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一種新型烘缸的制作方法

文檔序號:2412136閱讀:224來源:國知局
專利名稱:一種新型烘缸的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種生產(chǎn)設(shè)備領(lǐng)域,更具體地,涉及ー種新型烘缸。
背景技術(shù)
在現(xiàn)有技術(shù)中,典型的烘缸為用于儲存壓カ蒸汽的鑄鐵結(jié)構(gòu),其中鑄鐵的厚度超過35mm,烘缸總重量超過20噸,要對該烘缸進(jìn)行加熱需要大量的能 源和時(shí)間(一般從常溫加熱到能夠生產(chǎn)要接近兩個(gè)小吋),而由于質(zhì)量太大,推動(dòng)該烘缸的運(yùn)轉(zhuǎn)約需要30千瓦的動(dòng)力。同吋,舊式烘缸系統(tǒng)包括鍋爐、連接管道和及烘缸本身,其中鍋爐負(fù)責(zé)產(chǎn)生高溫蒸汽,其大都采用明火加熱方式,加熱材料是木柴、煤炭、柴油、天然氣等燃料,不過該方式加熱的能量利用率低,勞動(dòng)力投入大,還因其高污染、高排放而對環(huán)境造成極大污染;此外,舊式的烘缸是I類壓カ容器,內(nèi)置高壓蒸汽,導(dǎo)致現(xiàn)有生產(chǎn)過程存在鍋爐蒸汽管道爆炸及燙傷的危險(xiǎn)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的,就是克服現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供ー種新型烘缸,該烘缸采用電磁線盤進(jìn)行加熱,大大節(jié)約了人力、燃料及加工時(shí)間。為了達(dá)到上述目的,采用如下技術(shù)方案ー種新型烘缸,包括滾筒,與所述滾筒連接設(shè)置有驅(qū)動(dòng)輪,所述驅(qū)動(dòng)輪位于滾筒的端部位置,所述滾筒為中空結(jié)構(gòu),所述滾筒在外表面上設(shè)置有用于加熱滾筒的電磁線盤。進(jìn)ー步地,所述滾筒的平均壁厚不超過16mm。更進(jìn)一歩地,所述滾筒在端部設(shè)置有用干支撐滾筒的轉(zhuǎn)軸,所述驅(qū)動(dòng)輪設(shè)置于該轉(zhuǎn)軸上。作為ー種具體實(shí)施例,還包括用于放置電磁線盤的線盤托架,所述線盤托架形成與滾筒的外表面相配合的曲面,所述電磁線盤設(shè)置于線盤托架上靠近滾筒ー側(cè)。作為ー種具體實(shí)施例,所述驅(qū)動(dòng)輪為齒輪。作為ー種具體實(shí)施例,所述驅(qū)動(dòng)輪為皮帶輪。作為ー種具體實(shí)施例,與電磁線盤相連設(shè)置有用于控制電磁線盤工作狀態(tài)的控制單元。與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明的有益效果在于采用電磁線盤對滾筒進(jìn)行加熱,無需鍋爐和與之連接的蒸汽管道的熱能轉(zhuǎn)換和輸送,避免了爆炸及高熱氣體造成的潛在危險(xiǎn),采用該方式加熱,一方面電磁波加熱金屬的方式使得能量的利用率達(dá)到最大,減少了用戶在能源費(fèi)用上的支出;另一方面使得加熱過程清潔環(huán)保,避免了傳統(tǒng)加熱方式對環(huán)境造成的污染;同吋,該加熱方式還因其方便簡捷大大減少了用戶在人力成本上的投入和傳統(tǒng)方式的設(shè)備維護(hù)費(fèi)用。此外,滾筒采用平均壁厚不超過16_的中空結(jié)構(gòu),減輕了滾筒整體重量,避免了傳統(tǒng)方式中加熱多余金屬殼體浪費(fèi)大量熱量,進(jìn)ー步降低了生產(chǎn)成本。


圖I是本發(fā)明所述新型烘缸的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是本發(fā)明所述新型烘缸的滾筒剖面圖。圖中ト滾筒;11-加強(qiáng)肋;12-殼體;2-電磁線盤;3-線盤托架;4-出風(fēng)ロ ;5-控制單元;6_支撐座;7_轉(zhuǎn)軸;8_驅(qū)動(dòng)輪。
具體實(shí)施例方式參見圖1,本發(fā)明所述的新型烘缸,包括滾筒1,與所述滾筒I連接設(shè)置有驅(qū)動(dòng)輪8,所述驅(qū)動(dòng)輪8位于滾筒I的端部位置,所述滾筒I為中空結(jié)構(gòu),滾筒I中間設(shè)置有加強(qiáng)肋11,所述滾筒I在外表面上設(shè)置有用于加熱滾筒I的電磁線盤2,所述滾筒I包括殼體12,殼體12的平均壁厚h不超過16_,所述滾筒I在端部位置分別設(shè)置有用干支撐滾筒I的轉(zhuǎn)軸7,所述驅(qū)動(dòng)輪8設(shè)置于該轉(zhuǎn)軸7上,轉(zhuǎn)軸7通過支承座6進(jìn)行固定;在本實(shí)施例中,所述烘缸還包括用于放置電磁線盤2的線盤托架3,所述線盤托架3形成與滾筒I的外表面相配合形的曲面,所述電磁線盤2設(shè)置于線盤托架3上靠近滾筒I ー側(cè)。為了使電磁線盤
2的加熱盡量均勻,線盤托架3上還開出風(fēng)ロ 4,所述驅(qū)動(dòng)輪8可以是齒輪,也可以是皮帶驅(qū)動(dòng)的皮帶輪,本實(shí)施例中優(yōu)選為齒輪,與電磁線盤相連設(shè)置有控制單元5 (電磁加熱機(jī)芯),該控制單元5給電磁線盤2供電,用于控制電磁線盤2的工作狀態(tài)?;谏鲜鼋Y(jié)構(gòu)和設(shè)置,本發(fā)明所述的新型烘缸工作原理如下在新型烘缸工作時(shí),操作人員通過控制單元5指令電磁線盤2工作,同時(shí)滾筒I由驅(qū)動(dòng)輪8帶動(dòng)勻速旋轉(zhuǎn),同時(shí)在此過程中,電磁線盤2對滾筒I的外壁12進(jìn)行加熱,由于該外壁12的厚度僅有16mm,電磁線盤12僅需較小功率即可完成對滾筒I的加熱,其所需能量僅為傳統(tǒng)烘缸的所需能量的1/7 ;同吋,由于電磁線盤2只覆蓋滾筒I的部分表面,滾筒I通過其他表面進(jìn)行工作,從而完成對紙張、布匹烘干燙光、印花等任務(wù)。應(yīng)該理解,以上具體實(shí)施例所公布的內(nèi)容僅為本發(fā)明的部分優(yōu)選方案,凡是基于本發(fā)明的技術(shù)方案、符合本發(fā)明的技術(shù)精神,屬于本領(lǐng)域技術(shù)人員無需進(jìn)行創(chuàng)造性勞動(dòng)即可得到的實(shí)施例都應(yīng)屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1.一種新型烘缸,包括滾筒,與所述滾筒連接設(shè)置有驅(qū)動(dòng)輪,所述驅(qū)動(dòng)輪位于滾筒的端部位置,其特征在于,所述滾筒為中空結(jié)構(gòu),所述滾筒在外表面上設(shè)置有用于加熱滾筒的電磁線盤。
2.如權(quán)利要求I所述的新型烘缸,其特征在于,所述滾筒的平均壁厚不超過16mm。
3.如權(quán)利要求2所述的新型烘缸,其特征在于,所述滾筒在端部設(shè)置有用于支撐滾筒的轉(zhuǎn)軸,所述驅(qū)動(dòng)輪設(shè)置于該轉(zhuǎn)軸上。
4.如權(quán)利要求3所述的新型烘缸,其特征在于,還包括用于放置電磁線盤的線盤托架,所述線盤托架形成與滾筒的外表面相配合的曲面,所述電磁線盤設(shè)置于線盤托架上靠近滾筒一側(cè)。
5.如權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的新型烘缸,其特征在于,所述驅(qū)動(dòng)輪為齒輪。
6.如權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的新型烘缸,其特征在于,所述驅(qū)動(dòng)輪為皮帶輪。
7.如權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的新型烘缸,其特征在于,與電磁線盤相連設(shè)置有用于控制電磁線盤工作狀態(tài)的控制單元。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種新型烘缸,包括滾筒,與所述滾筒連接設(shè)置有驅(qū)動(dòng)輪,所述驅(qū)動(dòng)輪位于滾筒的端部位置,所述滾筒為中空結(jié)構(gòu),所述滾筒在外表面上設(shè)置有用于加熱滾筒的電磁線盤;該新型烘缸的滾筒采用平均壁厚不超過16mm的中空結(jié)構(gòu),減輕了滾筒整體重量,避免了傳統(tǒng)方式中加熱多余金屬殼體浪費(fèi)大量熱量;采用電磁線盤對滾筒進(jìn)行加熱,無需鍋爐和與之連接的蒸汽管道的熱能轉(zhuǎn)換和輸送,避免了爆炸及高熱氣體造成的潛在危險(xiǎn),一方面可以提高能量利用率,減少在能源費(fèi)用上的支出,另一方面避免傳統(tǒng)加熱方式對環(huán)境造成的污染,具有清潔環(huán)保的功能。
文檔編號D21F5/02GK102704311SQ201210132
公開日2012年10月3日 申請日期2012年4月28日 優(yōu)先權(quán)日2012年4月28日
發(fā)明者程健光 申請人:程健光
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