專利名稱：記錄設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種使用行式記錄頭的噴墨式記錄設(shè)備。
背景技術(shù)：
在噴墨式記錄設(shè)備中，可能發(fā)生的是在記錄頭噴嘴內(nèi)的墨變干并且增加了其粘度 而待凝固。另外，在某些情況下，紙張粉末、灰塵、氣泡等會(huì)與噴嘴中的墨混合，這樣由于堵 塞而引起有缺陷的噴墨，導(dǎo)致記錄質(zhì)量劣化。因而，必須在記錄頭上執(zhí)行清潔。US 2008/0007592討論了一種清潔機(jī)構(gòu)，所述清潔機(jī)構(gòu)借助與噴嘴陣列形成的方 向不平行的傾斜的刮片執(zhí)行刮擦。通過使刮片傾斜，從噴嘴表面刮去的墨聚集在一個(gè)端部 部分處，并且所聚集的墨被另一個(gè)刮擦器刮去。如圖5A中所示，構(gòu)成記錄頭的噴嘴芯片20具有噴嘴表面22，所述噴嘴表面22 具有多個(gè)噴嘴陣列以用于噴墨；和噴嘴基板，在所述噴嘴基板中嵌入有與噴嘴相對應(yīng)地形 成的能量元件。另外，噴嘴芯片20具有基底基板M，所述基底基板M具有電連接到噴嘴 基板的配線。噴嘴基板與基底基板M之間的電連接部分用由樹脂材料構(gòu)成的密封部分23 覆蓋，并且被保護(hù)以免腐蝕和斷路。圖5B是當(dāng)從側(cè)向觀察噴嘴表面22時(shí)的放大圖，如圖5B 中所示，密封部分23的樹脂材料膨脹超出噴嘴表面22，從而構(gòu)成沿著噴墨方向從噴嘴表面 突出的突起。在一個(gè)噴嘴芯片20上，在噴嘴表面22的兩個(gè)端部附近相對于噴嘴陣列形成 的方向設(shè)置有兩個(gè)密封部分23。如果通過使用如在US 2008/007592中所討論的刮片在該結(jié)構(gòu)的記錄頭上執(zhí)行刮 擦，所述結(jié)構(gòu)具有膨脹成高于噴嘴表面22的密封部分23，則出現(xiàn)以下問題。由于刮片偏斜地傾斜，刮片的端部部分首先經(jīng)過噴嘴表面22以到達(dá)密封部分23。 依據(jù)刮片的傾角，刮片的前向部分會(huì)爬到密封部分23上，而同時(shí)刮片的其余部分刮擦噴嘴 陣列。然后，刮片整體上升高，并且與噴嘴陣列相對的部分和噴嘴陣列之間的密切接觸變得 相當(dāng)不足，使得不能在噴嘴上執(zhí)行適當(dāng)?shù)墓尾痢?br>
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是實(shí)現(xiàn)一種能夠在形成有多個(gè)噴嘴陣列的記錄設(shè)備的噴嘴表面上 可靠地執(zhí)行刮擦的清潔功能。根據(jù)本發(fā)明的方面，設(shè)備包括記錄頭，所述記錄頭具有噴嘴表面和密封部分，所 述噴嘴表面具有平行布置的多個(gè)噴嘴陣列，所述密封部分布置在多個(gè)噴嘴陣列附近并且突 出超過噴嘴表面；和刮擦器單元，所述刮擦器單元能夠沿著與噴嘴表面平行的刮擦方向相 對于噴嘴表面相對地運(yùn)動(dòng)，并且所述刮擦器單元構(gòu)造成刮擦噴嘴表面，其中，刮擦器單元具 有第一刮片和第二刮片，第一刮片布置成在與噴嘴表面平行的平面內(nèi)相對于與刮擦方向垂 直的方向傾斜了角θ ι(θ 1 > 0)，并且其中，第二刮片布置成在所述平面內(nèi)相對于與刮擦 方向垂直的方向傾斜了角Θ2(Θ2<0)。根據(jù)本發(fā)明，實(shí)現(xiàn)這樣的記錄設(shè)備，S卩，所述記錄設(shè)備配備有刮擦器單元，該刮擦器單元能夠更加可靠地刮擦具有多個(gè)噴嘴陣列的噴嘴表面。本發(fā)明的其它特征和方面將從以下參照附圖的示例性實(shí)施例的詳細(xì)說明而變得明顯。


包含在本說明書中且構(gòu)成本說明書的一部分的附圖示出本發(fā)明的示例性實(shí)施例、 特征和方法，并且與說明一起用于解釋本發(fā)明的原理。圖1是根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施例的記錄設(shè)備的主要部分的透視圖；圖2是記錄設(shè)備的主要部分的剖視圖；圖3是示出清潔操作期間的條件的透視圖；圖4A和4B示出記錄頭的結(jié)構(gòu)；圖5A和5B示出噴嘴芯片的結(jié)構(gòu)；圖6是示出清潔機(jī)構(gòu)的構(gòu)造的透視圖；圖7A和7B示出刮擦器單元的構(gòu)造；圖8示出記錄頭、刮片和吸收構(gòu)件之間的位置關(guān)系；圖9示出噴嘴芯片上的部件之間的位置關(guān)系；圖10AU0B和IOC是示出通過刮擦操作所清潔的噴嘴表面區(qū)域的平面圖；圖11A、11B、IlCUlD和IlE是示出刮擦操作的平面圖；圖12A和12B示出根據(jù)本發(fā)明的第二示例性實(shí)施例的刮擦器單元的構(gòu)造；圖13示出記錄頭、刮片和吸收構(gòu)件之間的位置關(guān)系；圖14是示出通過刮擦操作所清潔的噴嘴表面區(qū)域的平面圖；圖15示出噴嘴芯片上的部件之間的位置關(guān)系。
具體實(shí)施例方式以下將參照附圖詳細(xì)地說明本發(fā)明的多種示例性實(shí)施例、特征和方面。將參照

本發(fā)明的特定的示例性實(shí)施例。圖1是透視圖，示出根據(jù)示例性 實(shí)施例的記錄設(shè)備的記錄單元周圍的主要部分的構(gòu)造，并且圖2是示出圖1中所示的主要 部分的結(jié)構(gòu)的剖視圖。圖3是示出清潔操作期間的情況的透視圖。根據(jù)該示例性實(shí)施例的記錄設(shè)備1是這樣的行式打印機(jī)，即，所述行式打印機(jī)適 于借助所配備的長形的行式記錄頭而執(zhí)行打印，并且適于在沿著傳送方向(第一方向)連 續(xù)地傳送片材的同時(shí)執(zhí)行打印。所述行式打印機(jī)配備有保持器，其保持輥形式的片材4 ； 傳送機(jī)構(gòu)7，其以預(yù)定的速度沿著第一方向傳送片材4;和記錄單元3，其通過行式記錄頭在 片材4上執(zhí)行記錄。該實(shí)施例中使用的片材不限于連續(xù)的輥式片材；也能夠采用切割的片 材。記錄設(shè)備3還配備有清潔單元6，所述清潔單元6適于在記錄頭的噴嘴表面上通過刮 擦而執(zhí)行清潔。另外，沿著片材的傳送路徑設(shè)置有切割單元，所述切割單元位于記錄單元 3的下游側(cè)上并且適于切割片材4 ；干燥單元，其強(qiáng)制地干燥片材；和排出盤。記錄單元3配備有分別與不同顏色的墨相對應(yīng)的多個(gè)記錄頭2。雖然該示例性實(shí) 施例使用與青色(C)、品紅色(M)、黃色⑴和黑色⑷四種顏色相對應(yīng)的四個(gè)記錄頭，但是 顏色的種類不限于四種。不同顏色的墨分別經(jīng)由墨管供給到記錄頭2。多個(gè)記錄頭2通過記錄頭保持器5—體地保持；設(shè)置有允許記錄頭保持器5豎直運(yùn)動(dòng)的機(jī)構(gòu)，以便使多個(gè)記錄 頭2與片材4的表面之間的距離可以改變。清潔單元6具有與多個(gè)(四個(gè))記錄頭2相對應(yīng)的多個(gè)(四個(gè))清潔機(jī)構(gòu)9。清 潔單元6整體上可以沿著第一方向滑動(dòng)。圖1和2示出記錄期間的狀態(tài)，其中清潔單元6 相對于片材傳送方向位于記錄單元3的下游側(cè)上。另一方面，圖3示出清潔操作期間的狀 態(tài)，其中清潔單元6直接位于記錄單元3的記錄頭2下方。在圖2和3中，通過箭頭指示清 潔單元6的可運(yùn)動(dòng)范圍。圖4A和4B示出一個(gè)記錄頭2的結(jié)構(gòu)。記錄頭2是行式記錄頭，其中在覆蓋可以使 用的片材的最大寬度的范圍上形成噴墨式噴嘴陣列。噴嘴陣列布置的方向是與第一方向垂 直的方向(第二方向)。在較大的基底基板M上沿著第二方向布置多個(gè)噴嘴芯片20。如 圖4B中所示，在沿著寬度方向的整個(gè)范圍上將多個(gè)(在該示例性實(shí)施例中四個(gè))噴嘴芯片 20以鋸齒形型式規(guī)則地形成兩排。噴嘴芯片20也能夠以除鋸齒形型式以外的規(guī)則型式布 置。作為噴墨系統(tǒng)，能夠采用使用熱產(chǎn)生元件的系統(tǒng)、使用壓電元件的系統(tǒng)、使用靜電元件 的系統(tǒng)、使用微型機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)元件的系統(tǒng)，等等。圖5A和5B示出構(gòu)成記錄頭2的一個(gè)噴嘴芯片20的結(jié)構(gòu)。噴嘴芯片20配備有 噴嘴表面22，所述噴嘴表面22具有用于噴墨的多個(gè)噴嘴陣列21 ；和噴嘴基板，在所述噴嘴 基板中嵌入有與噴嘴相對應(yīng)地形成的能量元件。多個(gè)(在該示例性實(shí)施例中四個(gè))噴嘴陣 列21沿著第一方向平行地布置。噴嘴芯片20的噴嘴基板設(shè)置在基底基板M上。噴嘴基板 和基底基板M通過電連接部分連接，并且電連接部分用由樹脂材料構(gòu)成的密封部分23覆 蓋并且被保護(hù)以免腐蝕和斷路。如圖5B中所示，圖5B是當(dāng)從側(cè)向觀察噴嘴表面22時(shí)的放 大圖，密封部分23形成在基底基板對上，并且構(gòu)成沿著噴墨方向(第三方向)突出超過噴 嘴表面22的突起。在一個(gè)噴嘴芯片20上，在噴嘴表面22相對于噴嘴陣列形成的方向(第 二方向)的兩個(gè)端部附近設(shè)置有兩個(gè)密封部分23。這樣，密封部分23接近多個(gè)噴嘴陣列 21，并且沿著噴墨方向膨脹超出噴嘴表面22，從而以平緩的躍變突出。圖6是詳細(xì)地示出一個(gè)清潔機(jī)構(gòu)9的構(gòu)造的透視圖。粗略而言，清潔機(jī)構(gòu)9具有 刮擦器單元10，所述刮擦器單元10擦去粘附到記錄頭2的噴嘴表面22的灰塵和墨；驅(qū)動(dòng) 機(jī)構(gòu)，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)使刮擦器單元10沿著刮擦方向(第二方向)運(yùn)動(dòng)；和框架40，所述框 架40 —體地支撐這些部件。刮擦器單元10是具有一個(gè)刮片等的可運(yùn)動(dòng)單元。通過通過驅(qū) 動(dòng)源30驅(qū)動(dòng)，驅(qū)動(dòng)單元使由兩個(gè)軸36所導(dǎo)引和支撐的刮擦器單元10沿著第二方向運(yùn)動(dòng)。 驅(qū)動(dòng)源30具有驅(qū)動(dòng)馬達(dá)31和減速齒輪32和33，并且驅(qū)動(dòng)源30適于轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)軸37。驅(qū)動(dòng) 軸37的轉(zhuǎn)動(dòng)通過滑輪34和帶35傳動(dòng)以使刮擦器單元10運(yùn)動(dòng)。圖7A和7B詳細(xì)地示出刮擦器單元10的結(jié)構(gòu)。圖7A是該單元的透視圖。刮擦器 單元10配備有兩個(gè)第一刮片12 (12a和12b)、兩個(gè)第二刮片13 (13a和13b)以及一體地支 撐這些刮片的刮片保持器14。另外，刮擦器單元10配備有兩個(gè)墨吸收構(gòu)件16a和16b和支 撐這些墨吸收構(gòu)件的吸收構(gòu)件保持器17。刮片保持器14和吸收構(gòu)件保持器17安裝在單元 基底18上。墨吸收構(gòu)件16a和16b由高吸收性的多空材料形成并且適于被驅(qū)動(dòng)以轉(zhuǎn)動(dòng)。墨吸 收構(gòu)件16設(shè)置成在與刮片11的兩個(gè)端部相對應(yīng)的兩個(gè)位置處與噴嘴表面22接觸。在通 過刮片11刮擦之后，從刮片11的兩個(gè)端部溢出且保持在噴嘴表面22上的墨和灰塵通過墨吸收構(gòu)件16a和16b吸收和回收。圖7B是單元的側(cè)視圖，也示出刮擦器單元10和記錄頭2之間的位置關(guān)系。刮片 11由放在一起的第一刮片12和第二刮片13構(gòu)成。第一刮片12、第二刮片13和墨吸收構(gòu) 件16相對于噴嘴表面22處于包含有固定的干涉量Il的位置關(guān)系。刮擦器單元10可以相 對于噴嘴表面22沿著與噴嘴表面22平行的刮擦方向運(yùn)動(dòng)。在該示例性實(shí)施例中，刮擦器 單元10相對于固定的記錄頭2運(yùn)動(dòng)。然而，這不應(yīng)當(dāng)被認(rèn)為是限制性的；也能夠采用其中 記錄頭2相對于固定的刮擦器單元運(yùn)動(dòng)的形式或者其中記錄頭2和固定的刮擦器單元二者 相對于彼此運(yùn)動(dòng)的形式。圖8是示出實(shí)際的記錄頭、刮片和墨吸收構(gòu)件之間的位置關(guān)系的視圖。在記錄頭 2中，噴嘴芯片20交替地布置，并且由第一噴嘴芯片排25和第二噴嘴芯片排沈構(gòu)成。由 第一刮片12a、第二刮片13a和墨吸收構(gòu)件16a所構(gòu)成的組件(第一組件)設(shè)置成與第一 噴嘴芯片排25相對應(yīng)。第一組件的部件中沒有一個(gè)與第二噴嘴芯片排沈接觸。在第一方 向中，第一刮片1 和第二刮片13a 二者具有大于噴嘴芯片20的寬度H的寬度A，并且整 個(gè)地覆蓋寬度H。另一方面，由第一刮片12b、第二刮片1 和墨吸收構(gòu)件16b所構(gòu)成的組 件(第二組件)設(shè)置成與第二噴嘴芯片排26相對應(yīng)。第二組件的部件中沒有一個(gè)與第一 噴嘴芯片排25接觸。第一刮片12b和第二刮片1 二者具有與多個(gè)噴嘴陣列的寬度相對 應(yīng)的刮擦寬度。更具體地，在第一方向上，第一刮片12b和第二刮片1 二者具有大于噴嘴 芯片20的寬度H的寬度A，并且整個(gè)地覆蓋寬度H。記錄頭2是具有多個(gè)噴嘴芯片排的行 式記錄頭，多個(gè)噴嘴芯片分別在所述多個(gè)噴嘴芯片排中沿著刮擦方向布置。并且，為每個(gè)噴 嘴芯片排都設(shè)置第一刮片12和第二刮片13。第一刮片1 布置成相對于第一方向傾斜了角θ 1。第一刮片12b布置成相對于 第一方向傾斜了角-θ 1。第二刮片13a布置成相對于第一方向傾斜了角θ 2。第二刮片 1 布置成相對于第一方向傾斜了角-θ 2。這里，參見附圖，順時(shí)針方向?qū)⒎Q為正方向，并 且逆時(shí)針方向?qū)⒎Q為負(fù)方向。當(dāng)沿著第一方向觀察時(shí)，墨吸收構(gòu)件16a與在第一刮片1 和第二刮片13a的外 側(cè)上的端部部分局部地交迭，并且刮擦沒有與噴嘴芯片20交迭的外部區(qū)域。當(dāng)沿著第一方 向觀察時(shí)，墨吸收構(gòu)件16b與在第一刮片12b和第二刮片13b的外側(cè)上的端部部分局部地 交迭，并且刮擦沒有與噴嘴芯片20交迭的外部區(qū)域。圖9是示出一個(gè)噴嘴芯片上的部件之間的位置關(guān)系的視圖。密封部分23的沿著 第一方向的寬度是H。沿著第二方向從密封部分23的噴嘴表面?zhèn)榷瞬康阶罱膰娮礻嚵?21的端部的距離是Y。沿著第一方向從密封部分23的端部到最遠(yuǎn)的噴嘴陣列21的距離是 X。噴嘴陣列21的數(shù)量是N(在該實(shí)施例中，N = 4)。如上所述，相對于一個(gè)噴嘴芯片20，第一刮片12布置成相對于第一方向傾斜了角 θ 1(θ 1是正的或者負(fù)的)。第二刮片13布置成相對于第一方向傾斜了角θ 2( θ 2是正的 或者負(fù)的)。在該示例性實(shí)施例中，角θ 1的絕對值等于角θ 2的絕對值。然而，這些值不 是絕對必須是彼此相等的；絕對值可以是彼此不同的。更具體地，角θ 1滿足條件0 < θ 1 < arctan(2Y/H)，并且角θ 2滿足條 件-arctan(2Y/H) < Θ2<0。以下將說明這些公式的含義。圖IOA至IlE是示出刮片和墨吸收構(gòu)件的刮擦操作的平面圖。雖然在下文中將給
7出圖13中的第二噴嘴芯片排沈側(cè)的說明，但是該說明也適用于噴嘴芯片排25側(cè)，所述噴 嘴芯片排25側(cè)是對稱的構(gòu)造。在一個(gè)刮擦操作中，由第一刮片12、第二刮片13和墨吸收構(gòu)件16所構(gòu)成的組件以 從圖IlA到圖IlE的順序相對于噴嘴芯片20的表面運(yùn)動(dòng)。第一刮片12、第二刮片13和墨 吸收構(gòu)件16以該順序相繼地與噴嘴表面接觸來擦去墨和灰塵。當(dāng)完成一個(gè)噴嘴芯片20的 清潔時(shí)，該組件繼續(xù)運(yùn)動(dòng)，以便在下一個(gè)噴嘴芯片20上執(zhí)行類似的清潔操作。這樣，在所有 行式記錄頭上執(zhí)行清潔。通過第一刮片12可靠地刮擦的第一區(qū)域是圖IOA中的陰暗區(qū)域E1。通過第二刮 片13可靠地刮擦的接下來的區(qū)域是圖IOB中的陰暗區(qū)域E2。因而，當(dāng)通過這兩個(gè)刮片相繼 地執(zhí)行刮擦?xí)r，可靠地刮擦的總區(qū)域是圖IOC中的陰暗區(qū)域E1+E2。如可以參見圖10C，在 全部四個(gè)噴嘴陣列21上直到端部部分完全地執(zhí)行清潔。如果角θ 1和角θ 2不滿足由以上公式所表達(dá)的關(guān)系，則角θ 1和角θ 2的絕對 值變得大于arctanQY/H)，中心噴嘴陣列(在該示例性實(shí)施例中第二噴嘴陣列和第三噴嘴 陣列)的端部部分離開陰暗區(qū)域El和E2并且保持未刮擦。當(dāng)噴嘴陣列21的布置數(shù)量N 是奇數(shù)時(shí)，所述中心噴嘴陣列是第((N+l)/2)個(gè)噴嘴陣列。同樣關(guān)于區(qū)域E4(除了區(qū)域E1+E2以外的噴嘴表面區(qū)域)，刮片會(huì)由于彈性變形 所導(dǎo)致的偏斜而出現(xiàn)與該區(qū)域E4接觸，使得可以期望在某種程度上發(fā)生刮擦，但不像區(qū)域 E1+E2的情況那樣可靠。假使僅有第一刮片12和第二刮片13中的一個(gè)。在圖IOA和IOB中所示的示例中， 運(yùn)動(dòng)延遲的最靠外的噴嘴陣列的端部部分離開陰暗區(qū)域El和E2而保持未刮擦。如果運(yùn)動(dòng) 的刮片的前向部分爬到從噴嘴表面突出的密封部分23上，則整個(gè)刮片也升高。結(jié)果，在噴 嘴陣列中保持有未刮擦的部分。噴嘴陣列定位得越遠(yuǎn)，則該噴嘴陣列受到該現(xiàn)象的影響越 嚴(yán)重。另外，傾角越大，則該現(xiàn)象的影響越嚴(yán)重。鑒于此，在該示例性實(shí)施例中，在第一刮片 12之后，使相反傾角的第二刮片13經(jīng)過，由此能夠防止產(chǎn)生未刮擦的區(qū)域。換言之，第一刮 片沒有完成刮擦的區(qū)域由第二刮片刮擦。由于在刮擦運(yùn)動(dòng)期間第一刮片12相對于第一方向傾斜，由刮片所刮去的墨和灰 塵聚集在刮片表面上，并且沿著刮片表面相對于刮擦方向向上側(cè)運(yùn)動(dòng)。更具體地，墨和灰塵 逐漸朝向外部墨吸收構(gòu)件16運(yùn)動(dòng)。由于運(yùn)動(dòng)而已經(jīng)從第一刮片12的外側(cè)溢出的墨和灰塵 粘附到噴嘴芯片20的外側(cè)上的基底基板24。然而，已經(jīng)溢出且粘附到基底基板的墨和灰塵 通過到來的且然后經(jīng)過的墨吸收構(gòu)件16吸收和回收。結(jié)果，在沒有留下任何未刮擦的區(qū)域 的情況下在整個(gè)記錄頭2上執(zhí)行清潔。由于墨吸收構(gòu)件16沒有與噴嘴表面接觸，所以沒有 使墨或者灰塵再次粘附到噴嘴表面。第二刮片13跟隨第一刮片12經(jīng)過，所述第二刮片13也刮去墨。然而，大部分的 墨已經(jīng)通過第一刮片12擦去，使得僅少量的墨聚集在第二刮片13的刮片表面上。因而，實(shí) 質(zhì)上沒有墨從第二刮片13的端部部分(內(nèi)側(cè))溢出而粘附到基底基板對。在上述的示例性實(shí)施例中，第一刮片12和第二刮片13 二者具有足夠大的刮擦寬 度以覆蓋多個(gè)噴嘴陣列。然而，如果圖IOC中所示的區(qū)域E1+E2能夠覆蓋全部噴嘴陣列直 到端部部分，則第一刮片12和第二刮片13中的一個(gè)或者兩個(gè)可以具有較小的刮擦寬度，所 述較小的刮擦寬度沒有覆蓋多個(gè)噴嘴陣列的寬度。
圖12A和12B示出根據(jù)第二示例性實(shí)施例的刮擦器單元的構(gòu)造。該示例性實(shí)施例 與上述的實(shí)施例的不同之處在于刮片的數(shù)量和構(gòu)造。除此之外，該實(shí)施例的構(gòu)造與上述的 實(shí)施例的構(gòu)造相同，所以以下說明將集中在不同之處。在該示例性實(shí)施例中，設(shè)置有兩個(gè)刮片50 (50a和50b)。刮片50和墨吸收構(gòu)件16 之間的位置關(guān)系使得相對于噴嘴表面22有干涉量12。圖13示出實(shí)際的記錄頭、刮片和墨吸收構(gòu)件之間的位置關(guān)系。由刮片50a和墨吸 收構(gòu)件16a所構(gòu)成的組件(第一組件)設(shè)置成與第一噴嘴芯片排25相對應(yīng)，并且第一組件 的部件中沒有一個(gè)與第二噴嘴芯片排26接觸。在第一方向中，刮片50a具有大于噴嘴芯片 20的寬度H的寬度A，并且處于覆蓋整個(gè)寬度H的位置關(guān)系中。另一方面，由刮片50b和墨 吸收構(gòu)件16b所構(gòu)成的組件(第二組件)設(shè)置成與第二噴嘴芯片排沈相對應(yīng)；第二組件的 部件中沒有一個(gè)與第一噴嘴芯片排25接觸。在第一方向中，刮片50b具有大于噴嘴芯片20 的寬度H的寬度A，并且處于覆蓋整個(gè)寬度H的位置關(guān)系中。刮片50a布置成相對于第一方向傾斜了角θ 3。刮片50b布置成相對于第一方向 傾斜了角-θ 3。當(dāng)沿著第一方向觀察時(shí)，墨吸收構(gòu)件16與在刮片50的外側(cè)上的端部部分 局部地交迭，并且刮擦沒有與噴嘴芯片20交迭的外部區(qū)域。在該示例性實(shí)施例中，沒有像上述的實(shí)施例中一樣借助兩個(gè)刮片而是借助一個(gè)刮 片在噴嘴芯片上執(zhí)行刮擦。因而，如上所述可能產(chǎn)生未刮擦的區(qū)域。然而，如以下說明，傾 角θ 3的范圍被適當(dāng)?shù)卮_定，由此沒有保持有未刮擦的區(qū)域。除了角θ 3以外，圖14是與圖9相同的視圖。在該示例中，示出圖13的第二噴嘴 芯片排26側(cè)。角θ 3是刮片50b的傾角。角θ 3滿足關(guān)系(-arctan(Y/X)) < θ 3 < 0。 關(guān)于對稱布置的另一個(gè)刮片50a，角θ 3滿足關(guān)系0 < θ 3 < arctan(Y/X)。更具體地，在 任何傾斜的方向中，角θ 3的絕對值滿足關(guān)系0 < θ 3 < arctan(Y/X)。在圖15中，通過刮片50可靠地刮擦的區(qū)域是圖IOA中的陰暗區(qū)域E5。當(dāng)角θ 3 滿足以上公式時(shí)，所有噴嘴陣列都被包圍在區(qū)域Ε5中，并且沒有出現(xiàn)有缺陷的刮擦。如果 角θ 3的絕對值變得大于arctan (Y/X)，則非?？赡艿氖钱?dāng)刮片50在密封部分23處升高 時(shí)，與密封部分23的端部相距最遠(yuǎn)的噴嘴陣列21的上端部分未被刮擦。同樣對于區(qū)域E6(除了區(qū)域E5以外的噴嘴表面區(qū)域)，刮片可能由于彈性變形所 導(dǎo)致的偏斜而與該區(qū)域E6接觸，使得可以期望在某種程度上發(fā)生刮擦，但沒有區(qū)域E5的情 況那樣可靠。由于在刮擦運(yùn)動(dòng)期間刮片50相對于第一方向傾斜，由刮片所刮去的墨和灰塵聚 集在刮片表面上，并且沿著刮片表面逐漸朝向外部吸收構(gòu)件16運(yùn)動(dòng)。已經(jīng)溢出且粘附到基 底基板M的墨通過到來且然后經(jīng)過的墨吸收構(gòu)件16吸收和回收。結(jié)果，在沒有留下任何 未刮擦的區(qū)域的情況下在整個(gè)記錄頭2上執(zhí)行清潔。由于墨吸收構(gòu)件16沒有與噴嘴表面 接觸，所以沒有使墨或者灰塵再次粘附到噴嘴表面。雖然已經(jīng)參照示例性實(shí)施例說明本發(fā)明，但應(yīng)理解本發(fā)明不受所公開的示例性實(shí) 施例限制。以下權(quán)利要求的范圍將與最廣泛的解釋一致，從而包含所有這些修改和等同結(jié) 構(gòu)以及功能。
權(quán)利要求
1.一種設(shè)備，其包括記錄頭，所述記錄頭具有噴嘴表面和密封部分，所述噴嘴表面具有平行布置的多個(gè)噴 嘴陣列，所述密封部分布置在所述多個(gè)噴嘴陣列附近并且突出超過所述噴嘴表面；和刮擦器單元，所述刮擦器單元能夠沿著與所述噴嘴表面平行的刮擦方向相對于所述噴 嘴表面相對地運(yùn)動(dòng)，并且所述刮擦器單元構(gòu)造成刮擦所述噴嘴表面，其中，所述刮擦器單元具有第一刮片和第二刮片，所述第一刮片布置成在與所述噴嘴 表面平行的平面內(nèi)相對于與所述刮擦方向垂直的方向傾斜了角θ ι(θ 1 >0)，而所述第二 刮片布置成在所述平面內(nèi)相對于與所述刮擦方向垂直的方向傾斜了角θ 2( θ 2 < 0)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述密封部分的沿著與所述刮擦方向垂直的方 向的寬度是H，并且沿著所述刮擦方向從所述密封部分的端部到所述噴嘴陣列的端部的距 離是Y，角θ 1滿足條件0 < θ 1 < arctan (2Y/H)，并且角θ 2滿足條件-arctan (2Υ/Η) < θ 2 < 0。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述第一刮片和所述第二刮片具有與所述多個(gè) 噴嘴陣列的寬度相對應(yīng)的刮擦寬度。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，角θ1的絕對值和角θ 2的絕對值相等。
5.一種設(shè)備，其包括記錄頭，所述記錄頭具有噴嘴表面和密封部分，所述噴嘴表面具有平行布置的多個(gè)噴 嘴陣列，所述密封部分布置在所述多個(gè)噴嘴陣列附近并且突出超過所述噴嘴表面；和刮擦器單元，所述刮擦器單元能夠沿著與所述噴嘴表面平行的刮擦方向相對于所述噴 嘴表面相對地運(yùn)動(dòng)，并且所述刮擦器單元構(gòu)造成刮擦所述噴嘴表面，其中，所述刮擦器單元具有第一刮片和第二刮片，所述第一刮片布置成在與所述噴嘴 表面平行的平面內(nèi)相對于與所述刮擦方向垂直的方向傾斜，并且由所述第二刮片刮擦未由 所述第一刮片完成刮擦的區(qū)域。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，還包括與所述第一刮片一起運(yùn)動(dòng)的墨吸收構(gòu)件，其中， 由所述墨吸收構(gòu)件吸收由于所述運(yùn)動(dòng)而從所述第一刮片的端部溢出的墨。
7.一種設(shè)備，其包括記錄頭，所述記錄頭具有噴嘴表面和密封部分，所述噴嘴表面具有平行布置的多個(gè)噴 嘴陣列，所述密封部分布置在所述多個(gè)噴嘴陣列附近并且突出超過所述噴嘴表面；和刮擦器單元，所述刮擦器單元能夠沿著與所述噴嘴表面平行的刮擦方向相對于所述噴 嘴表面相對地運(yùn)動(dòng)，并且所述刮擦器單元構(gòu)造成刮擦所述噴嘴表面，其中，所述刮擦器單元具有刮片，所述刮片具有與所述多個(gè)噴嘴陣列的寬度相對應(yīng)的 刮擦寬度，其中，所述刮片布置成在與所述噴嘴表面平行的平面內(nèi)相對于與所述刮擦方向 垂直的方向傾斜了角θ 3，并且其中，角θ 3的絕對值滿足條件0< 0 3<arctan(Y/X)(其 中，X 沿著與所述刮擦方向垂直的方向從所述密封部分的端部到最遠(yuǎn)的噴嘴陣列的距離， 和Y 沿著所述刮擦方向從所述密封部分的噴嘴表面?zhèn)榷瞬康阶罱膰娮礻嚵械亩瞬康木嚯x ) 。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的設(shè)備，還包括與所述刮片一起運(yùn)動(dòng)的墨吸收構(gòu)件，其中，由所 述墨吸收構(gòu)件吸收由于所述運(yùn)動(dòng)而從所述刮片的端部溢出的墨。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述記錄頭是行式記錄頭。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的設(shè)備，其中，在所述行式記錄頭上，在基底基板上沿著所述 刮擦方向布置有具有所述噴嘴表面的多個(gè)噴嘴芯片，并且與每個(gè)噴嘴芯片相對應(yīng)地形成所 述密封部分。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的設(shè)備，其中，所述密封部分設(shè)置在兩個(gè)位置處，所述兩個(gè)位 置在所述噴嘴表面的相對于所述噴嘴陣列形成的方向的兩個(gè)端部附近。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的設(shè)備，其中，所述行式記錄頭具有多個(gè)噴嘴芯片排，所述噴 嘴芯片排具有沿著所述刮擦方向布置的多個(gè)噴嘴芯片，并且為每個(gè)噴嘴芯片排都設(shè)置所述 刮片。
全文摘要
本發(fā)明提供一種設(shè)備，所述設(shè)備包括具有密封部分的記錄頭，所述密封部分布置在噴嘴陣列附近并且突出超過噴嘴表面。構(gòu)造成刮擦記錄頭的噴嘴表面的刮擦器單元具有第一刮片和第二刮片，并且第一刮片布置成在與噴嘴表面平行的平面內(nèi)相對于與刮擦方向垂直的方向傾斜了角θ1(θ1＞0)，而第二刮片布置成在所述平面內(nèi)相對于與刮擦方向垂直的方向傾斜了角θ2(θ2＜0)。
文檔編號(hào)B41J2/165GK102085753SQ2010105394
公開日2011年6月8日 申請日期2010年11月10日 優(yōu)先權(quán)日2009年11月10日
發(fā)明者中野武秋, 佐藤隆哉, 廣澤進(jìn), 杉本雅宏, 田中裕之, 鈴木義章, 鈴木誠治, 鹿目祐治 申請人:佳能株式會(huì)社