專利名稱：測量材料表面形變的簡易貼及其制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及實驗力學(xué)中材料表面形變測量技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種測量材料表面形變的簡易貼及其制作方法。
背景技術(shù)：
實驗力學(xué)中物體表面的面內(nèi)位移及變形測量主要有機械法、電測法與光學(xué)測量法三類，其中，光學(xué)測量法作為一種全場非接觸測量方法而受到廣泛應(yīng)用。在上世紀(jì)先后出現(xiàn)的光學(xué)測量方法主要有單光束散斑成像法，平面云紋法，云紋干涉法，電子散斑干涉法，數(shù)字散斑相關(guān)技術(shù)及自動網(wǎng)格法。自動網(wǎng)格法通過在物件上預(yù)制正交網(wǎng)格或正交點陣，在物體形變前后記錄兩張網(wǎng)格圖，比較形變前后各網(wǎng)格點位置移動量，獲得各網(wǎng)格點的全場位移。目前，自動網(wǎng)格法中采用了計算機數(shù)字圖像處理技術(shù)對平面位移和應(yīng)變等進行自動測量，使其計算速度與測量精度得到了大大提高。自動網(wǎng)格法測量物體表面位移的原理為，參見圖1，利用高分辨率的CCD(Charge Coupled Device，電荷耦合元件)相機5，在待測物體2上增加負載3前后，對待測物體2上預(yù)置的網(wǎng)格/點陣1進行拍攝成像，之后通過計算機6上的數(shù)字圖像處理和分析軟件，對增加負載3前后兩幅圖像中的相應(yīng)網(wǎng)格點的相對位移進行自動識別，進而求出全場位移。與其他方法比較，自動網(wǎng)格法原理簡單，網(wǎng)格點陣制作簡單，使用方便，適應(yīng)性強， 可以測量大物體形變也可測量小區(qū)域形變，并且是一種非接觸的測量方法。利用自動網(wǎng)格法測量物體表面位移的前提是在待測物體上設(shè)置合適的網(wǎng)格/點陣，對網(wǎng)格/點陣的要求為網(wǎng)格/點陣直徑及間距大小以不降低系統(tǒng)精度的最小尺寸為宜；為了方便計算機圖像處理，網(wǎng)格/點陣與背景必須有高光學(xué)對比度，因此網(wǎng)格/點陣主要有兩類，即白背景黑點陣與黑背景白點陣；網(wǎng)格/點陣應(yīng)該能夠方便的應(yīng)用于各種不同尺寸、不同形狀以及不同材料的物體上。現(xiàn)有技術(shù)中的網(wǎng)格/點陣的制作方法有以下幾種1)電腦刻字法，首先用電腦刻字機在不干膠塑料膜上刻畫出規(guī)則的圓形點陣，再設(shè)法將圓形點陣轉(zhuǎn)貼到試件上；2)印刷制柵法，先用計算機生成所需的正交網(wǎng)格圖，再轉(zhuǎn)印到不干膠薄膜上，實驗時，再將薄膜轉(zhuǎn)貼到試件表面；3)掩模噴涂法，制作具有規(guī)則圓孔點陣的掩模板，再對緊貼物件表面的掩模板噴涂顏料或油漆；4)絲網(wǎng)印刷法，在刻有點陣的絲網(wǎng)印版一端倒入油墨，用刮印刮板在絲網(wǎng)印版上的油墨部位施加一定壓力，同時朝絲網(wǎng)印版另一端移動，油墨在移動中被刮板從印版的網(wǎng)孔中擠壓到物件上。采用上述技術(shù)制作出的網(wǎng)格/點陣尺寸往往較大，而且很難保證制作精度，雖然尺寸較大的網(wǎng)格/點陣可以提高測量精度，但網(wǎng)格/點陣太大，CCD相機的視場內(nèi)的網(wǎng)格/ 點陣就會太少，從而導(dǎo)致數(shù)據(jù)量不夠，因此網(wǎng)格/點陣的直徑應(yīng)該選擇不影響測量精度的最小尺寸。并且，隨著高分辨率CCD相機的發(fā)展，相機本身可以分辨的網(wǎng)格/點陣的尺寸變小了，甚至可以分辨直徑100微米，間距300微米的網(wǎng)格/點陣，而采用現(xiàn)有技術(shù)第二種至第五種的網(wǎng)格點陣制作方法得到的網(wǎng)格/點陣尺寸偏大，已經(jīng)不能滿足高分辨率CCD相機的需求了?；谝陨显?，目前亟需一種制作過程簡單，使用方便，能夠應(yīng)用于不同待測樣品，同時又能滿足高分辨率CCD相機以及自動網(wǎng)格法對網(wǎng)格/點陣要求的網(wǎng)格/點陣制作方法。

發(fā)明內(nèi)容
為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明實施例提供了一種測量材料表面形變的簡易貼及其制作方法，能夠滿足高分辨率CCD相機以及自動網(wǎng)格法對網(wǎng)格/點陣要求，并且，制作過程簡單，使用方便。為解決上述問題，本發(fā)明實施例提供了如下技術(shù)方案一種測量材料表面形變的簡易貼的制作方法，包括提供基底；在所述基底上粘貼表面粗糙的膠帶；在所述膠帶上形成反射層，所述反射層表面與所述膠帶表面具有高光學(xué)對比度；采用光刻工藝，在所述膠帶上形成網(wǎng)格、點陣或柵線的圖形；將所述膠帶與所述基底分離，制作完成測量材料表面形變的簡易貼。優(yōu)選的，所述基底為平面玻璃基底。優(yōu)選的，所述膠帶背向所述基底的一面為黑色，所述反射層表面為白色。優(yōu)選的，所述膠帶為PVC膠帶。優(yōu)選的，所述反射層為鉻膜。優(yōu)選的，所述在所述膠帶上形成反射層的方式為，采用物理氣相淀積或化學(xué)氣相淀積的方法在所述膠帶上形成反射層。優(yōu)選的，所述反射層的厚度大于或等于50nm。優(yōu)選的，在所述膠帶上形成網(wǎng)格、點陣或柵線的圖形的過程具體為在所述反射層上形成光刻膠層，在所述光刻膠層上形成網(wǎng)格、點陣或柵線的圖形；以具有網(wǎng)格、點陣或柵線圖形的光刻膠層為掩膜，去除未被光刻膠層覆蓋的反射層材料，以在所述膠帶上形成網(wǎng)格、點陣或柵線的圖形。優(yōu)選的，還包括，在具有網(wǎng)格、點陣或柵線的圖形的膠帶上形成保護層，以避免所述網(wǎng)格、點陣或柵線的圖形脫落。本發(fā)明實施例還公開了采用上述方法制作出的測量材料表面形變的簡易貼。與現(xiàn)有技術(shù)相比，上述技術(shù)方案具有以下優(yōu)點本發(fā)明實施例所提供的技術(shù)方案，通過采用光刻工藝，可以制作直徑為微米至毫米數(shù)量級的網(wǎng)格、點陣或柵線等，使得最終網(wǎng)格/點陣的尺寸能夠滿足CCD相機以及自動網(wǎng)格法對小尺寸網(wǎng)格/點陣的要求。并且，由于紫外光刻技術(shù)自身的特點，使得制作出的網(wǎng)格、點陣或柵線等很有規(guī)則且均勻，而且制作技術(shù)成熟、簡單，制作周期短。
并且，由于本實施例中是將網(wǎng)格/點陣等制作在表面粗糙的膠帶上，而反射層與膠帶的光學(xué)對比度高，照明光束照射到膠帶上將發(fā)生漫反射，照射到反射層上則直接反射， 從而可使CCD相機拍攝出的圖像中的網(wǎng)格/點陣和背景形成強烈的反差，有利于提高后期圖像的處理速度和精度。而且，將高反射的網(wǎng)格/點陣與低反射的膠帶一起使用，無須考慮待測樣品的顏色以及是否反光等問題，因此適合各種材料，可應(yīng)用于不同的待測樣品，只要能將這種簡易貼牢牢粘到樣品表面即可，使用方便。


為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。圖1為采用自動網(wǎng)格法測量物體表面位移的原理示意圖；圖2為本發(fā)明實施例提供的測量材料表面形變的簡易貼的制作方法的流程示意圖；圖3-圖9為本發(fā)明實施例提供的測量材料表面形變的簡易貼的制作方法的各步驟的剖面圖；圖10為本發(fā)明另一實施例提供的測量材料表面形變的簡易貼的制作方法的流程示意圖；圖11為本發(fā)明實施例公開的具有黑背景白色圓形點陣的簡易貼形狀示意圖；圖12為本發(fā)明實施例公開的具有白背景黑色圓形點陣的簡易貼形狀示意圖；圖13為本發(fā)明實施例公開的具有黑背景白色柵線的簡易貼形狀示意圖；圖14為本發(fā)明實施例公開的具有白背景黑色柵線的簡易貼形狀示意圖；圖15為本發(fā)明實施例公開的具有黑背景白色方形點陣的簡易貼形狀示意圖；圖16為本發(fā)明實施例公開的具有白背景黑色方形點陣的簡易貼形狀示意圖。
具體實施例方式正如背景技術(shù)所述，現(xiàn)有技術(shù)中的方法制作出的網(wǎng)格/點陣往往偏大，不能滿足高分辨率CCD相機對小尺寸網(wǎng)格/點陣的發(fā)展需要，因此，為了滿足各種樣品表面的測量需求，亟需研制一種新的網(wǎng)格/點陣的制作方法。在半導(dǎo)體領(lǐng)域，光刻技術(shù)制作出的圖形精度很高，而且圖形的尺寸可以做的足夠小，因此，發(fā)明人考慮，若將半導(dǎo)體領(lǐng)域中的光刻技術(shù)引入網(wǎng)格/點陣的制作過程，即可解決現(xiàn)有技術(shù)中制作的網(wǎng)格/點陣偏大的問題?；谏鲜鏊枷?，本發(fā)明實施例提供了一種測量材料表面形變的簡易貼及其制作方法，該方法包括以下步驟提供基底；在所述基底上粘貼表面粗糙的膠帶；在所述膠帶上形成反射層，所述反射層表面與所述膠帶表面具有高光學(xué)對比度；采用光刻工藝，在所述膠帶上形成網(wǎng)格、點陣或柵線的圖形；
將所述膠帶與所述基底分離，制作完成測量材料表面形變的簡易貼。本發(fā)明實施例中通過采用光刻工藝，將網(wǎng)格/點陣/柵線的圖形制作在表面粗糙的膠帶上，由于光刻工藝自身的特點，使得制作出的網(wǎng)格/點陣/柵線的尺寸能夠滿足CXD 相機以及自動網(wǎng)格法對小尺寸網(wǎng)格/點陣的要求。以上是本申請的核心思想，下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例， 而不是全部的實施例。基于本發(fā)明中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。在下面的描述中闡述了很多具體細節(jié)以便于充分理解本發(fā)明，但是本發(fā)明還可以采用其他不同于在此描述的其它方式來實施，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以在不違背本發(fā)明內(nèi)涵的情況下做類似推廣，因此本發(fā)明不受下面公開的具體實施例的限制。其次，本發(fā)明結(jié)合示意圖進行詳細描述，在詳述本發(fā)明實施例時，為便于說明，表示器件結(jié)構(gòu)的剖面圖會不依一般比例作局部放大，而且所述示意圖只是示例，其在此不應(yīng)限制本發(fā)明保護的范圍。此外，在實際制作中應(yīng)包含長度、寬度及深度的三維空間尺寸。實施例一本實施例公開了一種測量材料表面形變的簡易貼的制作方法，該方法的流程圖如圖2所示，該方法各步驟的剖面圖如圖3-圖9所示，包括以下步驟步驟SlOl 提供基底11 ；參見圖3，所述基底11的主要作用是使后續(xù)粘貼的膠帶表面平整，便于在所述膠帶表面制作網(wǎng)格/點陣等，因此，該基底11只要保證為平面基底即可，本實施例中優(yōu)選采用平面玻璃基底，當(dāng)然，也可采用其它平面基底。步驟S102 在所述基底11上粘貼表面粗糙的膠帶12，如圖3所示；所述膠帶12與基底11接觸的一面上可以具有不干膠之類的物質(zhì)，以便于將膠帶 12平鋪后，與基底11粘貼在一起，而膠帶12的另一面表面粗糙，使其受到光束照射后發(fā)生漫反射，本實施例中的膠帶12優(yōu)選為PVC膠帶。步驟S103 在所述膠帶12上形成反射層13，所述反射層13表面與所述膠帶12表面具有高光學(xué)對比度，如圖4所示；其中，由于最終制作完成的網(wǎng)格/點陣尺寸很小，因此，為了使形成的網(wǎng)格/點陣容易分辨，所述反射層13的厚度大于或等于50nm。優(yōu)選的，本實施例中的膠帶12背向所述基底的一面為黑色，所述反射層13表面為白色，從而使制作出的網(wǎng)格/點陣等要么為白背景黑點陣，要么為黑背景白點陣，以滿足計算機圖像處理的需要。并且，由于采用的膠帶表面粗糙，因此拍照時，光束照射到膠帶上發(fā)生漫反射，而反射層部分具有高反射性，從而使CCD相機拍攝出的圖像中點陣和背景形成強烈的反差，有利于提高后期圖像處理速度和精度。具體的，本實施例中選擇白色金屬，尤其是粉末為白色的金屬作為制作反射層的材料，本實施例中優(yōu)選采用金屬鉻制作反射層。本實施例中可采用CVD(化學(xué)氣相淀積)、 PECVD (等離子體增強的化學(xué)氣相淀積)、HDP (高密度等離子體化學(xué)氣相淀積)或PVD (物理氣相淀積)的方式形成鉻膜，本實施例中優(yōu)選采用PVD中的濺射的方式，具體可采用離子束濺射、磁控濺射或采用電鍍液電鍍沉積的方式形成鉻膜。
步驟S104:采用光刻工藝，在所述膠帶上形成網(wǎng)格、點陣或柵線的圖形，如圖5-圖 8所示；具體的，如圖5所示，先在反射層13上旋涂光刻膠層14，該光刻膠層的厚度約為 6 μ m-10 μ m為了保證曝光精度，還可在光刻膠層14和反射層13之間形成抗反射層(圖中未示出)，以減少不必要的反射，之后將具有網(wǎng)格、點陣或柵線圖形的掩膜版覆蓋于光刻膠層14上進行曝光、顯影、烘干等光刻步驟，在所述光刻膠層14表面上形成網(wǎng)格、點陣或柵線的圖案，之后，如圖6所示，去除網(wǎng)格、點陣或柵線圖案區(qū)域的光刻膠層，在光刻膠層14上形成網(wǎng)格、點陣或柵線的圖形開口，之后如圖7所示，以具有網(wǎng)格、點陣或柵線圖形開口的光刻膠層為掩膜，采用濕法腐蝕的方法去除相應(yīng)部位的反射層材料(即金屬鉻)，進而在膠帶上形成網(wǎng)格、點陣或柵線的圖形。本實施例中采用將鉻膜浸泡于去鉻液中的方式在膠帶上形成網(wǎng)格、點陣或柵線的圖形，采用去鉻液腐蝕掉未被光刻膠層覆蓋區(qū)域的鉻膜，保留被光刻膠層覆蓋的鉻膜。本實施例中去鉻液的成分為，占體積比4% -8%的高氯酸，占體積比7% -11%的硝酸鈰銨，其余為水，優(yōu)選的，按體積比，高氯酸硝酸鈰銨水=6 9 85，去鉻時間為1-2分鐘。之后采用濕法化學(xué)清洗等方法，去除光刻膠層14，本實施例中優(yōu)選采用丙酮溶液去除光刻膠層，進而形成黑色背景(表面粗糙的PVC膠帶，低反射性)銀白色網(wǎng)格/點陣 (鉻點陣或網(wǎng)格，高反射性)，或銀白色背景黑色網(wǎng)格/點陣等。需要說明的是，以上所述網(wǎng)格/點陣等只是表示自動網(wǎng)格法測量物體表面位移時所采用的圖形的統(tǒng)稱，并非只是表示網(wǎng)格或點陣圖形，也可以在膠帶上形成柵線等任意圖形，具體形成何種圖形，取決于待測物體表面的情況，采用哪種圖形測量出的物體表面位移更準(zhǔn)確，就會形成哪種圖形。另外，形成的網(wǎng)格/點陣的顏色等，取決于采用的光刻膠的類型，可以為正性光刻膠，也可以為負性光刻膠，具體選擇由掩模板的圖形以及待測物體表面情況而定。步驟S105 將所述膠帶與所述基底分離，制作完成測量材料表面形變的簡易貼。完成網(wǎng)格/點陣的制作后，直接將PVC膠帶從平面玻璃基底上揭下即可，之后可使用502等強力膠將該簡易貼粘貼到待測物品上即可，需保證簡易貼與待測物品表面粘貼緊固，以免在測量過程中由于物品表面發(fā)生形變而使簡易貼與物品表面脫離。本發(fā)明實施例公開的方法，通過采用紫外光刻工藝，可以制作直徑為微米至毫米數(shù)量級的網(wǎng)格、點陣或柵線等，使得最終網(wǎng)格/點陣的尺寸能夠滿足CCD相機以及自動網(wǎng)格法對小尺寸網(wǎng)格/點陣的要求。并且，由于紫外光刻技術(shù)自身的特點，使得制作出的網(wǎng)格、 點陣或柵線等很有規(guī)則且均勻，而且制作技術(shù)成熟、簡單，制作周期短。并且，由于本實施例中是將網(wǎng)格/點陣等制作在表面粗糙的膠帶上，并且采用銀白色的鉻膜作為反射層，與黑色的膠帶的光學(xué)對比度高，照明光束照射到膠帶上將發(fā)生漫反射，照射到反射層上則直接反射，從而可使CCD相機拍攝出的圖像中的網(wǎng)格/點陣和背景形成強烈的反差，有利于提高后期圖像的處理速度和精度。而且，將高反射的網(wǎng)格/點陣與低反射的膠帶一起使用，無須考慮待測樣品的顏色以及是否反光等問題，因此適合各種材料，可應(yīng)用于不同的待測樣品，只要能將這種簡易貼牢牢粘到樣品表面即可，使用方便。實施例二
本實施例公開的測量材料表面形變的簡易貼的制作方法流程圖如圖10所示，各步驟的剖面圖如圖3-圖9所示，本實施例與上一實施例不同的是，在上一實施例的基礎(chǔ)上增加了步驟S205 在去除光刻膠之后，在具有網(wǎng)格、點陣或柵線的圖形的膠帶上形成保護層15，以避免所述網(wǎng)格、點陣或柵線的圖形脫落，如圖9所示。具體的，可采用在具有鉻點陣的PVC膠帶上噴涂透明漆的方式，將鉻網(wǎng)格/點陣固定在PVC膠帶上，以避免在使用過程中，鉻網(wǎng)格/點陣在外力摩擦下脫落，透明漆的厚度約為10nm，厚度要均勻，以免影響測量結(jié)果。下面以幾種不同的簡易貼的制作過程為例，對本發(fā)明的方法進行說明。1)如圖11和圖12所示的具有圓形正交點陣的簡易貼的制作過程剖面圖如圖 3-圖9所示包括以下步驟步驟1 選擇黑色且表面粗糙的PVC膠帶，將合適長度的PVC膠帶12平鋪并粘貼在平面基底11(如玻璃)上，如圖3所示，之后采用離子束濺射鍍膜機在膠帶上采用濺射鍍膜的方式鍍上厚度IOOnm的鉻膜13，如圖4所示；當(dāng)然，為了增加最終得到的鉻網(wǎng)格/點陣的反射率，以達到增加點陣與背景的反差，使拍攝出的照片更清晰，計算機處理結(jié)果更準(zhǔn)確，可以增加鉻膜的厚度，如濺射鍍上厚度200nm的鉻膜。步驟2 采用旋轉(zhuǎn)涂膠法在鉻膜上旋涂厚度約為10微米的光刻膠14，見圖5，因 PVC膠帶表面粗糙，光刻膠厚度至少需在5微米以上，使用具有正交點陣圖形的掩膜版在紫外光刻機上曝光、顯影、烘干等一系列光刻步驟在光刻膠上得到正交網(wǎng)格/點陣浮雕圖形， 保證點與點之間露出鉻，見圖6，其中，掩膜版上有直徑200微米，間距400微米的點陣；步驟3 在光刻膠上形成網(wǎng)格/點陣圖形后，將其浸泡于去鉻溶液中，去除未被光刻膠覆蓋的鉻，浸泡時間約為2分鐘，得到被光刻膠層覆蓋的鉻網(wǎng)格/點陣的圖形，見圖7， 其中，去鉻溶液按體積比包括6%的高氯酸，9%硝酸鈰銨，85%的水；步驟4 采用浸泡丙酮溶液的方法，以去除鉻點陣上的光刻膠層，見圖8，浸泡時間約20秒；步驟5 在鉻點陣上噴涂一層透明的消光漆，作為保護層，等待約2分鐘，消光漆凝固后，直接將PVC膠帶從玻璃基底上揭下，獲得具有網(wǎng)格/點陣的簡易貼，如圖9、圖11和圖 12所示，圖11為采用正性光刻膠制作得到的黑色背景、銀白色點陣(即黑網(wǎng)格白點陣)的簡易貼形狀示意圖，圖12為采用負性光刻膠制作得到的銀白色背景、黑色點陣(即白網(wǎng)格黑點陣)的簡易貼形狀示意圖。使用時，在簡易貼的背面，即不具有網(wǎng)格/點陣的一面涂上502等強力膠，之后將簡易貼平整緊固的粘貼到待測樣品表面即可。2)制作如圖13和圖14所示的具有光柵線條的簡易貼的過程仍如3-圖9所示， 該制作過程與上述制作正交圓形網(wǎng)格/點陣的過程類似，唯一不同的是，采用的掩膜版為一維光柵掩膜版，該掩膜版上的光柵線條(擋光部分)寬度為200微米，每兩個光柵線條的間距為400微米，最終制作出的簡易貼的形狀示意圖如圖13和圖14所示，圖13為采用正性光刻膠制作得到的黑色背景(PVC膠帶)、銀白色光柵線條(鉻線條)的簡易貼形狀示意圖，圖14為采用負性光刻膠制作得到的銀白色背景(鉻膜)、黑色光柵線條(PVC膠帶)的簡易貼形狀示意圖。
3)制作如圖15和圖16所示的具有方形網(wǎng)格/點陣的簡易貼的過程仍如3-圖9 所示，該制作過程與上述制作圓形正交網(wǎng)格/點陣的過程類似，唯一不同的是，采用的掩膜版為方形點陣掩膜版，該掩膜版上的方形點陣寬度為200微米，間距為400微米，最終制作出的簡易貼的形狀示意圖如圖15和圖16所示，圖15為采用正性光刻膠制作得到的黑色背景、銀白色方形鉻點陣的簡易貼形狀示意圖，圖16為采用負性光刻膠制作得到的銀白色背景、黑色方形點陣的簡易貼形狀示意圖。需要說明的是，以上僅是以具有圓形正交網(wǎng)格/點陣、方形正交網(wǎng)格/點陣以及柵線的簡易貼為例對本發(fā)明實施例的簡易貼制作過程進行說明，具體采用哪種樣式，哪種尺寸要求的網(wǎng)格/點陣應(yīng)以待測樣品表面的具體情況為準(zhǔn)。實施例三與以上方法實施例相對應(yīng)，本實施例公開了一種采用上述2個實施例的方法制作出的測量材料表面形變的簡易貼，該簡易貼包括表面粗糙的膠帶，優(yōu)選為表面為黑色的PVC膠帶；設(shè)置于所述膠帶上的網(wǎng)格、點陣或柵線的圖形，所述網(wǎng)格、點陣或柵線的圖形表面與所述膠帶表面具有高光學(xué)對比度，所述網(wǎng)格、點陣或柵線等圖形的制作采用優(yōu)選為金屬鉻。另外，該簡易貼還包括，覆蓋于所述網(wǎng)格、點陣或柵線的圖形上的保護層，優(yōu)選為透明漆，以防止網(wǎng)格、點陣或柵線等圖形在外力摩擦下脫落。本實施例中的由PVC膠帶和鉻點陣組成的簡易貼，其上的網(wǎng)格/點陣尺寸足夠小， 能夠滿足CXD相機的拍攝需求，而且適用于各種材料表面，尤其適合測量對象為某些不方便拆卸的設(shè)備上的某一部件，以及某些特殊表面(如測量對象是孔、縫，棱等周圍時)。此時，可以采用大面積的PVC膠帶制作大尺寸的點陣簡易貼，以滿足大尺寸樣品的測量，同時也可以采用多塊小尺寸簡易貼。在進行測量之前，可以預(yù)先做好多種不同尺寸、不同規(guī)格的簡易貼作為儲備，使用時根據(jù)實際情況選擇合適的簡易貼，并將其粘到樣品上即可進行測量，及時、方便、快捷。本說明書中各個部分采用遞進的方式描述，每個部分重點說明的都是與其他部分的不同之處，各個部分之間相同相似部分互相參見即可。對所公開的實施例的上述說明，使本領(lǐng)域?qū)I(yè)技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)或使用本發(fā)明。對這些實施例的多種修改對本領(lǐng)域的專業(yè)技術(shù)人員來說將是顯而易見的，本文中所定義的一般原理可以在不脫離本發(fā)明的精神或范圍的情況下，在其它實施例中實現(xiàn)。因此，本發(fā)明將不會被限制于本文所示的實施例，而是要符合與本文所公開的原理和新穎特點相一致的最寬的范圍。
權(quán)利要求
1.一種測量材料表面形變的簡易貼的制作方法，其特征在于，包括 提供基底；在所述基底上粘貼表面粗糙的膠帶；在所述膠帶上形成反射層，所述反射層表面與所述膠帶表面具有高光學(xué)對比度； 采用光刻工藝，在所述膠帶上形成網(wǎng)格、點陣或柵線的圖形； 將所述膠帶與所述基底分離，制作完成測量材料表面形變的簡易貼。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述基底為平面玻璃基底。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述膠帶背向所述基底的一面為黑色，所述反射層表面為白色。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述膠帶為PVC膠帶。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述反射層為鉻膜。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述在所述膠帶上形成反射層的方式為， 采用物理氣相淀積或化學(xué)氣相淀積的方法在所述膠帶上形成反射層。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述反射層的厚度大于或等于50nm。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，在所述膠帶上形成網(wǎng)格、點陣或柵線的圖形的過程具體為在所述反射層上形成光刻膠層，在所述光刻膠層上形成網(wǎng)格、點陣或柵線的圖形； 以具有網(wǎng)格、點陣或柵線圖形的光刻膠層為掩膜，去除未被光刻膠層覆蓋的反射層材料，以在所述膠帶上形成網(wǎng)格、點陣或柵線的圖形。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，還包括，在具有網(wǎng)格、點陣或柵線的圖形的膠帶上形成保護層，以避免所述網(wǎng)格、點陣或柵線的圖形脫落。
10.采用權(quán)利要求1-9任一項所述的方法制作出的測量材料表面形變的簡易貼。
全文摘要
本發(fā)明實施例公開了一種測量材料表面形變的簡易貼及其制作方法，該方法包括提供基底；在所述基底上粘貼表面粗糙的膠帶；在所述膠帶上形成反射層，所述反射層表面與所述膠帶表面具有高光學(xué)對比度；采用光刻工藝，在所述膠帶上形成網(wǎng)格、點陣或柵線的圖形；將所述膠帶與所述基底分離，制作完成測量材料表面形變的簡易貼。本發(fā)明實施例通過采用光刻工藝，可以制作直徑為微米至毫米數(shù)量級的網(wǎng)格、點陣或柵線等，使得最終網(wǎng)格/點陣的尺寸能夠滿足CCD相機以及自動網(wǎng)格法對小尺寸網(wǎng)格/點陣的要求。并且，由于紫外光刻技術(shù)自身的特點，使得制作出的網(wǎng)格、點陣或柵線等很有規(guī)則且均勻，而且制作技術(shù)成熟、簡單，制作周期短。
文檔編號B32B15/082GK102205671SQ201110062679
公開日2011年10月5日 申請日期2011年3月15日 優(yōu)先權(quán)日2011年3月15日
發(fā)明者付紹軍, 劉正坤, 劉穎, 徐向東, 洪義麟, 邱克強 申請人:中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)