專利名稱：成像元件的在機顯影的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及在可成像層中使用熱可聚結(jié)的核殼粒子的陰圖制版的可成像元件的成像和在機顯影方法。該成像元件可以使用平版印刷油墨、潤版液或兩者在機顯影。
背景技術(shù)：
在傳統(tǒng)或“濕”平版印刷中，在親水表面上生成被稱作圖像區(qū)的受墨區(qū)。當(dāng)用水潤濕該表面并施加油墨時，親水區(qū)留住水并拒墨，受墨區(qū)接受油墨并拒水。油墨被轉(zhuǎn)移到要在其上復(fù)制圖像的材料表面上?？捎糜谥苽淦桨嬗“娴目沙上裨ǔ０┘釉诨椎挠H水表面上的一個或多個可成像層?？沙上駥影煞稚⒃诤线m的粘合劑中的一種或多種輻射敏感組分?；蛘?，該輻射敏感組分也可以是粘合劑材料。在成像后，通過合適的顯影劑除去可成像層的成像區(qū)或非成像區(qū)，露出下方的基底親水表面。如果除去成像區(qū)，該元件被視為陽圖制版。相反，如果除去非成像區(qū)，該元件被視為陰圖制版。在每種情況下，留下的可成像層區(qū)域(即圖像區(qū))是受墨的，通過顯影法露出的親水表面區(qū)接受水和水溶液，通常為潤版液，并拒墨。直接數(shù)字成像在印刷工業(yè)中越來越重要。已開發(fā)出用于制備平版印版的可成像元件，其與響應(yīng)來自計算機中的圖像數(shù)字拷貝的信號使印版記錄機(Platesetter)成像的紅外激光器一起使用。這種“計算機直接制版”技術(shù)已普遍替代使用掩膜使元件成像的以前的技術(shù)。熱成像由于它們對環(huán)境光的穩(wěn)定性而對數(shù)字成像系統(tǒng)尤其重要。該元件被設(shè)計成對熱或紅外輻射敏感并可以使用熱頭或更通常地，紅外激光二極管曝光。由這種曝光生成的熱可以以許多方式利用，例如，消融以物理除去成像區(qū)、光敏組合物的聚合、通過交聯(lián)聚合物進行不溶性處理、使聚合物為堿性溶液可溶的、分解、或熱塑性粒子的凝結(jié)。這些成像技術(shù)大多要求使用堿性顯影劑除去成像層的曝光區(qū)(陽圖制版)或非曝光區(qū)(陰圖制版)。具有表面官能團的熱可融或可熔粒子已經(jīng)如例如美國專利No. 6,218,073 (Shimizu 等人)；6，509，133 (Watanabe 等人)；和 6，627，380 (Saito 等人)中所述用在可成像元件中。在美國專利No. 6, 692, 890 (Huang等人)中描述了其它可熔聚合物粒子。例如在美國專利No. 6，030, 750 (Vermeersch 等人)和 6，110, 644 (Vermeersch 等人)中描述了分散在可成像元件中的親水粘合劑內(nèi)的可聚結(jié)熱塑性聚合物粒子。在根據(jù)美國專利No. 5，609，980 (Matthews等人)的可成像層中使用核殼粒子并在熱成像時聚結(jié)。該粒子的殼在水性介質(zhì)中可溶或可溶脹。EP 514, 145A1 (Matthews等人)描述了在成像層中含有可熱軟化的核殼粒子的熱敏可成像元件。這些粒子在加熱時聚結(jié)且使用堿性顯影劑除去非聚結(jié)的粒子。這些粒子的殼尤其不溶于水。在EP 1，642，714A1 (Wilkinson等人)中描述了類似的組合物，其中將核殼粒子分散在親水粘合劑內(nèi)。使用樹膠溶液代替堿性顯影劑除去非曝光的粒子。共同待審和共同轉(zhuǎn)讓的美國專利申請序號No. 12/017,366 (Jarek在2008年1 月22日提交)描述了含有可聚結(jié)的核殼粒子的陰圖制版的可成像元件，其使用水或堿性溶液機外顯影。如若干參考文獻中所述，可聚結(jié)的核殼粒子已知用在可成像元件中已有一段時間，但通常將這些粒子分散在親水粘合劑中。此外，具有此類粒子的成像元件通常必須在堿性溶液，如普通顯影劑中或用樹膠溶液顯影。需要提供可在機顯影的含可聚結(jié)粒子的可成像元件。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供了提供圖像的方法，其包括
A)使陰圖制版的可成像元件熱成像以提供具有曝光區(qū)和非曝光區(qū)的成像元件，曝光區(qū)基本由聚結(jié)的核殼粒子構(gòu)成，和
B)使用平版印刷油墨、潤版液或兩者在機顯影該成像元件以僅除去非曝光區(qū)，該可成像元件包含親水基底并在其上具有基本由紅外輻射吸收化合物和在熱成像時聚結(jié)的核殼粒子構(gòu)成的單熱敏可成像層，
其中該核殼粒子的核由疏水熱塑性聚合物構(gòu)成，該核殼粒子的殼由共價鍵合到核疏水熱塑性聚合物上的親水聚合物構(gòu)成，其中該熱敏可成像層包含少于10重量％游離聚合物。本發(fā)明還提供通過本發(fā)明的方法制成的具有包含親水表面的含鋁基底的平版印版。我們已經(jīng)發(fā)現(xiàn)如何設(shè)計含有可聚結(jié)粒子并也可以在機沖洗或顯影的陰圖制版的可成像元件。這可能由于在可成像層中使用特定的可聚結(jié)粒子，即某些核殼粒子。
具體實施例方式定義
除非上下文中另行指明，本文所用的術(shù)語“可成像元件”、“陰圖制版的可成像元件”和 “平版印版前體”意指涉及可用于實施本發(fā)明的實施方案。此外，除非上下文中另行指明，本文中描述的各種組分，如“核殼粒子”、“紅外輻射吸收化合物”和類似術(shù)語還指此類組分的混合物。因此，冠詞“一個”或“一種”的使用不一定僅指單個組分?！皢螌印笨沙上裨侵钢恍枰獑螌泳涂商峁﹫D像的本發(fā)明的可成像元件。核殼粒子(下面定義)位于這種單可成像層中，其通常是最外層。但是，此類元件可以在基底的任一側(cè)上和在可成像層下方包含另外的非成像層。除非另行指明，百分比是指干重量百分比。為了弄清與聚合物相關(guān)的任何術(shù)語的定義，應(yīng)參考^切111站10腦1 Union of Pure and Applied Chemistry CIWAC") ,Pure App 1. Chem. 68，2287-2311 (1996)出版的 "Glossary of Basic Terms in Polymer Science”。但是，應(yīng)該以本文中明確闡述的任何定義為準(zhǔn)。除非另行指明，術(shù)語“聚合物”是指包括低聚物在內(nèi)的高和低分子量聚合物，并包括均聚物和共聚物。術(shù)語“共聚物”是指衍生自兩種或更多種不同單體的聚合物。也就是說，它們包含具有至少兩種不同化學(xué)結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元。
4
術(shù)語“骨架”是指多個側(cè)基可連接至其上的聚合物中的原子鏈。這種骨架的實例是由一種或多種烯鍵式不飽和可聚合單體的聚合獲得的“全碳”骨架。但是，其它骨架可包括雜原子，其中通過縮合反應(yīng)或一些其它方式形成該聚合物。核殼粒子
本發(fā)明的實踐中所用的核殼粒子通常具有含有一種或多種疏水聚合物的疏水聚合物核。有用的疏水聚合物是“熱塑性的”，意味著它們通常具有至少40°C或通常至少50°C的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度并因此可以在提供在該玻璃化轉(zhuǎn)變溫度以上的合適溫度下加熱的熱成像過程中熔融或聚結(jié)。有用的疏水熱塑性聚合物包括，但不限于聚苯乙烯、聚(甲基)丙烯酸酯、聚亞甲基內(nèi)酯(polymethylenelactones)、聚(甲基)丙烯腈、聚氯乙烯、聚乙烯酯、聚砜、聚碳酸酯、聚氨酯和聚酰胺。這些類別中的代表性聚合物包括聚苯乙烯、聚(甲基丙烯酸甲酯)、聚(丙烯酸甲酯)、聚亞甲基內(nèi)酯、聚[(甲基)丙烯腈]和聚氯乙烯。該核通常具有20至120納米，通常30至100納米的平均直徑，且核聚合物的體積占粒子體積的75至95%。有用的核殼粒子的殼由具有可以與核的疏水聚合物鍵合的反應(yīng)性基團的一種或多種親水聚合物構(gòu)成。在一些情況下，在殼聚合物比核聚合物更親水的意義上而言，殼聚合物是“親水的”。例如，殼聚合物可含有已用合適的堿，如氫氧化物部分或完全中和的酸性基團，如羧基、磺基或膦基。例如，該殼聚合物可含有羧基，且5至80摩爾％的羧基已用氫氧化鈉、氫氧化鉀或氫氧化銨中和。因此，殼聚合物可以至少部分衍生自一種或多種(甲基) 丙烯酸、(甲基)丙烯酰胺、(甲基)丙烯?；倪颉?甲基)丙烯酸酯、乙二醇(甲基)丙烯酸酯磷酸酯、膦酸化(甲基)丙烯酸酯、環(huán)脲甲基丙烯酸酯(Plex-O 6850)、乙烯基膦酸、 二乙基氨基乙基(甲基)丙烯酰胺和磺化(甲基)丙烯酸酯。這些聚合物可以例如與一種或多種(甲基)丙烯酰胺聯(lián)合使用。在一些實施方案中，所述殼包含含有衍生自(甲基)丙烯酰胺、乙烯基咪唑、N-(甲基)丙烯?；倪颉⒁蚁┗量┩橥蚱浠旌衔锏闹貜?fù)單元的聚合物。在其它實施方案中，所述殼聚合物衍生自(甲基)丙烯酸、磺化(甲基)丙烯酸酯、 磷酸酯(甲基)丙烯酸酯、乙烯基膦酸或其混合物中的一種或多種，和一種或多種(甲基) 丙烯酰胺。預(yù)期該親水殼聚合物經(jīng)由疏水核聚合物中的反應(yīng)性(甲基)丙烯酸基團共價鍵合到疏水核聚合物上。所述殼厚度通常為1至10納米并通常平均占核殼粒子體積的5至25%(—些粒子可能小于5%，另一些大于25%，但平均體積在所述范圍內(nèi))。所述殼據(jù)信完全覆蓋大多數(shù)或所有粒子的核，但可能在一些粒子中，殼僅部分覆蓋核。所得核殼粒子通常具有25至150納米或35至110納米的平均粒度。該核殼粒子通常如對下列實施例所述以分散體形式制備。通常，通過使用已知反應(yīng)物和條件的乳液或懸浮液聚合形成核聚合物以提供初始分散體。在一段合適的反應(yīng)期后，將單體和自由基引發(fā)劑添加到該分散體中以圍繞各個聚合物核形成殼聚合物。該核-殼分散體天然抗沉降，或可以添加表面活性劑以使核殼粒子穩(wěn)定一段合適的時間。用于形成殼的一些聚合物可以是高度水溶性的，因此所得分散體也可包括懸浮在反應(yīng)介質(zhì)中的一些游離聚合物。
在一些實施方案中，使用任何合適的交聯(lián)化學(xué)使該核殼粒子的殼或核至少部分交聯(lián)。用于形成殼的其它聚合物較少水溶且極少或沒有游離聚合物懸浮在反應(yīng)介質(zhì)中。 由于不必除去游離聚合物，此類聚合物是有用的。可成像元件
可成像元件包括在單個且最外可成像層中的上述可聚結(jié)的核殼粒子。通常，通過將含有可聚結(jié)的核殼粒子的可成像層制劑合適施加到合適的基底上以形成可成像層，從而形成單層可成像元件。通常在施加該制劑之前以如下所述的各種方式處理或涂布這種基底?？梢蕴幚碓摶滓蕴峁┯糜诟倪M粘合或親水性的“夾層”，并在該夾層上施加單可成像層。該基底通常在成像側(cè)上具有親水表面或至少比施加的可成像層制劑更親水的表面。該基底包含可以由傳統(tǒng)上用于制備可成像元件，如平版印版的任何材料構(gòu)成的支撐體。 其通常是片、薄膜或箔形式，并且強韌、穩(wěn)定和柔性并抵抗在使用條件下的尺寸變化從而顏色記錄可記錄全色圖像。通常，該支撐體可以是任何自承材料，包括聚合物膜0Π聚酯、聚乙烯、聚碳酸酯、纖維素酯聚合物和聚苯乙烯膜)、玻璃、陶瓷、金屬片或箔，或硬紙(包括樹脂涂布和鍍金屬的紙)，或任何這些材料的層壓材料(如鋁箔層壓到聚酯膜上)。金屬支撐體包括鋁、銅、鋅、鈦及其合金的片或箔。聚合物膜支撐體可以在一個或兩個表面上用“底”層改性以提高親水性，或可以類似地涂布紙支撐體以提高平面度。底層材料的實例包括，但不限于，烷氧基硅烷、氨基-丙基三乙氧基硅烷、環(huán)氧丙氧基丙基-三乙氧基硅烷和環(huán)氧官能聚合物以及用在鹵化銀照相膠片中的常規(guī)親水底層材料(如明膠和其它天然存在和合成的親水膠體和乙烯基聚合物， 包括偏二氯乙烯共聚物)。有用的基底由具有親水表面的含鋁支撐體構(gòu)成，所述親水表面可使用本領(lǐng)域已知的技術(shù)，包括物理磨版、電化學(xué)磨版、化學(xué)磨版和陽極化來涂布或處理。例如，可以使用膦酸或硫酸使用常規(guī)步驟將鋁片陽極化。可以通過用例如硅酸鹽、糊精、氟化鈣鋯、六氟硅酸、磷酸鹽/氟化物、聚(乙烯基膦酸KPVPA)、乙烯基膦酸-丙烯酸共聚物、聚(丙烯酸)或(甲基)丙烯酸共聚物或其混合物處理鋁支撐體來形成任選夾層。例如，可以使用已知步驟用聚(膦酸)處理該磨版和 /或陽極化的鋁支撐體以改進表面親水性，以提供平版印刷的親水基底。可以改變該基底的厚度，但應(yīng)該足以承受來自印刷的磨損并且足夠薄以包裹印刷表單。此類實施方案通常包括厚度為100至600微米的處理過的鋁箔?；椎谋趁?非成像面)可以用抗靜電劑和/或滑移層或無光層涂布以改進該可成像元件的操作和“觸感”。該基底也可以是具有施加在其上的輻射敏感組合物的圓柱形表面，并因此是印刷機或并入印機滾筒上的套筒的組成部分。例如在美國專利No. 5,713, 287 (Gelbart)中描述了這種成像筒的使用。該可成像元件還包括一種或多種輻射吸收化合物。盡管這些化合物可以對任何合適的能量形式(例如紫外線或可見光輻射)敏感，但它們通常對紅外輻射敏感，因此輻射吸收化合物可以是吸收700至1400納米，通常700至1200納米輻射的紅外輻射吸收化合物(“頂吸收化合物”)。合適的頂染料的實例包括，但不限于，偶氮染料、方酸菁染料、三芳基胺染料、 硫代偶氮鐺(thioazolium)染料、吲哚鐺染料、氧雜菁染料、噁唑鐺染料、花青染料、部花青染料、酞菁染料、吲哚菁染料、吲哚三碳菁染料、半菁染料、鏈霉菁(streptocyanine)染料、氧雜三碳菁染料、硫菁(thiocyanine)染料、硫代三碳菁染料、部花青染料、隱花青染料、萘酞菁染料、聚苯胺染料、聚吡咯染料、聚噻吩染料、chalcogenopyryloarylidene和 bUchalcogenopyrylo)-多次甲基染料、氧吲嗪染料、吡喃鐺染料、吡唑啉偶氮染料、噁嗪染料、萘醌染料、蒽醌染料、醌亞胺染料、次甲基染料、芳基次甲基染料、多次甲基染料、方酸染料、噁唑染料、croconine染料、嚇啉染料和前述染料類型的任何取代或離子形式。例如在美國專利 No. 4，973，572 (DeBoer) ；5, 208, 135 (Patel 等人)；5，244，771 (Jandrue Sr.等人)；和 5，401, 618 (Chapman 等人)；和 EP O 823 327A1 (Nagasaka 等人)中描述了合適的染料。具有陰離子發(fā)色團的花青染料也可用。例如，該花青染料可具有含兩個雜環(huán)基團的發(fā)色團。在另一實施方案中，該花青染料可具有至少兩個磺酸基團，更特別而言，兩個磺酸基團和兩個假吲哚基團。例如在美國專利申請公開No. 2005-0130059 (Tao)中描述了這種類型的有用的紅外敏感花青染料。WO 2004/101280 (Murmelly等人)的段落00 中的式顯示一類合適的花青染料的一般描述。近紅外吸收花青染料也可用，并例如在美國專利No. 6，309，792 (Hauck等人)； 6, 264, 920 (Achileru 等人)；6，153，；356 (Urano 等人)；5，496，903 (Watanate 等人)中描述。合適的染料可以使用常規(guī)方法和原材料形成或獲自各種商業(yè)來源，包括American Dye Source (Baie D' Urfe, Quebec, Canada)和 FEW Chemicals (Germany)。例如在美國專利 No. 4，973，572 (上述)中描述了近紅外二極管激光束的其它有用染料。有用的紅外吸收化合物包括各種顏料，包括炭黑，如用增溶基團表面官能化的炭黑是本領(lǐng)域中公知的。接枝到親水非離子聚合物上的炭黑，如FX-GE-003(NippOn Shokubai 制造)或用陰離子基團表面官能化的炭黑，如CAB-O- JETe 200或CAB-O- JETe 300 (Cabot Corporation制造)也是有用的。其它有用的顏料包括，但不限于，Heliogen綠、Nigrosine 堿、氧化鐵(III)、氧化錳、普魯士藍和巴黎藍。顏料粒子的尺寸不應(yīng)大于可成像層的厚度。該輻射吸收化合物通常以足以使熱敏可成像層在適當(dāng)輻射下曝光后不溶于水性顯影劑的量存在于可成像元件中。這種量通常為至少1且最多達30重量％，通常5至30 重量％ (基于總干可成像層重量)。此用途所需的特定量是本領(lǐng)域技術(shù)人員顯而易見的，取決于所用的具體化合物和要使用的堿性顯影劑的性質(zhì)。在大多數(shù)實施方案中，該輻射吸收化合物存在于單可成像層中?；蛘呋蛄硗猓椛湮栈衔锟晌挥谂c該單可成像層熱接觸的獨立層中。因此，在成像過程中，可以將該輻射吸收化合物的作用轉(zhuǎn)移至可成像層，而不將該化合物最初并入其中?？沙上駥影ㄍǔＷ阋蕴峁┛偪沙上駥痈芍亓康闹辽?0重量％，通常60至95重量％的量的上述核殼粒子?？梢酝ㄟ^將組分分散在合適的溶劑介質(zhì)(下述)中來制備包含核殼粒子(通常在水性分散體中)、一種或多種輻射敏感化合物和任何其它添加劑(下述)的可成像層。該可成像層可進一步以常規(guī)量包括各種添加劑，包括分散劑、潤濕劑、殺生物劑、CN 102458854 A說明書6/9 頁
增塑劑、針對可涂布性或其它性質(zhì)的表面活性劑、增粘劑、染料或著色劑以使書寫的圖像可見、PH調(diào)節(jié)劑、干燥劑、消泡劑、防腐劑、抗氧化劑、顯影助劑、流變改性劑或其組合，或平版印刷領(lǐng)域中常用的任何其它附加物。通常，該可成像層除形成核殼粒子的聚合物外不含聚合物，這是因為，由于該粒子中的特定殼聚合物，一旦除去溶劑，該可聚結(jié)的核殼粒子的殼通常充當(dāng)該層中的粘合劑。因此，游離聚合物通常以干可成像層重量的小于10%，通常小于5%的量存在。在一些實施方案中，該熱敏可成像層可溶或可分散在水中。可以通過使用常規(guī)涂布或?qū)訅悍椒ㄔ诨妆砻?和在其上提供的任何其它親水層)上施加層制劑來制備該單層可成像元件。因此，可以通過將所需成分分散或溶解在合適的涂布溶劑中來施加該制劑，使用合適的設(shè)備和程序，如旋涂、刮刀涂布、凹版涂布、印模涂布(die coating)、狹縫涂布、棒涂、繞線棒涂布、輥涂或擠出料斗涂布來將所得制劑相繼或同時施加到基底上。也可以通過噴到合適的支撐體(如在機印刷筒或印刷套筒)上來施加該制劑。單可成像層的涂布重量可以為0. 4至2克/平方米，通常0. 5至1克/平方米。用于涂布可成像層制劑的溶劑的選擇取決于核-殼聚合物材料和該制劑中的其它組分的性質(zhì)。通常，使用本領(lǐng)域中公知的條件和技術(shù)由丙酮、甲醇或含有甲醇、乙醇、異丙醇、正丙醇、正丁醇及其混合物的水溶液涂布該可成像層制劑。在施加各種層制劑之間可以使用中間干燥步驟以在涂布其它制劑之前除去溶劑。 干燥步驟也有助于防止各種層混合。成像和顯影
該單層可成像元件可具有任何有用形式，包括但不限于，印版前體、印刷筒、被稱作旋轉(zhuǎn)印刷元件的印刷套筒(實心或中空芯)和印刷帶(包括柔性印刷網(wǎng))。例如，該可成像元件可以是可用于提供具有親水基底的平版印版的印版前體。在使用過程中，根據(jù)該元件中存在的輻射吸收化合物，使該單層可成像元件曝光至合適的熱能源，如紅外輻射下，例如在700至1400納米波長下。在一些實施方案中，可以使用紅外激光器在700至1400納米，通常700至1200納米的波長下進行成像。由于二極管激光器系統(tǒng)的可靠性和低成本維護，用于使該可成像元件曝光的激光器通常是二極管激光器，但也可以使用其它激光器，如氣態(tài)或固態(tài)激光器。用于激光成像的功率、強度和曝光時間的組合是本領(lǐng)域技術(shù)人員顯而易見的。目前，市售圖文影排機(imagesetters)中所用的高性能激光器或激光二極管發(fā)出波長800至850納米或1040至1120納米的紅外輻射。該成像裝置可以僅充當(dāng)印版記錄機或其可直接并入平版印刷機中。在后一情況下，印刷可以在成像后立即開始，由此顯著降低印刷機準(zhǔn)備時間。該成像裝置可設(shè)置成平床式記錄器或設(shè)置成鼓式記錄器，該可成像元件安裝到轉(zhuǎn)鼓的內(nèi)或外圓筒表面上。有用的成像裝置的實例可作為獲自 Eastman Kodak Company (Burnaby, British Columbia, Canada)的Kodake Trendsetter圖文影排機模型獲得，其含有發(fā)射波長830納米的近紅外輻射的激光二極管。其它合適的成像源包括在1064納米波長下運行的Crescent 42T 印版記錄機和kreen PlateRite 4300系列或8600系列印版記錄機(可獲自Screen, Chicago, IL)。其它有用的輻射源包括可以在連接到印版圓筒上的同時用于將元件成像的直接成像印刷機。合適的直接成像印刷機的實例包括Heidelberg SM74-DI印刷機(可獲自Heidelberg, Dayton, Ohio)。成像速度可以為100至1500 mj/cm2，通常100至400 mj/cm2。盡管激光成像可用于實施本發(fā)明，但可以通過以依圖像方式提供熱能的任何其它手段提供成像。例如，可以如例如美國專利No. 5，488，025 (Martin等人)中所述和如熱傳真機和升華印刷機中所用的那樣，使用溫阻頭(熱印刷頭)以所謂的“熱印刷”實現(xiàn)成像。 熱印刷頭可商購得到(例如，作為 Fujitsu Thermal Head FTP-040 MCSOOl 和 TDK Thermal Head F415 HH7-1089)。直接數(shù)字成像常用于成像。圖像信號作為位圖數(shù)據(jù)文件存儲在計算機中。光柵圖像處理器(RIP)或其它合適的方式可用于生成這樣的文件。構(gòu)造位圖以確定顏色的色調(diào)以及網(wǎng)屏頻率和角度?？沙上裨某上癞a(chǎn)生包含成像(曝光)和非成像(非曝光)區(qū)的潛像的成像元件。 在線顯影成像元件(下述)除去可成像層的非曝光區(qū)和下方的任何下層部分并暴露出基底的親水表面。由熱成像聚結(jié)的核殼粒子留在曝光區(qū)中。因此，該可成像元件是“陰圖制版的”(例如，陰圖制版的平版印版前體)。親水表面的非曝光(或非成像)區(qū)拒墨，而留在該元件中的曝光(或成像)區(qū)受墨。在“在機”顯影過程中，將成像元件直接安裝到印刷機上，其中在制造初始印刷版次(impressions)時通過合適的潤版液、平版印刷油墨或兩者的組合除去可成像層中的非曝光區(qū)。水性潤版液的典型成分包括PH緩沖劑、脫敏劑、表面活性劑和潤濕劑、濕潤劑、低沸點溶劑、殺生物劑、防沫劑和螯合劑。潤版液的代表性實例是Varn Litho Etch 142W + Varn PAR (alcohol sub)(可獲自 Varn International, Addison, Illinois)。下列實施方案是本發(fā)明提供的那些的代表。實施方案1 提供圖像的方法，包括
A)使陰圖制版的可成像元件熱成像以提供具有曝光區(qū)和非曝光區(qū)的成像元件，曝光區(qū)基本由聚結(jié)的核殼粒子構(gòu)成，和
B)使用平版印刷油墨、潤版液或兩者在機顯影該成像元件以僅除去非曝光區(qū)，該可成像元件包含親水基底并在其上具有基本由紅外輻射吸收化合物和在熱成像時聚結(jié)的核殼粒子構(gòu)成的單熱敏可成像層，
其中該核殼粒子的核由疏水熱塑性聚合物構(gòu)成，該核殼粒子的殼由共價鍵合到核疏水熱塑性聚合物上的親水聚合物構(gòu)成，
其中該熱敏可成像層包含少于10重量％游離聚合物。實施方案2 實施方案1的方法，其中該可成像層包含少于5重量％游離聚合物粘合劑。實施方案3 實施方案1或2的方法，其中該核疏水熱塑性聚合物具有大于40°C的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度。實施方案4 實施方案1至3任一項的方法，其中該核疏水熱塑性聚合物包含至少一種聚合物，所述聚合物是聚苯乙烯、聚(甲基)丙烯酸酯、聚亞甲基內(nèi)酯、聚氯乙烯、聚 (甲基)丙烯腈、聚乙烯酯、聚砜、聚碳酸酯、聚氨酯和聚酰胺。實施方案5 實施方案1至4任一項的方法，其中該核殼粒子具有25至150納米的平均粒度。
實施方案6 實施方案1至5任一項的方法，其中該核殼粒子的殼具有1至10納米的平均厚度并平均占核殼粒子體積的5至25%，且該核具有20至120納米的平均尺寸。實施方案7 實施方案1至6任一項的方法，其中該殼包含衍生自(甲基)丙烯酸、 (甲基)丙烯酰胺、N-(甲基)丙烯酰基四唑、磺化(甲基)丙烯酸酯、乙二醇(甲基)丙烯酸酯磷酸酯、膦酸化(甲基)丙烯酸酯和二乙基氨基乙基(甲基)丙烯酰胺中的一種或多種的聚合物。實施方案8 實施方案1至7任一項的方法，其中該親水殼聚合物經(jīng)由疏水核聚合物中的反應(yīng)性(甲基)丙烯酸基團共價鍵合到疏水熱塑性核聚合物上。實施方案9 實施方案1至8任一項的方法，其中該紅外輻射吸收化合物以總可成像層干重量的5至30%的量存在于單熱敏可成像層中。實施方案10 實施方案1至9任一項的方法，其中該核殼粒子的殼或核至少部分交聯(lián)。實施方案11 實施方案1至10任一項的方法，其中使用紅外激光器在700至1400 納米波長下進行成像。實施方案12 實施方案1至11任一項的方法，其中該可成像元件是平版印版前體并具有含鋁基底，所述含鋁基底具有親水表面。實施方案13 通過實施方案1至12任一項的方法制成的具有包含親水表面的含鋁基底的平版印版。下列實施例意在例示本發(fā)明，但它們無論如何不是限制性的。實施例
la)本發(fā)明的核-殼分散體的合成
在2升燒瓶中裝入800. 00克蒸餾水，其中溶解12. 00克十二烷基硫酸鈉。將該混合物加熱至70°C。隨后，加入119. 24克苯乙烯、60. 76克丙烯腈和2. 70克過硫酸鉀并在氮氣下進行聚合2小時。隨后加入丙烯酸(20. 00克)和2. 70克過硫酸鉀并繼續(xù)聚合另外2小時。lb)對比聚合物粒子分散體的合成
在2升燒瓶中裝入800. 00克蒸餾水，其中溶解12. 00克十二烷基硫酸鈉。將該混合物加熱至70°C。隨后，加入180. 00克苯乙烯和2. 70克過硫酸鉀并在氮氣下繼續(xù)聚合2小時。Ic)本發(fā)明的核-殼分散體的合成
在2升燒瓶中裝入800. 00克蒸餾水，其中溶解12. 00克十二烷基硫酸鈉。將該混合物加熱至70°C。隨后，加入180. 00克苯乙烯和2. 70克過硫酸鉀并在氮氣下繼續(xù)聚合2小時。 隨后加入乙二醇甲基丙烯酸酯磷酸酯(20克)和2. 70克過硫酸鉀并繼續(xù)聚合另外2小時。Id)本發(fā)明的核-殼分散體的合成
在2升燒瓶中裝入800. 00克蒸餾水，其中溶解12. 00克十二烷基硫酸鈉。將該混合物加熱至70°C。隨后，加入180. 00克甲基丙烯酸甲酯和2. 70克過硫酸鉀并在氮氣下繼續(xù)聚合2小時。隨后加入丙烯酸(20克)和2. 70克過硫酸鉀并繼續(xù)聚合另外2小時。2a)含核殼粒子的本發(fā)明的涂布制劑 混合下列組分
0. 0784 克水溶性 IR 染料(S0306，F(xiàn)EW), 2. 4300克水性核殼粒子分散體(分散體la)，0. 25克m氫氧化鈉(中和該殼聚合物的 20% COOH基團)。將所得制劑涂布到已陽極化和用聚(乙烯基膦酸)處理的含鋁基底上以提供涂布
重量0.6克/平方米。2b)含非-核-殼聚合物粒子的對比涂布制劑 混合下列組分
0. 0784克水溶性IR染料， 2. 4300克水性粒子分散體(分散體Ib )， 2. 2500克甲醇，和 0. 25克洲氫氧化鈉。將所得制劑涂布在如上所述的相同含鋁基底上至涂布重量0. 6克/平方米。2c)含非-核-殼聚合物粒子的本發(fā)明的涂布制劑 混合下列組分
0. 0784克水溶性IR染料， 2. 4300克水性粒子分散體(分散體lc)， 2. 2500克甲醇，和 0. 25克洲氫氧化鈉。將所得制劑涂布在如上在加中所述的相同含鋁基底上至涂布重量0. 6克/平方米。2d)含非-核-殼聚合物粒子的本發(fā)明的涂布制劑 混合下列組分
0. 0784克水溶性IR染料， 2. 4300克水性粒子分散體(分散體ld)， 2. 2500克甲醇，和 0. 25克洲氫氧化鈉。將所得制劑涂布在如上在加中所述的相同含鋁基底上至涂布重量0. 6克/平方米。在成像后，將元件安裝到印刷機上并使用Sun Chemical S7184/CF01平版印刷油墨和 B5ttcher GmbH Fount S-3021 潤版液預(yù)濕。用制劑加形成的所得本發(fā)明的印版在50張印刷品后表現(xiàn)出良好的清潔度，而使用制劑2b的對比印版在100個印刷品后表現(xiàn)出嚴重混色(toning)。
權(quán)利要求
1.提供圖像的方法，其包括A)使陰圖制版的可成像元件熱成像以提供具有曝光區(qū)和非曝光區(qū)的成像元件，所述曝光區(qū)基本由聚結(jié)的核殼粒子構(gòu)成，和B)使用平版印刷油墨、潤版液或兩者在機顯影所述成像元件以僅除去所述非曝光區(qū)， 所述可成像元件包含親水基底并在其上具有基本由紅外輻射吸收化合物和在熱成像時聚結(jié)的核殼粒子構(gòu)成的單熱敏可成像層，其中所述核殼粒子的核由疏水熱塑性聚合物構(gòu)成，所述核殼粒子的殼由共價鍵合到所述核疏水熱塑性聚合物上的親水聚合物構(gòu)成， 其中所述熱敏可成像層包含少于10重量％游離聚合物。
2.權(quán)利要求1的方法，其中該可成像層包含少于5重量％游離聚合物。
3.權(quán)利要求1或2的方法，其中該核疏水熱塑性聚合物具有大于40°C的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度。
4.權(quán)利要求1至3任一項的方法，其中該核疏水熱塑性聚合物包含至少一種聚合物，所述聚合物是聚苯乙烯、聚(甲基)丙烯酸酯、聚亞甲基內(nèi)酯、聚氯乙烯、聚(甲基)丙烯腈、 聚乙烯酯、聚砜、聚碳酸酯、聚氨酯和聚酰胺。
5.權(quán)利要求1至4任一項的方法，其中該核殼粒子具有25至150納米的平均粒度。
6.權(quán)利要求1至5任一項的方法，其中該核殼粒子的殼具有1至10納米的平均厚度并平均占核殼粒子體積的5至25%，且該核具有20至120納米的平均尺寸。
7.權(quán)利要求1至6任一項的方法，其中該殼包含衍生自(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酰胺、N-(甲基)丙烯?；倪?、磺化(甲基)丙烯酸酯、乙二醇(甲基)丙烯酸酯磷酸酯、 膦酸化(甲基)丙烯酸酯和二乙基氨基乙基(甲基)丙烯酰胺中的一種或多種的聚合物。
8.權(quán)利要求1至7任一項的方法，其中該親水殼聚合物經(jīng)由疏水核聚合物中的反應(yīng)性 (甲基)丙烯酸基團共價鍵合到疏水熱塑性核聚合物上。
9.權(quán)利要求1至8任一項的方法，其中該紅外輻射吸收化合物以總可成像層干重量的 5至30%的量存在于單熱敏可成像層中。
10.權(quán)利要求1至9任一項的方法，其中該核殼粒子的殼或核至少部分交聯(lián)。
11.權(quán)利要求1至10任一項的方法，其中使用紅外激光器在700至1400納米波長下進行成像。
12.權(quán)利要求1至11任一項的方法，其中該可成像元件是平版印版前體并具有含鋁基底，所述含鋁基底具有親水表面。
13.通過權(quán)利要求1至12任一項的方法制成的具有包含親水表面的含鋁基底的平版印版。
全文摘要
可以使用包括使陰圖制版的可成像元件熱成像以提供具有曝光區(qū)和非曝光區(qū)的成像元件的方法提供圖像，曝光區(qū)基本由聚結(jié)的核殼粒子構(gòu)成，和使用平版印刷油墨、潤版液或兩者在機顯影該成像元件以僅除去非曝光區(qū)。該可成像元件包含基本由紅外輻射吸收化合物和在熱成像時聚結(jié)的核殼粒子構(gòu)成的單熱敏可成像層。該核殼粒子的核由疏水熱塑性聚合物構(gòu)成，該核殼粒子的殼由共價鍵合到核疏水熱塑性聚合物上的親水聚合物構(gòu)成，且該熱敏可成像層包含少于10重量%游離聚合物。
文檔編號B41C1/10GK102458854SQ201080024438
公開日2012年5月16日 申請日期2010年6月1日 優(yōu)先權(quán)日2009年6月3日
發(fā)明者巴爾比諾 D., 亞雷克 M. 申請人:伊斯曼柯達公司