背景技術(shù)：

流體噴射裝置，比如噴墨打印系統(tǒng)中的打印頭，可使用熱電阻或壓電材料膜作為流體室內(nèi)的致動器，以從噴嘴噴射流體液滴(例如，墨水)，使得當(dāng)打印頭和打印介質(zhì)相對于彼此移動時，來自噴嘴的墨水液滴的適當(dāng)順序的噴射使字符或其它的圖像被打印在打印介質(zhì)上。

附圖說明

圖1是框圖，圖示了包括流體噴射裝置的示例的噴墨打印系統(tǒng)的一個示例。

圖2是示意性平面圖，圖示了流體噴射裝置的一部分的示例。

圖3是示意性平面圖，圖示了流體噴射裝置的一部分的示例。

圖4是示意性平面圖，圖示了流體噴射裝置的一部分的示例。

圖5是示意性平面圖，圖示了流體噴射裝置的一部分的示例。

圖6是示意性平面圖，圖示了流體噴射裝置的一部分的示例。

圖7是示意性平面圖，圖示了流體噴射裝置的一部分的示例。

圖8是示意性平面圖，圖示了流體噴射裝置的一部分的示例。

圖9是示意性平面圖，圖示了流體噴射裝置的一部分的示例。

圖10是示意性平面圖，圖示了流體噴射裝置的一部分的示例。

圖11是示意性平面圖，圖示了流體噴射裝置的一部分的示例。

圖12是示意性平面圖，圖示了流體噴射裝置的一部分的示例。

圖13是示意性平面圖，圖示了流體噴射裝置的一部分的示例。

圖14是流程圖，圖示了形成流體噴射裝置的方法的示例。

具體實施方式

在以下的詳細描述中，對附圖作出參考，附圖形成本文的一部分，并且其中以圖示的方法示出了其中本公開可被實踐的具體示例。將理解的是，在不偏離本公開的范圍的情況下，可利用其它的示例并且可作出結(jié)構(gòu)的或邏輯的改變。

圖1圖示了噴墨打印系統(tǒng)的一個示例，作為具有流體循環(huán)的流體噴射裝置的示例，如本文中所公開的。噴墨打印系統(tǒng)100包括打印頭組件102、墨水供給組件104、安裝組件106、介質(zhì)傳送組件108、電子控制器110、和給噴墨打印系統(tǒng)100的各種電部件提供功率的至少一個電源112。打印頭組件102包括至少一個流體噴射組件114(打印頭114)，其通過多個孔口或噴嘴116朝打印介質(zhì)118噴射墨水液滴，從而打印在打印介質(zhì)118上。

打印介質(zhì)118可以是任何類型的適合的片材或卷材，比如紙、制卡片的紙料(cardstock)、透明物、邁拉(mylar)等等。噴嘴116通常以一個或更多個列或陣列布置，使得當(dāng)打印頭組件102和打印介質(zhì)118相對于彼此移動時，來自噴嘴116的墨水的適當(dāng)順序的噴射使字符、符號、和/或其它的圖形或圖像被打印在打印介質(zhì)118上。

墨水供給組件104給打印頭組件102供給流體墨水，并且，在一個示例中，包括用于存儲墨水的貯器120，使得墨水從貯器120流動至打印頭組件102。墨水供給組件104和打印頭組件102可形成單向墨水輸送系統(tǒng)或再循環(huán)墨水輸送系統(tǒng)。在單向墨水輸送系統(tǒng)中，供給到打印頭組件102的墨水的大體全部在打印期間被消耗。在再循環(huán)墨水輸送系統(tǒng)中，供給到打印頭組件102的墨水的僅一部分在打印期間被消耗。打印期間沒被消耗的墨水回到墨水供給組件104。

在一個示例中，打印頭組件102和墨水供給組件104一起被容納在噴墨盒或噴墨筆中。在另一個示例中，墨水供給組件104從打印頭組件102分離，并且通過比如供給管的接口連接部將墨水供給至打印頭組件102。在任何一個示例中，墨水供給組件104的貯器120可被移除、更換和/或再填充。在打印頭組件102和墨水供給組件104一起被容納在噴墨盒中的情況下，貯器120包括定位在盒內(nèi)的局部貯器以及與盒分離定位的較大的貯器。分離的較大的貯器用于再填充局部貯器。因此，分離的較大的貯器和/或局部貯器可被移除、更換和/或再填充。

安裝組件106使打印頭組件102相對于介質(zhì)傳送組件108定位，介質(zhì)傳送組件108使打印介質(zhì)118相對于打印頭組件102定位。因此，打印區(qū)域122被限定在打印頭組件102與打印介質(zhì)118之間的區(qū)域中鄰近噴嘴116。在一個示例中，打印頭組件102是掃描類型的打印頭組件。這樣，安裝組件106包括滑動架，用于使打印頭組件102相對于介質(zhì)傳送組件108移動以便掃描打印介質(zhì)118。在另一個示例中，打印頭組件102是非掃描類型的打印頭組件。這樣，安裝組件106使打印頭組件102相對于介質(zhì)傳送組件108固定在指定位置處。因此，介質(zhì)傳送組件108使打印介質(zhì)118相對于打印頭組件102定位。

電子控制器110通常包括處理器、固件、軟件、包括易失性存儲器部件和非易失性存儲器部件的一個或更多個存儲器部件、和用于與打印頭組件102、安裝組件106和介質(zhì)傳送組件108通信并控制打印頭組件102、安裝組件106和介質(zhì)傳送組件108的其它的打印機電子器件。電子控制器110從比如計算機的主機系統(tǒng)接收數(shù)據(jù)124，并且將數(shù)據(jù)124暫時存儲在存儲器中。通常，數(shù)據(jù)124沿著電子的、紅外的、光學(xué)的、或其它的信息傳遞路徑被發(fā)送給噴墨打印系統(tǒng)100。例如，數(shù)據(jù)124代表將要打印的文獻和/或文檔。這樣，數(shù)據(jù)124形成噴墨打印系統(tǒng)100的打印作業(yè)，并且包括一個或更多個打印作業(yè)命令和/或命令參數(shù)。

在一個示例中，電子控制器110控制打印頭組件102，用于從噴嘴116噴射墨水液滴。從而，電子控制器110限定在打印介質(zhì)118上形成字符、符號、和/或其它的圖形或圖像的噴射墨水液滴的圖案。噴射墨水液滴的圖案由打印作業(yè)命令和/或命令參數(shù)決定。

打印頭組件102包括一個或更多個打印頭114。在一個示例中，打印頭組件102是寬陣列或多頭打印頭組件。在寬陣列組件的一個實施方式中，打印頭組件102包括載體，該載體攜帶多個打印頭114、提供打印頭114與電子控制器110之間的電通信、并提供打印頭114與墨水供給組件104之間的流體連通。

在一個示例中，噴墨打印系統(tǒng)100是按需滴墨(drop-on-demand)熱噴墨打印系統(tǒng)，其中打印頭114是熱噴墨(tij)打印頭。熱噴墨打印頭在墨水室中實施熱電阻噴射元件，以便汽化墨水并產(chǎn)生強制墨水或其它流體液滴離開噴嘴116的氣泡。在另一個示例中，噴墨打印系統(tǒng)100是按需滴墨的壓電噴墨打印系統(tǒng)，其中打印頭114是壓電噴墨(pij)打印頭，該打印頭實施壓電材料致動器作為噴射元件，以便產(chǎn)生強制墨水液滴離開噴嘴116的壓力脈沖。

在一個示例中，電子控制器110包括存儲在控制器110的存儲器中的流動循環(huán)模塊126。流動循環(huán)模塊126在電子控制器110(也就是，控制器110的處理器)上執(zhí)行，以便控制整體形成為打印頭組件102內(nèi)的泵元件的一個或更多個流體致動器的操作，從而控制打印頭組件102內(nèi)的流體循環(huán)。

圖2是示意性平面圖，圖示了流體噴射裝置200的一部分的示例。流體噴射裝置200包括：第一流體噴射室202和對應(yīng)的液滴噴射元件204，該液滴噴射元件204形成在流體噴射室202中、設(shè)置在流體噴射室202內(nèi)、或與流體噴射室202連通；以及第二流體噴射室203和對應(yīng)的液滴噴射元件205，該液滴噴射元件205形成在流體噴射室203中、設(shè)置在流體噴射室203內(nèi)、或與流體噴射室203連通。

在一個示例中，流體噴射室202和203和液滴噴射元件204和205形成在基底206上，該基底206具有形成在其中的流體(或墨水)進給槽208，使得流體進給槽208給流體噴射室202和203和液滴噴射元件204和205提供流體(或墨水)供給。流體進給槽208包括：形成在基底206中或形成通過基底206的例如孔、通道、開口、凸形幾何形狀或其它的流體構(gòu)造，流體可由上述流體構(gòu)造或通過上述流體構(gòu)造被供給到流體噴射室202和203；并且可包括與一個(即，單個)或多于一個的流體噴射室流體連通的一個(即，單個)或多于一個(例如，一系列)的這樣的孔、通道、開口、凸形幾何形狀或其它的流體構(gòu)造；并且可具有圓形的、非圓形的或其它的形狀?；?06可例如由硅、玻璃或穩(wěn)定的聚合物形成。

在一個示例中，流體噴射室202和203被形成在設(shè)置在基底206上的阻擋層(未示出)中或由該阻擋層限定，使得流體噴射室202和203各自在阻擋層中提供“井(well)”。阻擋層可由例如可成像的環(huán)氧樹脂(比如su8)形成。

在一個示例中，噴嘴或孔口層(未示出)形成在阻擋層之上或在阻擋層之上延伸，以便使形成在孔口層中的噴嘴開口或孔口212和213與各自的流體噴射室202和203連通。噴嘴開口或孔口212和213可具有圓形的、非圓形的或其它的形狀。盡管被圖示成具有相同的形狀，然而噴嘴開口或孔口212和213可具有不同的形狀(例如，一個圓形的，一個非圓形的)。

在圖2圖示的示例中，噴嘴開口或孔口212和213具有不同的大小(例如，不同的直徑、有效直徑、或最大尺寸)。提供具有不同大小的噴嘴開口或孔口212和213允許從各自的流體噴射室202和203噴射不同的液滴大小(重量)。另外，可在不同的時刻(例如，順序地)分離地或獨立地操作液滴噴射元件204和205，以便產(chǎn)生具有不同大小(重量)的液滴，或同時地操作，以便產(chǎn)生具有組合大小(重量)的組合液滴。盡管被圖示成具有不同的大小，然而噴嘴開口或孔口212和213可具有相同的大小。

液滴噴射元件204和205可以是能夠噴射流體液滴通過對應(yīng)的噴嘴開口或孔口212和213的任何裝置。液滴噴射元件204和205的示例包括：熱電阻，或壓電致動器。作為液滴噴射元件的示例，熱電阻通常形成在基底(基底206)的表面上，并且包括薄膜堆疊部，包括氧化物層、金屬層和鈍化層，使得，當(dāng)被激活時，來自熱電阻的熱將對應(yīng)的流體噴射室202或203中的流體汽化，從而產(chǎn)生氣泡，該氣泡將流體液滴噴射通過對應(yīng)的噴嘴開口或孔口212或213。作為液滴噴射元件的示例，壓電致動器通常包括設(shè)置在與對應(yīng)的流體噴射室202或203連通的可移動膜上的壓電材料，使得，當(dāng)被激活時，壓電材料引起膜相對于對應(yīng)的流體噴射室202或203的偏轉(zhuǎn)，從而產(chǎn)生壓力脈沖，該壓力脈沖將流體液滴噴射通過對應(yīng)的噴嘴開口或孔口212或213。

如圖2的示例中圖示的，流體噴射裝置200包括流體循環(huán)路徑或通道220和流體循環(huán)元件222，該流體循環(huán)元件222形成在流體循環(huán)通道220中、設(shè)置在流體循環(huán)通道220內(nèi)、或與流體循環(huán)通道220連通。流體循環(huán)通道220在一端224處通向流體進給槽208并與流體進給槽208連通，在另一端226處通向流體噴射室202并與流體噴射室202連通。

在一個示例中，流體循環(huán)通道220的端部226在流體噴射室202的端部202a處與流體噴射室202連通。在一個示例中，流體噴射室203設(shè)置在端部224與端部226之間的流體循環(huán)通道220中、沿著端部224與端部226之間的流體循環(huán)通道220設(shè)置、或與在端部224與端部226之間的流體循環(huán)通道220連通。更具體地，在一個示例中，流體噴射室203設(shè)置在流體循環(huán)元件222與流體噴射室202之間的流體循環(huán)通道220中、沿著流體循環(huán)元件222與流體噴射室202之間的流體循環(huán)通道220設(shè)置、或與在流體循環(huán)元件222與流體噴射室202之間的流體循環(huán)通道220連通。在一個示例中，并且如以下進一步描述的，流體噴射室203的位置可沿著流體循環(huán)通道220變化。

流體循環(huán)元件222形成或表示致動器，以泵送流體通過流體循環(huán)通道220或使流體循環(huán)(或再循環(huán))通過流體循環(huán)通道220。這樣，來自流體進給槽208的流體基于由流體循環(huán)元件222引起的流動而循環(huán)(或再循環(huán))通過流體循環(huán)通道220和流體噴射室202和203。在一個示例中，使流體循環(huán)(或再循環(huán))通過流體噴射室202和203幫助減少流體噴射裝置200中的墨水阻塞和/或堵塞。

在圖2所圖示的示例中，液滴噴射元件204和205和流體循環(huán)元件222各自是熱電阻。熱電阻中的每個可包括例如單個電阻、分割電阻(splitresistor)、梳形電阻(combresistor)、或多個電阻。然而，也可使用各種各樣的其它裝置來實施液滴噴射元件204和205和流體循環(huán)元件222，包括例如壓電致動器、靜電(mems)膜、機械/碰撞驅(qū)動膜、音圈、磁致伸縮驅(qū)動器等等。

在一個示例中，流體循環(huán)通道220包括：路徑或通道部分230，其與流體進給槽208和流體噴射室203連通，并且在流體進給槽208與流體噴射室203之間延伸；和路徑或通道部分232，其與流體噴射室203和流體噴射室202連通，并且在流體噴射室203與流體噴射室202之間延伸。這樣，在一個示例中，流體循環(huán)通道220中的流體在流體進給槽208與流體噴射室203之間循環(huán)(或再循環(huán))通過通道部分230，并且在流體進給槽208與流體噴射室202之間循環(huán)(或再循環(huán))通過通道部分230和通道部分232，包括通過流體噴射室203。

在一個示例中，流體循環(huán)通道220在流體進給槽208、流體噴射室203與流體噴射室202之間形成流體循環(huán)(或再循環(huán))環(huán)路。例如，來自流體進給槽208的流體循環(huán)(或再循環(huán))通過流體循環(huán)通道220、通過流體噴射室203、并通過流體噴射室202回到流體進給槽208。更具體地，來自流體進給槽208的流體循環(huán)(或再循環(huán))通過通道部分230、通過流體噴射室203、通過通道部分232、并通過流體噴射室202回到流體進給槽208。

在一個示例中，通道部分230使流體在如由箭頭230a指示的第一方向和如由箭頭230b指示的與第一方向相反的第二方向循環(huán)(或再循環(huán))。另外，通道部分232使流體在如由箭頭232a指示的第二方向循環(huán)(或再循環(huán))。這樣，在一個示例中，流體循環(huán)通道220使流體在第一方向(箭頭230a)在流體循環(huán)元件222與流體噴射室203之間循環(huán)，并且使流體在與第一方向相反的第二方向(箭頭232a)在流體噴射室203與流體噴射室202之間循環(huán)，并且使流體在第一方向(箭頭230a)和第二方向(箭頭230b)在流體循環(huán)元件222與流體噴射室203之間循環(huán)。

在一個示例中，為了提供在由箭頭230a指示的第一方向和由箭頭230b指示的相反的第二方向的流體流，通道部分230包括通道環(huán)路231。在一個示例中，通道環(huán)路231包括流體循環(huán)通道220的u形部分，使得通道部分230的長度(或部分)和通道部分232的長度(或部分)彼此間隔開且彼此大體平行定向。

在一個示例中，通道部分230的寬度和通道部分232的寬度是大體相等的。另外，通道部分230的長度大于通道部分232的長度。此外，如在圖2的示例中圖示的，通道部分230的寬度小于流體噴射室203的寬度，并且通道部分232的寬度小于流體噴射室203和流體噴射室202的寬度。這樣，通道部分232在流體噴射室203與流體噴射室202之間形成約束部或“收縮部(pinch)”。在一個示例中，這樣的約束部或“收縮部”幫助減輕流體噴射室203與流體噴射室202之間的交叉串?dāng)_(cross-talk)。

圖3是示意性平面圖，圖示了流體噴射裝置300的一部分的示例。與流體噴射裝置200相似，流體噴射裝置300包括：帶有對應(yīng)的液滴噴射元件304的第一流體噴射室302、和帶有對應(yīng)的液滴噴射元件305的第二流體噴射室303，使得噴嘴開口或孔口312和313與各自的流體噴射室302和303連通。另外，在一個示例中，流體噴射裝置300包括帶有對應(yīng)的流體循環(huán)元件322的流體循環(huán)路徑或通道320，其中，流體循環(huán)通道320包括：路徑或通道部分330，其與流體進給槽308和流體噴射室303連通，并且在流體進給槽308與流體噴射室303之間延伸；和路徑或通道部分332，其與流體噴射室303和流體噴射室302連通，并且在流體噴射室303與流體噴射室302之間延伸。

與流體噴射裝置200的流體循環(huán)通道220相似，流體噴射裝置300的流體循環(huán)通道320在流體進給槽308、流體噴射室303與流體噴射室302之間形成流體循環(huán)(或再循環(huán))環(huán)路。例如，來自流體進給槽308的流體循環(huán)(或再循環(huán))通過流體循環(huán)通道320、通過流體噴射室303、并通過流體噴射室302回到流體進給槽308。更具體地，來自流體進給槽308的流體循環(huán)(或再循環(huán))通過通道部分330、通過流體噴射室303、通過通道部分332、并通過流體噴射室302回到流體進給槽308。在一個示例中，并且與流體噴射裝置200的通道部分230相似，通道部分330包括通道環(huán)路331，其中通道環(huán)路331包括流體循環(huán)通道320的u形部分。

如圖3的示例中圖示的，通道部分332的寬度大于通道部分330的寬度。更具體地，在一個示例中，通道部分332的寬度與流體噴射室303的寬度大體相同。這樣，通道部分332提供了流體噴射室303與流體噴射室302之間的徑直的或“全寬度”的連通。

圖4是示意性平面圖，圖示了流體噴射裝置400的一部分的示例。與流體噴射裝置300相似，流體噴射裝置400包括：帶有對應(yīng)的液滴噴射元件404的第一流體噴射室402、和帶有對應(yīng)的液滴噴射元件405的第二流體噴射室403，使得噴嘴開口或孔口412和413與各自的流體噴射室402和403連通。另外，在一個示例中，流體噴射裝置400包括帶有對應(yīng)的流體循環(huán)元件422的流體循環(huán)路徑或通道420，其中，流體循環(huán)通道420包括：路徑或通道部分430，其與流體進給槽408和流體噴射室403連通，并且在流體進給槽408與流體噴射室403之間延伸；和路徑或通道部分432，其與流體噴射室403和流體噴射室402連通，并且在流體噴射室403與流體噴射室402之間延伸。

與流體噴射裝置300的流體循環(huán)通道320相似，流體噴射裝置400的流體循環(huán)通道420在流體進給槽408、流體噴射室403與流體噴射室402之間形成流體循環(huán)(或再循環(huán))環(huán)路。例如，來自流體進給槽408的流體循環(huán)(或再循環(huán))通過流體循環(huán)通道420、通過流體噴射室403、并通過流體噴射室402回到流體進給槽408。更具體地，來自流體進給槽408的流體循環(huán)(或再循環(huán))通過通道部分430、通過流體噴射室403、通過通道部分432、并通過流體噴射室402回到流體進給槽408。在一個示例中，并且與流體噴射裝置300的通道部分330相似，通道部分430包括通道環(huán)路431，其中通道環(huán)路431包括流體循環(huán)通道420的u形部分。

如圖4的示例中圖示的，流體噴射裝置400包括顆粒耐受(particletolerant)構(gòu)造440。顆粒耐受構(gòu)造440包括例如支柱、柱、樁或其它結(jié)構(gòu)(或多個結(jié)構(gòu))，其形成在流體循環(huán)通道420中或被設(shè)置在流體循環(huán)通道420內(nèi)。在一個示例中，顆粒耐受構(gòu)造440被形成在流體噴射室403與流體噴射室402之間的流體循環(huán)通道420內(nèi)。

在一個示例中，顆粒耐受構(gòu)造440在流體循環(huán)通道420中形成“島”，其允許流體繞其流動并進入流體噴射室402中，同時防止顆粒，比如空氣氣泡或其它的顆粒(例如，灰塵、纖維)通過流體循環(huán)通道420流入流體噴射室402中。另外，顆粒耐受構(gòu)造440還幫助防止空氣氣泡和/或其它的顆粒從流體噴射室402進入流體噴射室403。這樣的顆粒，如果被允許進入流體噴射室402或流體噴射室403，可能會影響流體噴射裝置400的性能。此外，顆粒耐受構(gòu)造440通過幫助控制(contain)液滴噴射的驅(qū)動能量來幫助增加背壓，并因此增加來自流體噴射室402或流體噴射室403的液滴噴射的噴發(fā)動量。

圖5是示意性平面圖，圖示了流體噴射裝置500的一部分的示例。與流體噴射裝置400相似，流體噴射裝置500包括：帶有對應(yīng)的液滴噴射元件504的第一流體噴射室502、和帶有對應(yīng)的液滴噴射元件505的第二流體噴射室503，使得噴嘴開口或孔口512和513與各自的流體噴射室502和503連通。另外，在一個示例中，流體噴射裝置500包括帶有對應(yīng)的流體循環(huán)元件522的流體循環(huán)路徑或通道520，其中，流體循環(huán)通道520包括：路徑或通道部分530，其與流體進給槽508和流體噴射室503連通，并且在流體進給槽508與流體噴射室503之間延伸；和路徑或通道部分532，其與流體噴射室503和流體噴射室502連通，并且在流體噴射室503與流體噴射室502之間延伸。

與流體噴射裝置400的流體循環(huán)通道420相似，流體噴射裝置500的流體循環(huán)通道520在流體進給槽508、流體噴射室503與流體噴射室502之間形成流體循環(huán)(或再循環(huán))環(huán)路。例如，來自流體進給槽508的流體循環(huán)(或再循環(huán))通過流體循環(huán)通道520、通過流體噴射室503、并通過流體噴射室502回到流體進給槽508。更具體地，來自流體進給槽508的流體循環(huán)(或再循環(huán))通過通道部分530、通過流體噴射室503、通過通道部分532、并通過流體噴射室502回到流體進給槽508。在一個示例中，并且與流體噴射裝置400的通道部分430相似，通道部分530包括通道環(huán)路531，其中通道環(huán)路531包括流體循環(huán)通道520的u形部分。

如圖5的示例中圖示的，流體噴射裝置500包括在流體噴射室503與流體噴射室502之間的流體循環(huán)通道520內(nèi)的顆粒耐受構(gòu)造540，并且包括在流體進給槽508與流體噴射室502之間的顆粒耐受構(gòu)造542。顆粒耐受構(gòu)造540和顆粒耐受構(gòu)造542包括例如支柱、柱、樁或其它結(jié)構(gòu)(或多個結(jié)構(gòu))。這樣，顆粒耐受構(gòu)造540和顆粒耐受構(gòu)造542形成“島”，其允許流體繞其流動，同時防止顆粒，比如空氣氣泡或其它的顆粒(例如，灰塵、纖維)通過流體循環(huán)通道520流入流體噴射室502中，從流體噴射室502流入流體噴射室503中，以及從流體進給槽508流入流體噴射室502中。

圖6是示意性平面圖，圖示了流體噴射裝置600的一部分的示例。與流體噴射裝置200相似，流體噴射裝置600包括：帶有對應(yīng)的液滴噴射元件604的第一流體噴射室602、和帶有對應(yīng)的液滴噴射元件605的第二流體噴射室603，使得噴嘴開口或孔口612和613與各自的流體噴射室602和603連通。另外，在一個示例中，流體噴射裝置600包括帶有對應(yīng)的流體循環(huán)元件622的流體循環(huán)路徑或通道620，其中，流體循環(huán)通道620包括：路徑或通道部分630，其與流體進給槽608和流體噴射室603連通，并且在流體進給槽608與流體噴射室603之間延伸；和路徑或通道部分632，其與流體噴射室603和流體噴射室602連通，并且在流體噴射室603與流體噴射室602之間延伸。

與流體噴射裝置200的流體循環(huán)通道220相似，流體噴射裝置600的流體循環(huán)通道620在流體進給槽608、流體噴射室603與流體噴射室602之間形成流體循環(huán)(或再循環(huán))環(huán)路。例如，來自流體進給槽608的流體循環(huán)(或再循環(huán))通過流體循環(huán)通道620、通過流體噴射室603、并通過流體噴射室602回到流體進給槽608。更具體地，來自流體進給槽608的流體循環(huán)(或再循環(huán))通過通道部分630、通過流體噴射室603、通過通道部分632、并通過流體噴射室602回到流體進給槽608。在一個示例中，并且與流體噴射裝置200的通道部分230相似，通道部分630包括通道環(huán)路631，其中通道環(huán)路631包括流體循環(huán)通道620的u形部分。

如圖6的示例中圖示的，流體循環(huán)通道620的通道部分632包括(例如，與流體循環(huán)通道220的通道部分232相比的)“長的”或“延伸長度的”路徑。例如，如圖6中圖示的，通道部分632在側(cè)面603b處與流體噴射室603連通，并且在側(cè)面602b處與流體噴射室602連通，使得在流體噴射室603與流體噴射室602之間的通道部分632的長度增加。在一個示例中，增加流體噴射室603與流體噴射室602之間的通道部分632的長度幫助將流體噴射室603從流體噴射室602“分離”，并且減輕流體噴射室603與流體噴射室602之間的交叉串?dāng)_。

圖7是示意性平面圖，圖示了流體噴射裝置700的一部分的示例。與流體噴射裝置200相似，流體噴射裝置700包括：帶有對應(yīng)的液滴噴射元件704的第一流體噴射室702、和帶有對應(yīng)的液滴噴射元件705的第二流體噴射室703，使得噴嘴開口或孔口712和713與各自的流體噴射室702和703連通。另外，在一個示例中，流體噴射裝置700包括帶有對應(yīng)的流體循環(huán)元件722的流體循環(huán)路徑或通道720，其中，流體循環(huán)通道720包括：路徑或通道部分730，其與流體進給槽708和流體噴射室703連通，并且在流體進給槽708與流體噴射室703之間延伸；和路徑或通道部分732，其與流體噴射室703和流體噴射室702連通，并且在流體噴射室703與流體噴射室702之間延伸。

與流體噴射裝置200的流體循環(huán)通道220相似，流體噴射裝置700的流體循環(huán)通道720在流體進給槽708、流體噴射室703與流體噴射室702之間形成流體循環(huán)(或再循環(huán))環(huán)路。例如，來自流體進給槽708的流體循環(huán)(或再循環(huán))通過流體循環(huán)通道720、通過流體噴射室703、并通過流體噴射室702回到流體進給槽708。更具體地，來自流體進給槽708的流體循環(huán)(或再循環(huán))通過通道部分730、通過流體噴射室703、通過通道部分732、并通過流體噴射室702回到流體進給槽708。

如在圖7的示例中圖示的，噴嘴開口或孔口213是非圓形的孔。另外，在一個示例中，流體循環(huán)通道720的通道部分730(例如，與流體循環(huán)通道220的通道環(huán)路231相比)是“短的”或“直接長度的”路徑。例如，如在圖7中圖示的，通道部分730在側(cè)面703d處與流體噴射室703連通。

圖8是示意性平面圖，圖示了流體噴射裝置800的一部分的示例。與流體噴射裝置200相似，流體噴射裝置800包括：帶有對應(yīng)的液滴噴射元件804的第一流體噴射室802、和帶有對應(yīng)的液滴噴射元件805的第二流體噴射室803，使得噴嘴開口或孔口812和813與各自的流體噴射室802和803連通。另外，在一個示例中，流體噴射裝置800包括帶有對應(yīng)的流體循環(huán)元件822的流體循環(huán)路徑或通道820，其中，流體循環(huán)通道820包括：路徑或通道部分830，其與流體進給槽808和流體噴射室803連通，并且在流體進給槽808與流體噴射室803之間延伸；和路徑或通道部分832，其與流體噴射室803和流體噴射室802連通，并且在流體噴射室803與流體噴射室802之間延伸。

與流體噴射裝置200的流體循環(huán)通道220相似，流體噴射裝置800的流體循環(huán)通道820在流體進給槽808、流體噴射室803與流體噴射室802之間形成流體循環(huán)(或再循環(huán))環(huán)路。例如，來自流體進給槽808的流體循環(huán)(或再循環(huán))通過流體循環(huán)通道820、通過流體噴射室803、并通過流體噴射室802回到流體進給槽808。更具體地，來自流體進給槽808的流體循環(huán)(或再循環(huán))通過通道部分830、通過流體噴射室803、通過通道部分832、并通過流體噴射室802回到流體進給槽808。在一個示例中，并且與流體噴射裝置200的通道部分230相似，通道部分830包括通道環(huán)路831，其中通道環(huán)路831包括流體循環(huán)通道820的u形部分。

在一個示例中，如在圖8中圖示的，噴嘴開口或孔口812和813具有相同的大小和形狀。這樣，噴嘴開口或孔口812和813允許噴射具有相同大小(重量)的液滴。相應(yīng)地，可在不同時刻分離地或獨立地操作液滴噴射元件804和805，以便產(chǎn)生具有相同大小(重量)的液滴，或者同時地操作，以便產(chǎn)生具有組合大小(重量)的組合液滴。

圖9是示意性平面圖，圖示了流體噴射裝置900的一部分的示例。與流體噴射裝置200相似，流體噴射裝置900包括：帶有對應(yīng)的液滴噴射元件904的第一流體噴射室902、和帶有對應(yīng)的液滴噴射元件905的第二流體噴射室903，使得噴嘴開口或孔口912和913與各自的流體噴射室902和903連通。另外，在一個示例中，流體噴射裝置900包括帶有對應(yīng)的流體循環(huán)元件922的流體循環(huán)路徑或通道920，其中，流體循環(huán)通道920包括：路徑或通道部分930，其與流體進給槽908和流體噴射室903連通，并且在流體進給槽908與流體噴射室903之間延伸；和路徑或通道部分932，其與流體噴射室903和流體噴射室902連通，并且在流體噴射室903與流體噴射室902之間延伸。

與流體噴射裝置200的流體循環(huán)通道220相似，流體噴射裝置900的流體循環(huán)通道920在流體進給槽908、流體噴射室903與流體噴射室902之間形成流體循環(huán)(或再循環(huán))環(huán)路。例如，來自流體進給槽908的流體循環(huán)(或再循環(huán))通過流體循環(huán)通道920、通過流體噴射室903、并通過流體噴射室902回到流體進給槽908。更具體地，來自流體進給槽908的流體循環(huán)(或再循環(huán))通過通道部分930、通過流體噴射室903、通過通道部分932、并通過流體噴射室902回到流體進給槽908。

在一個示例中，通道部分930使流體在如由箭頭930a指示的第一方向循環(huán)(或再循環(huán))。另外，通道部分932使流體在如由箭頭932a指示的第一方向和如由箭頭932b指示的與第一方向相反的第二方向循環(huán)(或再循環(huán))。這樣，在一個示例中，流體循環(huán)通道920使流體在第一方向(箭頭930a)在流體循環(huán)元件922與流體噴射室903之間循環(huán)，并且使流體在與第一方向相反的第二方向(箭頭932b)在流體噴射室903與流體噴射室902之間循環(huán)，并且使流體在第一方向(箭頭932a)和第二方向(箭頭932b)在流體噴射室903與流體噴射室902之間循環(huán)。

在一個示例中，為了提供在由箭頭932a指示的第一方向和由箭頭932b指示的相反的第二方向的流體流，通道部分932包括通道環(huán)路931。在一個示例中，通道環(huán)路931包括流體循環(huán)通道920的u形部分，使得通道部分930的長度(或部分)和通道部分932的長度(或部分)彼此間隔開且彼此大體平行定向。

與流體噴射裝置200的流體噴射室203相似，流體噴射裝置900的流體噴射室903設(shè)置在流體循環(huán)元件922與流體噴射室902之間的流體循環(huán)通道920中、沿著流體循環(huán)元件922與流體噴射室902之間的流體循環(huán)通道920設(shè)置、或與在流體循環(huán)元件922與流體噴射室902之間的流體循環(huán)通道920連通。然而，與流體噴射裝置200的流體循環(huán)通道220相比，在流體噴射室903與流體噴射室902之間的流體循環(huán)通道920的通道部分932的長度增加，使得通道部分932的長度大于通道部分930的長度。

另外，關(guān)于流體循環(huán)通道920，流體噴射室903設(shè)置在通道環(huán)路931的“上游”側(cè)(相對于從流體進給槽908通過通道部分930、通過流體噴射室903、通過通道部分932、并通過流體噴射室902回到流體進給槽908的流體流的方向)，相比之下，流體噴射裝置200的流體噴射室203設(shè)置在通道環(huán)路231的“下游”側(cè)。這樣，在一個示例中，增加通道部分932的長度，使得流體噴射室903與流體噴射室902之間的距離增加，并且將流體噴射室903設(shè)置在通道環(huán)路931的“上游”側(cè)，幫助將流體噴射室903從流體噴射室902“分離”，并且減輕流體噴射室903與流體噴射室902之間的交叉串?dāng)_。

圖10是示意性平面圖，圖示了流體噴射裝置1000的一部分的示例。在一個示例中，流體噴射裝置1000包括流體噴射裝置陣列，比如與如在圖6中圖示且在上文描述的流體噴射裝置600相似的流體噴射裝置600′陣列，其中流體噴射裝置600′包括例如“短的”或“直接長度的”路徑或通道部分，該路徑或通道部分相似于在流體進給槽708與流體噴射室703之間的通道部分730(圖7)，而非相似于在流體進給槽608與流體噴射室603之間的u形通道部分630(圖6)。在一個示例中，流體噴射裝置600′布置在流體進給槽608′的相對的側(cè)上，使得流體噴射裝置600′的對應(yīng)的噴嘴開口或孔口612′和613′以平行(大體平行)的列(或陣列)布置。

在一個示例中，流體噴射裝置1000的流體噴射裝置600′沿著流體進給槽608′的長度均勻布置或彼此等距離地隔開。更具體地，在一個示例中，相鄰的噴嘴開口或孔口612′和613′以距離或間距(pitch)p間隔開。如在圖10的示例中圖示的，流體進給槽608′的相對的側(cè)上的流體噴射裝置600′相對于彼此對準，以限定1x的dpi(點每英寸)網(wǎng)格。

圖11是示意性平面圖，圖示了流體噴射裝置1100的一部分的示例。在一個示例中，與流體噴射裝置1000相似，流體噴射裝置1100包括流體噴射裝置陣列，比如與如在圖6中圖示且在上文描述的流體噴射裝置600相似的流體噴射裝置600′的陣列，其中流體噴射裝置600′包括例如“短的”或“直接長度的”路徑或通道部分，該路徑或通道部分相似于流體進給槽708與流體噴射室703之間的通道部分730(圖7)，而非相似于流體進給槽608與流體噴射室603之間的u形通道部分630(圖6)。在一個示例中，流體噴射裝置600′布置在流體進給槽608′的相對的側(cè)上，使得流體噴射裝置600′的對應(yīng)的噴嘴開口或孔口612′和613′以平行(大體平行)的列(或陣列)布置。

在一個示例中，流體噴射裝置1100的流體噴射裝置600′沿著流體進給槽608′的長度均勻布置或彼此等距離地隔開。更具體地，在一個示例中，相鄰的噴嘴開口或孔口612′和613′以距離或間距p間隔開。如在圖11的示例中圖示的，流體進給槽608′的相對的側(cè)上的流體噴射裝置600′相對于彼此偏置和交錯，以限定2x的dpi(點每英寸)網(wǎng)格。

圖12是示意性平面圖，圖示了流體噴射裝置1200的一部分的示例。在一個示例中，流體噴射裝置1200包括流體噴射裝置陣列，比如如在圖5中圖示且在上文描述的流體噴射裝置500的陣列。在一個示例中，流體噴射裝置500布置在流體進給槽508的相對的側(cè)上，使得流體噴射裝置500的對應(yīng)的噴嘴開口或孔口512和513以平行(大體平行)的列(或陣列)布置。

在一個示例中，流體噴射裝置1200的流體噴射裝置500沿著流體進給槽508的長度均勻布置或彼此等距離地隔開。更具體地，在一個示例中，相鄰的噴嘴開口或孔口512和513以距離或間距p間隔開。如在圖12的示例中圖示的，流體進給槽508的相對的側(cè)上的流體噴射裝置500相對于彼此對準，以限定1.5x的dpi(點每英寸)網(wǎng)格。

圖13是示意性平面圖，圖示了流體噴射裝置1300的一部分的示例。在一個示例中，與流體噴射裝置1200相似，流體噴射裝置1300包括流體噴射裝置陣列，比如如在圖5中圖示且在上文描述的流體噴射裝置500的陣列。在一個示例中，流體噴射裝置500布置在流體進給槽508的相對的側(cè)上，使得流體噴射裝置500的對應(yīng)的噴嘴開口或孔口512和513以平行(大體平行的)的列(或陣列)布置。

在一個示例中，流體噴射裝置1300的流體噴射裝置500沿著流體進給槽508的長度均勻布置或彼此等距離地隔開。更具體地，在一個示例中，相鄰的噴嘴開口或孔口512和513以距離或間距p間隔開。如在圖13的示例中圖示的，流體進給槽508的相對的側(cè)上的流體噴射裝置500相對于彼此偏置和交錯，以限定3x的dpi(點每英寸)網(wǎng)格。

圖14是流程圖，圖示了形成流體噴射裝置的方法1400的示例，比如在圖2、3、4、5、6、7、8、9的各自的示例中圖示的流體噴射裝置200、300、400、500、600、700、800、900。

在1402處，方法1400包括限定具有第一液滴噴射元件的第一流體噴射室，比如具有各自的液滴噴射元件204、304、404、504、604、704、804、904的流體噴射室202、302、402、502、602、702、802、902。

在1404處，方法1400包括限定具有第二液滴噴射元件的第二流體噴射室，比如具有各自的液滴噴射元件205、305、405、505、605、705、805、905的流體噴射室203、303、403、503、603、703、803、903。

在1406處，方法1400包括限定具有流體循環(huán)元件的流體循環(huán)路徑，比如具有流體循環(huán)元件222、322、422、522、622、722、822、922的流體循環(huán)路徑或通道220、320、420、520、620、720、820、920。

在1408處，方法1400包括連通第一流體噴射室與流體槽，比如連通流體噴射室202、302、402、502、602、702、802、902與各自的流體進給槽208、308、408、508、608、708、808、908。

在1410處，方法1400包括連通流體循環(huán)路徑的第一部分與流體槽和第二流體噴射室，比如連通路徑或通道部分230、330、430、530、630、730、830、930與各自的流體進給槽208、308、408、508、608、708、808、908和各自的流體噴射室203、303、403、503、603、703、803、903。

在1412處，方法1400包括連通流體循環(huán)路徑的第二部分與第二流體噴射室和第一流體噴射室，比如連通路徑或通道部分232、332、432、532、632、732、832、932與各自的流體噴射室203、303、403、503、603、703、803、903和各自的流體噴射室202、302、402、502、602、702、802、902。

盡管被圖示和描述成分離的和/或順序的步驟，然而形成流體噴射裝置的方法可包括不同的步驟次序或順序，并且可組合一個或更多個步驟、或者同時地、部分地或全部地執(zhí)行一個或更多個步驟。

盡管已在本文中圖示并描述了特定的示例，然而本領(lǐng)域普通技術(shù)人員將理解的是，在不偏離本公開的范圍的情況下可用各種各樣的替代實施方式和/或等同實施方式替換所示出并描述的特定示例。本申請旨在覆蓋本文中討論的特定示例的任何改型或變型。