專利名稱：新型膜系結(jié)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種膜系結(jié)構(gòu)，尤其涉及一種新型膜系結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)：
在光學(xué)成像及其它投影顯示器件中，在成本和成像清晰度等因素要求下，都會(huì)大 量采用到各種塑膠材料做成各種大小，弧度的非球面鏡片。PMMA-聚甲基丙烯酸酯就是一 種普遍被采用的材料。由于PMMA在沒有鍍膜時(shí)的反射率約8 %，為了增加光量的透過率，通 常都要在鏡片上鍍上AR膜，現(xiàn)有的AR膜通常是基材的兩側(cè)使用真空蒸發(fā)技術(shù)沉積一層或 多層膜，以增加光量的透過率。上述技術(shù)的存在的不足在于1、AR膜不耐高溫，通常的高溫鍍膜無法使用。2、AR膜在一般的冷鍍的情況下，做的膜不夠牢固，不能經(jīng)久使用，更加無法在一些 極致條件下使用。以上兩點(diǎn)給光學(xué)鏡片設(shè)計(jì)和制造過程中帶來困難。
實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的是提供一種新型膜系結(jié)構(gòu)，它可以在高溫狀態(tài)下鍍到基材上， 且做出來的膜非常牢固，能長(zhǎng)久使用。為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型的技術(shù)方案是一種新型膜系結(jié)構(gòu)，包括基材和鍍?cè)诨纳系腁R膜。所述的AR膜一種減反膜，從內(nèi)到外包括四層膜結(jié)構(gòu)第一高折射率膜、第一低折 射率膜、第二高折射率膜和第二低折射率膜。上述的新型膜系結(jié)構(gòu)，其中所述的第一高折射率膜和第二高折射率膜的膜料是0S50。上述的新型膜系結(jié)構(gòu)，其中所述的第一低折射率膜和第二低折射率膜的膜料是Si02。上述的新型膜系結(jié)構(gòu)，其中所述的基材是PMMA材料，由甲基丙烯酸甲酯單體聚合而成。上述的新型膜系結(jié)構(gòu)，其中所述的第一高折射率膜H、第一低折射率膜L、第二高折射率膜H和第二低折射率 膜 L 的厚度分別為 23. 64nm、16. 42nm、90. 67nm 和 88. 28nm。本實(shí)用新型由于采用了上述技術(shù)，使之與現(xiàn)有技術(shù)相比具有的積極效果是本實(shí) 用新型新型膜系結(jié)構(gòu)由于兩種高折射率膜料和低折射率膜料的結(jié)構(gòu)配比，AR膜效果達(dá)到 R <0.5% at 430nm—650nm，即在 430X650nm 波長(zhǎng)范圍內(nèi)，AR 膜的減反率< 0. 5% )，AR 膜在高溫高濕環(huán)境測(cè)試當(dāng)中可通過85°C 80% 240H，即溫度為85 士 1°C，相對(duì)濕度80%以上 的條件下連續(xù)放置240小時(shí)，膜層不脫落，光學(xué)性能符合標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定要求，此種膜在高低溫循 環(huán)環(huán)境測(cè)試當(dāng)中可通過80°C 20°C 50次循環(huán)，即在80°C 20°C的高低溫變化的環(huán)境下，循環(huán)50次，膜層不脫落，光學(xué)性能符合標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定要求。
圖1是本實(shí)用新型新型膜系結(jié)構(gòu)的膜層結(jié)構(gòu)圖圖2是本實(shí)用新型新型膜系結(jié)構(gòu)的反射率曲線圖。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖進(jìn)一步說明本實(shí)用新型的實(shí)施例。請(qǐng)參見圖1所示，一種新型膜系結(jié)構(gòu)，包括基材和鍍?cè)诨纳系腁R膜；AR膜一種 減反膜，從內(nèi)到外包括四層膜結(jié)構(gòu)第一高折射率膜1、第一低折射率膜2、第二高折射率膜 3和第二低折射率膜4。第一高折射率膜1和第二高折射率膜3的膜料是0S50或TiO2，優(yōu) 選0S50。第一低折射率膜2和第二低折射率膜4的膜料是Si02。基材是PMMA材料，由甲 基丙烯酸甲酯單體聚合而成。第一高折射率膜、第一低折射率膜、第二高折射率膜和第二低 折射率膜的厚度分別為23. 64nm、16. 42nm、90. 67nm和88. 28nm。請(qǐng)參見圖2所示，AR膜的在波長(zhǎng)430歷-650歷內(nèi)的減反率R < 0. 5%。顯示相當(dāng) 高的減反效果。本實(shí)用新型新型膜系結(jié)構(gòu)耐高溫，能長(zhǎng)久使用，給光學(xué)鏡片設(shè)計(jì)和制造帶來幫助。
權(quán)利要求一種新型膜系結(jié)構(gòu)，其特征在于包括基材和鍍?cè)诨纳系腁R膜；所述的AR膜是一種減反膜，從內(nèi)到外包括四層膜結(jié)構(gòu)第一高折射率膜(1)、第一低折射率膜(2)、第二高折射率膜(3)和第二低折射率膜(4)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型膜系結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的第一高折射率膜(1)和第二高折射率膜(3)的膜料是0S50。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型膜系結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的第一低折射率膜(2)和第二低折射率膜(4)的膜料是Si02。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型膜系結(jié)構(gòu)，其特征在于 所述的基材是PMMA材料，由甲基丙烯酸甲酯單體聚合而成。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型膜系結(jié)構(gòu)，其特征在于所述的第一高折射率膜、第一低折射率膜、第二高折射率膜和第二低折射率膜的厚度 分別為 23. 64nm、16. 42nm、90. 67nm 和 88. 28nm。
專利摘要一種新型膜系結(jié)構(gòu)，包括基材和鍍?cè)诨纳系腁R膜；所述的AR膜從內(nèi)到外包括四層膜結(jié)構(gòu)第一高折射率膜H、第一低折射率膜L、第二高折射率膜H和第二低折射率膜L。本實(shí)用新型新型膜系結(jié)構(gòu)耐高溫，能長(zhǎng)久使用，為光學(xué)鏡片設(shè)計(jì)和制造提供便利。
文檔編號(hào)B32B33/00GK201645947SQ20102010205
公開日2010年11月24日 申請(qǐng)日期2010年1月26日 優(yōu)先權(quán)日2010年1月26日
發(fā)明者葉祥云, 譚福德 申請(qǐng)人:鳳凰光學(xué)(上海)有限公司