壁33形成為，在所述被覆位置(c)位于所述轉(zhuǎn)印頭12的下側(cè)并且后端邊緣33e沿著所述轉(zhuǎn)印用具主體1的主體殼體11的前邊緣即下壁115的前端邊緣115a。上壁34在面向旋轉(zhuǎn)軸x的位置形成有缺口部341。

該轉(zhuǎn)印用具t具備導(dǎo)向機構(gòu)g，該導(dǎo)向機構(gòu)g使蓋3伴隨滑塊2的前后方向上的滑動操作，在被覆所述轉(zhuǎn)印頭12的被覆位置(c)與從所述轉(zhuǎn)印頭12退避開的使用位置(u)之間進行位置變更。以下，對導(dǎo)向機構(gòu)g進行說明。

導(dǎo)向機構(gòu)g以突出部g和導(dǎo)向槽m為主體而構(gòu)成，該突出部g設(shè)置于蓋3且為圓柱狀，該導(dǎo)向槽m形成于轉(zhuǎn)印用具主體1的主體殼體11并呈在接合于所述突出部g的前側(cè)向下方彎曲的形狀。

如果對將處于使用位置(u)的蓋3向被覆位置(c)進行位置變更時的動作進行說明，則如下所述。

通過用手指使滑塊2向前方滑動，位于該滑塊2的前側(cè)并以能夠轉(zhuǎn)動的方式被支持于該滑塊2的蓋3，與滑塊2一并在主體殼體11上滑動并朝向前方移動。此時，蓋3的突出部g接合于主體殼體11的導(dǎo)向槽m的前后槽m1，在大體保持著使用位置(u)的姿勢的狀態(tài)下向前側(cè)遷移。

接著，若蓋3的突出部g到達導(dǎo)向槽m的彎曲槽m2，則通過凸輪作用，圓柱狀的突出部g沿著彎曲槽m2被向下方導(dǎo)向，蓋3以被保持于滑塊2的旋轉(zhuǎn)軸x為中心向下方旋轉(zhuǎn)。

那樣之后，若蓋3的突出部g到達導(dǎo)向槽m的上下槽m3，則蓋3變?yōu)橄鄬τ谔幱谑褂梦恢?u)時的姿勢大致90°向下轉(zhuǎn)彎后的姿勢，變?yōu)槲挥谑沟瞄_口邊緣部3a與主體殼體11的開口部11a大致一致的被覆位置(c)。

處于被覆位置(c)的蓋3，其開口端邊緣3a抵接于或接近主體殼體11的開口部11a，抑制塵埃和/或污垢從外部進入的情況并且抑制糊料變干的情況。另外，在蓋3的軸支持部35之間的間隙sk配置有在滑塊2所設(shè)置的閉塞構(gòu)件242a，抑制塵埃和/或污垢從外部進入的情況。

使處于被覆位置(c)的蓋3向使用位置(u)進行位置變更時的動作，經(jīng)上述的順序的相反順序而進行。

如以上說明了的那樣，本實施方式涉及的轉(zhuǎn)印用具t具備：轉(zhuǎn)印用具主體1，具有用于對作為轉(zhuǎn)印物的糊料進行轉(zhuǎn)印的轉(zhuǎn)印頭12；滑塊2，以能夠滑動的方式被保持于該轉(zhuǎn)印用具主體1；和蓋3，被支持于該滑塊2并具有遮蓋所述轉(zhuǎn)印頭12的形狀。而且，具備導(dǎo)向機構(gòu)g，該導(dǎo)向機構(gòu)g使所述蓋3伴隨所述滑塊2的滑動操作，在被覆所述轉(zhuǎn)印頭12的被覆位置(c)與從所述轉(zhuǎn)印頭12退避開的使用位置(u)之間進行位置變更。因此，能夠提供：用于通過對蓋3進行滑動操作來適宜地覆蓋轉(zhuǎn)印頭12的設(shè)計自由度優(yōu)異的轉(zhuǎn)印用具t。即，蓋3具有遮蓋轉(zhuǎn)印頭12的形狀，因此適宜地覆蓋轉(zhuǎn)印頭12。進一步，具有使蓋3伴隨滑塊2的滑動操作在被覆位置(c)與使用位置(u)之間進行位置變更的導(dǎo)向機構(gòu)g，因此，能夠通過滑塊2的滑動操作這一簡單的操作使具有預(yù)定形狀的蓋3進行位置變更。蓋3適宜地覆蓋轉(zhuǎn)印頭12，因此，在被覆位置(c)抑制塵埃和/或污垢從外部進入、減少塵埃和/或污垢附著于轉(zhuǎn)印頭12的情況。進一步，蓋12適宜地覆蓋轉(zhuǎn)印頭12，因此，在被覆位置(c)適宜地抑制作為轉(zhuǎn)印物的糊料被誤轉(zhuǎn)印的情況。而且，蓋12適宜地覆蓋轉(zhuǎn)印頭12，因此，在被覆位置(c)能夠適宜地抑制作為轉(zhuǎn)印物的糊料干燥的情況。

另外，在該實施方式中，通過使轉(zhuǎn)印用具主體1保持支持著蓋3的滑塊2，能夠?qū)崿F(xiàn)預(yù)期的目的。因此，如果是該實施方式中的轉(zhuǎn)印用具t，則抑制了用于被覆轉(zhuǎn)印頭12的必要的零部件數(shù)量，而且，能夠用簡單的構(gòu)造來實現(xiàn)用于被覆轉(zhuǎn)印頭12的單元。

所述蓋3被支持為能夠相對于所述滑塊2轉(zhuǎn)動。而且，所述導(dǎo)向機構(gòu)g具備：形成于所述蓋3的突出部g；和導(dǎo)向槽m，形成于轉(zhuǎn)印用具主體1，作為接合于所述突出部g的突出部抵接部。因此，導(dǎo)向槽m形成于轉(zhuǎn)印用具主體1，所以能夠以強度優(yōu)異的形態(tài)容易地形成具有一定長度的導(dǎo)向槽m。

所述轉(zhuǎn)印用具主體1具備：主體殼體11，在內(nèi)部收置有轉(zhuǎn)印物；和所述轉(zhuǎn)印頭12，在該主體殼體11的前側(cè)突出地配置。而且，所述蓋3具備側(cè)壁30、31，該側(cè)壁30、31形成為，在所述被覆位置(c)位于所述轉(zhuǎn)印頭12的左右兩側(cè)并且后端邊緣30e、31e沿著所述主體殼體11的前端邊緣111a、112a。因此，在被覆位置(c)，蓋3的側(cè)壁30、31能夠緊貼或接近主體殼體11的前端邊緣111a、112a，因此，容易實現(xiàn)用于從外部遮擋內(nèi)部空間sp的構(gòu)造。

所述滑塊2被保持于所述轉(zhuǎn)印用具主體1的上側(cè)的部位。因此，蓋3在使用位置(u)位于轉(zhuǎn)印用具主體1的上側(cè)，所以，能夠適宜地抑制蓋3在使用時成為障礙的情況。而且，使用者通過使配置于轉(zhuǎn)印用具主體1的上側(cè)的滑塊2滑動，就能夠使蓋3從被覆位置(c)轉(zhuǎn)移到使用位置(u)并在該狀態(tài)之后立刻開始進行轉(zhuǎn)印作業(yè)。更具體而言，則使用者使用例如食指或大拇指使滑塊2滑動而使蓋3轉(zhuǎn)移到使用位置(u)，能夠在所述食指或大拇指放在滑塊2上的狀態(tài)下直接開始進行轉(zhuǎn)印作業(yè)。因此，如果是該轉(zhuǎn)印用具t，則通過使用者的一個動作，就能使蓋3從被覆位置(c)轉(zhuǎn)移到使用位置(u)并且開始進行轉(zhuǎn)印作業(yè)，使用便利性優(yōu)異。

所述滑塊2構(gòu)成為，在所述被覆位置(c)和所述使用位置(u)相對于所述轉(zhuǎn)印用具主體1能夠節(jié)制接合。因此，滑塊2以及蓋3能夠適宜地維持被覆位置(c)，并且能夠適宜地維持使用位置(u)。

此外，本發(fā)明不限定于以上詳述了的實施方式。

轉(zhuǎn)印用具只要是將轉(zhuǎn)印物轉(zhuǎn)印于轉(zhuǎn)印對象物則是什么樣的都可以。換言之，轉(zhuǎn)印物不限定于本實施方式所示的糊料，例如，也可以是涂改用的涂改劑(涂改帶)和/或裝飾用的裝飾劑(裝飾帶)。進一步，轉(zhuǎn)印用具也并不一定限定于利用轉(zhuǎn)印帶的用具，例如，也可以經(jīng)由轉(zhuǎn)印輥來涂敷墨和/或糊料。

轉(zhuǎn)印端，只要發(fā)揮將轉(zhuǎn)印帶按壓到轉(zhuǎn)印對象面的功能即可，不限定于本實施方式所示的轉(zhuǎn)印端。作為轉(zhuǎn)印端，例如，也可以舉出：利用板面將轉(zhuǎn)印帶按壓于轉(zhuǎn)印對象面的板狀構(gòu)件等。

構(gòu)成轉(zhuǎn)印用具主體的轉(zhuǎn)印頭不限定于本實施方式中所示的轉(zhuǎn)印頭。例如，也可以：在作為保持有轉(zhuǎn)印物的更換部件的替換件(refill)設(shè)置轉(zhuǎn)印頭，由該替換件和主體殼體構(gòu)成轉(zhuǎn)印用具主體。換言之，轉(zhuǎn)印用具不限定于上述的實施方式所示那樣、在轉(zhuǎn)印帶用完了的情況下以后就無法使用的所謂一次性轉(zhuǎn)印用具。

導(dǎo)向機構(gòu)不限定于利用凸輪的機構(gòu)，可以考慮各種機構(gòu)。作為導(dǎo)向機構(gòu)，例如，也可以使用一端以能夠轉(zhuǎn)動的方式被支持于轉(zhuǎn)印用具主體并且另一端以能夠轉(zhuǎn)動的方式被支持于蓋的聯(lián)桿。

導(dǎo)向機構(gòu)也可以為：在所述轉(zhuǎn)印用具主體形成突出部，在蓋設(shè)置與該突出部接合的突出部抵接部。

此外，關(guān)于各部分的具體構(gòu)成不限定于上述實施方式，可以在不脫離本發(fā)明主旨的范圍內(nèi)進行各種變形。

【符號說明】

1…轉(zhuǎn)印用具主體

2…滑塊

3…蓋

12…轉(zhuǎn)印頭

g…導(dǎo)向機構(gòu)

(c)…被覆位置

(u)…使用位置