標(biāo)識刻字模具的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種標(biāo)識刻字模具，包括一上模鑲塊與一下模鑲塊，所述上模鑲塊是由一第一上模分塊與一第二上模分塊鑲拼而成的，所述第一上模分塊鑲嵌于所述第二上模分塊內(nèi)；所述下模鑲塊是由一第一下模分塊與一第二下模分塊鑲拼而成的，所述第一下模分塊與所述第一上模鑲塊相對應(yīng)的鑲嵌于所述第二下模分塊內(nèi)。本實(shí)用新型的標(biāo)識刻字模具，將上模鑲塊與下模鑲塊設(shè)計(jì)成鑲拼式的，由于所述上模鑲塊與所述下模鑲塊的各分塊的相鄰部位都是直角，所述上模鑲塊與所述下模鑲塊合模后，第一上模鑲塊配合第一下模分塊刻出的文字在凸起部位不會產(chǎn)生R角。大大減輕了修模、調(diào)模的次數(shù)，并且消除了產(chǎn)品不良風(fēng)險(xiǎn)。
【專利說明】標(biāo)識刻字模具
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型關(guān)于一種模具，尤其是指一種標(biāo)識刻字模具。
【背景技術(shù)】
[0002]在金屬材料上產(chǎn)生塑性變形，并充滿型腔，在工件上形成有起伏紋的工藝方法稱為壓印，刻字是壓印的一種，刻字多數(shù)情況下用于表記零件的名稱、日期、標(biāo)識等。現(xiàn)有的刻字模具如圖1所示，包括一上模鑲塊90與一下模鑲塊91，所述上模鑲塊90與下模鑲塊91均為一體成型的，所述上模鑲塊90上形成有一凹模腔901，所述下模鑲塊92上對應(yīng)所述凹模腔形成有一凸模911，如圖2所示，是用現(xiàn)有技術(shù)的刻字模具刻出的一種示例產(chǎn)品92的標(biāo)識示意圖，其中的文字DELL即為刻字部分，結(jié)合圖3以及圖4所示，由于上模鑲塊90與下模鑲塊91是整體式的，所以合模后產(chǎn)品92刻出的文字在凸起部位會產(chǎn)生R角(即圓角)93，達(dá)不到無壓痕、壓傷、R角的標(biāo)準(zhǔn)。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0003]有鑒于上述問題，本實(shí)用新型提供了一種標(biāo)識刻字模具，包括一上模鑲塊與一下模鑲塊，所述上模鑲塊是由一第一上模分塊與一第二上模分塊鑲拼而成的，所述第一上模分塊鑲嵌于所述第二上模分塊內(nèi)；
[0004]所述下模鑲塊是由一第一下模分塊與一第二下模分塊鑲拼而成的，所述第一下模分塊與所述第一上模鑲塊相對應(yīng)的鑲嵌于所述第二下模分塊內(nèi)。
[0005]本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)在于，所述第一上模分塊相對所述第二上模分塊內(nèi)凹，所述第一下模分塊相對所述第二下模分塊外凸。
[0006]本實(shí)用新型的標(biāo)識刻字模具，將上模鑲塊與下模鑲塊設(shè)計(jì)成鑲拼式的，由于所述上模鑲塊與所述下模鑲塊的各分塊的相鄰部位都是直角，所述上模鑲塊與所述下模鑲塊合模后，第一上模鑲塊配合第一下模分塊刻出的文字在凸起部位不會產(chǎn)生R角。大大減輕了修模、調(diào)模的次數(shù)，并且消除了產(chǎn)品不良風(fēng)險(xiǎn)。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0007]圖1是現(xiàn)有技術(shù)的刻字模具的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0008]圖2是用現(xiàn)有技術(shù)的刻字|旲具刻出的一種不例廣品的不意圖。
[0009]圖3是圖2中A-A面的斷面圖。
[0010]圖4是圖3中的局部放大示意圖。
[0011]圖5是本實(shí)用新型的標(biāo)識刻字模具的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0012]圖6是本實(shí)用新型的標(biāo)識刻字模具的分解示意圖。
[0013]圖7是用本實(shí)用新型的標(biāo)識刻字模具刻出的一種示例產(chǎn)品的示意圖。
【具體實(shí)施方式】[0014]為了使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實(shí)施例，對本實(shí)用新型進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅用以解釋本實(shí)用新型，并不用于限定本實(shí)用新型。
[0015]配合參看圖5所示，本實(shí)用新型的標(biāo)識刻字模具，包括一上模鑲塊10與一下模鑲塊20，所述上模鑲塊10是由一第一上模分塊101與一第二上模分塊102鑲拼而成的，結(jié)合圖6所不,所述第二上模分塊102上形成有一上模容置槽103,所述第一上模分塊101鑲嵌于該上模容置槽102內(nèi)，所述第一上模分塊101相對所述第二上模分塊102內(nèi)凹。
[0016]所述下模鑲塊20是由一第一下模分塊201與一第二下模分塊202鑲拼而成的，所述第二下模分塊202對應(yīng)所述第二上模分塊102形成有一下模容置槽203，所述第一下模分塊201鑲嵌于該下模容置槽203內(nèi)，所述第一下模分塊201相對所述第二下模分塊202外凸。
[0017]如圖7所不，是用本實(shí)用新型的標(biāo)識刻字|旲具刻出的一種不例廣品30的不意圖，所述上模鑲塊10與所述下模鑲塊20合模后，文字部分301為第一上模鑲塊101配合第一下模分塊102刻出的，邊緣部分302為第二上模鑲塊102配合第二下模分塊202刻出的，由于所述上模鑲塊10與所述下模鑲塊20的各分塊的相鄰部位都是直角，所以就保證了刻出的文字在凸起部位不會產(chǎn)生R角。
[0018]以上所述僅是本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并非對本實(shí)用新型做任何形式上的限制，雖然本實(shí)用新型已以較佳實(shí)施例揭露如上，然而并非用以限定本實(shí)用新型，任何熟悉本專業(yè)的技術(shù)人員，在不脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案的范圍內(nèi)，當(dāng)可利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容作出些許更動或修飾為等同變化的等效實(shí)施例，但凡是未脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案的內(nèi)容，依據(jù)本實(shí)用新型的技術(shù)實(shí)質(zhì)對以上實(shí)施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本實(shí)用新型技術(shù)方案的范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種標(biāo)識刻字模具，包括一上模鑲塊與一下模鑲塊，其特征在于: 所述上模鑲塊是由一第一上模分塊與一第二上模分塊鑲拼而成的，所述第一上模分塊鑲嵌于所述第二上模分塊內(nèi)； 所述下模鑲塊是由一第一下模分塊與一第二下模分塊鑲拼而成的，所述第一下模分塊與所述第一上模鑲塊相對應(yīng)的鑲嵌于所述第二下模分塊內(nèi)。
2.如權(quán)利要求1所述的標(biāo)識刻字模具，其特征在于所述第一上模分塊相對所述第二上模分塊內(nèi)凹，所述第一下模分塊相對所述第二下模分塊外凸。
【文檔編號】B41K3/62GK203410175SQ201320326889
【公開日】2014年1月29日 申請日期:2013年6月7日 優(yōu)先權(quán)日:2013年6月7日
【發(fā)明者】劉浩 申請人:安特金屬成形（上海）有限公司