專利名稱：多層涂布復(fù)合型光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種多層涂布復(fù)合型光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，尤指一種以具接口微結(jié)構(gòu)的擴散層
作為光擴散機制而可提供高亮度及高質(zhì)量光源的背光模塊中使用的光學(xué)膜片。
背景技術(shù)：
目前廣泛應(yīng)用液晶顯示器(Liquid Crystal Display, LCD)中具背光源的液晶顯示裝置結(jié)構(gòu)，主要包含前面的面板部份及背面的光源模塊部份。其中面板的部份包含有液晶、配向膜、ITO導(dǎo)電玻璃、彩色濾光片、偏光片及驅(qū)動IC模塊等所組成，可提供彩色畫面顯色控制；而背光模塊的部份則包含有冷陰極管(Cold Cathode Fluorescent Lamp，CCFL)或發(fā)光二極管(Light-Emitting Diode， LED)等燈源、反射片、導(dǎo)光板、擴散板、擴散片及聚光片等，可提供高亮度、高質(zhì)量的顯示用光源。由于背光模塊的技術(shù)重點為如何有效地將線光源(CCFL)與點光源(LED)轉(zhuǎn)換為高均勻性的面光源，而同時在最少燈源使用量之下可獲得高增益的正視角(0n-axis)輝度。因此，其中反射片的使用可將反射與散射的光源回收再利用，以充份提升光源使用效率；導(dǎo)光板與擴散板的使用可將光線行進方向引導(dǎo)為垂直板面的高指向性出光，且同時消除燈源影像(Lamp Mura);擴散片的使用可增加面光源的均勻性且同時消除或減少膜材本身或組裝過程等所造成光學(xué)可視瑕疵；而聚光片的使用則可大幅度提升正視角的輝度增益。因此最佳化的背光模塊設(shè)計將導(dǎo)致背光源質(zhì)量與成本效益上極佳的性價比。另外，過多的燈源使用除了增加成本以外，亦會造成熱生成量增高，進而減損相關(guān)材料的壽命及光學(xué)質(zhì)量，并且對于可攜式裝置，亦會導(dǎo)致電能耗損增加，將不利于目前降低成本與輕量化的設(shè)計趨勢。因為在節(jié)能減碳的全球趨勢下，如何再有效地整合光學(xué)特性，已然為重要的技術(shù)課題。 關(guān)于上述擴散片的結(jié)構(gòu)，其通常是于一透明基材上涂布擴散粒子，使光通過時會產(chǎn)生散射的效果，進而造成光源的霧化，藉此達到提高光線分布的均勻性。而上述聚光片的結(jié)構(gòu)，則通常是于透明基材上涂布一層具有光束集中能力的微結(jié)構(gòu)，其最常見的設(shè)計為棱鏡型(Prism)的微結(jié)構(gòu)，此將充分地利用光通量以提高液晶顯示器正視角的亮度。
又，目前的復(fù)合型光學(xué)膜設(shè)計，如圖10所示，其為美國專利公告第6，280，063號所揭，主要是將上述兩種結(jié)構(gòu)設(shè)計分別涂布于透明基材50的兩面，意即該透明基材50的上方為具集光的棱鏡型結(jié)構(gòu)51，該透明基材50的下方則為具均勻分散擴散粒子521的擴散層結(jié)構(gòu)52，藉此達到光擴散效果。然而，依照上述復(fù)合型光學(xué)膜5如此的設(shè)計，不僅易造成膜材的翹曲變異性控制困難，且其擴散粒子的分散性亦易有均勻性的變異等復(fù)雜技術(shù)問題，另外所涂布的粒子易造成下置光學(xué)膜片的表面刮傷瑕疵；同時，其光擴散粒子亦容易使光穿透率下降，進而造成復(fù)合光學(xué)膜在光學(xué)特性上的減損。故，一般無法滿足使用者于實際使用時所期待。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是針對上述現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種多層涂布復(fù)
5合型光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，以具接口微結(jié)構(gòu)的擴散層作為光擴散機制而可提供高亮度及高質(zhì)量光源的背光模塊中使用的光學(xué)膜片。 本發(fā)明的次要目的在于，利用多層涂布技術(shù)對光源的擴散及聚光效果做復(fù)合式設(shè)計，藉整合于單一光學(xué)膜片可有效降低材料成本，并在具接口微結(jié)構(gòu)的擴散層作為光擴散機制下，不僅可有效地提升輝度表現(xiàn)，同時亦可減少因摻雜粒子的分散及膜材翹曲等所致的質(zhì)量變因及粒子涂布所致下置光學(xué)膜片刮傷瑕疵的問題。 本發(fā)明的另一目的在于，可在簡化背光模塊的組裝以提高其組裝效率的同時，亦提升此復(fù)合型光學(xué)膜的膜材質(zhì)量與光學(xué)特性。 為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明所采用的技術(shù)方案是一種多層涂布復(fù)合型光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，其特點是以具散亂型接口微結(jié)構(gòu)的擴散層作為光擴散機制，包括透明基材、多層涂布及保護涂布層，其中該透明基材，具有兩相對面，且其厚度介于30iim至300iim之間；該多層涂布內(nèi)層具有擴散層組合，該擴散層組合位于該透明基材兩相對面其中的一面上，且該擴散層組合具有至少一個以上含接口微結(jié)構(gòu)的擴散層所組成，該些擴散層的涂布厚度介于1 y m至50 P m之間，且以單一擴散層其接口微結(jié)構(gòu)的粗糙度值大于0. 5 ii m以上，其中該擴散層組合為用以將入射的光線作散射化處理的接口微結(jié)構(gòu)；該多層涂布最表層具有聚光層，該聚光層位于該擴散層組合上，且該擴散層組合位于該聚光層與該透明基材之間，其中該聚光層為用以將散射的光線作集中化處理的集旋光性微結(jié)構(gòu)；該保護涂布層，位于該透明基材的另一相對面，用以提供整體結(jié)構(gòu)的抗靜電及抗磨損；其中，該擴散層組合的折射率介于1. 3至1. 6之間，該聚光層的折射率介于1. 4至1. 7之間。 依照本發(fā)明另一較佳實施例，一種多層涂布復(fù)合型光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，其特點是以具散亂型接口微結(jié)構(gòu)的擴散層作為光擴散機制，包括透明基材、多層涂布及保護涂布層，其中該透明基材，具有兩相對面，且其厚度介于30 ii m至300 ii m之間；該多層涂布具有擴散層組合，該擴散層組合位于該透明基材兩相對面其中的一面上，且該擴散層組合具有至少一個以上含接口微結(jié)構(gòu)的擴散層所組成，該些擴散層的涂布厚度介于1 P m至50 ii m之間，且其接口微結(jié)構(gòu)的粗糙度值大于0. 5 ii m以上，其中該擴散層組合為用以將入射的光線作散射化處理的接口微結(jié)構(gòu)；該多層涂布具有聚光層，該聚光層位于該透明基材的另一相對面上，其中該聚光層為用以將散射的光線作集中化處理的集旋光性微結(jié)構(gòu)；該保護涂布層，位于該擴散層組合上，用以提供整體結(jié)構(gòu)的抗靜電及抗磨損；以及其中，該擴散層組合的折射率介于1. 3至1. 6之間，該聚光層的折射率介于1. 4至1. 7之間。 依照本發(fā)明再一較佳實施例，一種多層涂布復(fù)合型光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，其特點是以具散亂型接口微結(jié)構(gòu)的擴散層作為光擴散機制，包括透明基材、多層涂布及保護涂布層，其中該透明基材，具有兩相對面，且其厚度介于30 ii m至300 ii m之間；該多層涂布具有兩擴散層組合，位于該透明基材的兩相對面上，且該擴散層組合具有至少一個以上含接口微結(jié)構(gòu)的擴散層所組成，該些擴散層的涂布厚度介于1 P m至50 ii m之間，且其接口微結(jié)構(gòu)的粗糙度值大于0.5iim以上，其中該擴散層組合為用以將入射的光線作散射化處理的接口微結(jié)構(gòu)；該多層涂布具有聚光層，位于該兩擴散層組合的其中之一上，其中該聚光層為用以將散射的光線作集中化處理的集旋光性微結(jié)構(gòu)；該保護涂布層，位于該兩擴散層組合的其中另一個上，用以提供整體結(jié)構(gòu)的抗靜電及抗磨損；以及其中，該擴散層組合的折射率介于1.3至1. 6之間，該聚光層的折射率介于1. 4至1. 7之間。
如此，以具接口微結(jié)構(gòu)的擴散層作為光擴散機制而可提供高亮度及高質(zhì)量光源的背光模塊中使用的光學(xué)膜片；利用多層涂布技術(shù)對光源的擴散及聚光效果做復(fù)合式的設(shè)計，藉整合于單一光學(xué)膜片可有效降低材料成本，并在具接口微結(jié)構(gòu)的擴散層作為光擴散機制下，不僅可有效地提升輝度表現(xiàn)，同時亦可減少因摻雜粒子的分散及膜材翹曲等所致的質(zhì)量變因及粒子涂布所致下置光學(xué)膜片刮傷瑕疵的問題；還可在簡化背光模塊的組裝以提高其組裝效率的同時，亦提升此復(fù)合型光學(xué)膜的膜材質(zhì)量與光學(xué)特性。


本發(fā)明為一種多層涂布復(fù)合型光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，其特征在于以具接口微結(jié) 構(gòu)的擴散層作為光擴散機制。本發(fā)明為一利用多層涂布技術(shù)，擴散層接口控制 (Interface-Dominating)微結(jié)構(gòu)(Microstructure)設(shè)計，并配以有效的涂布層間折射率 差值以獲得提供光擴散效果的材料，且在結(jié)構(gòu)機制上亦利用最表層的集旋光性微結(jié)構(gòu)將散 射的光線作集中化處理，藉以提高正視角(0n-axis)的輝度值。上述接口控制微結(jié)構(gòu)設(shè)計 并無特殊限制，其例如但不限于散亂型(Random)的接口微結(jié)構(gòu)設(shè)計，且于以下實施例中其 接口微結(jié)構(gòu)的粗糙度值(Ra)，欲得一定的霧度效果，是將其控制在0.5微米(ym)以上，并 以大于lym為佳；另亦可將此接口微結(jié)構(gòu)設(shè)計為棱鏡型(Prism)、角錐型(Cone)、透鏡型 (Lens)及金字塔型(Pyramid)等不同具集光能力的微結(jié)構(gòu)，且除了上述散亂型的結(jié)構(gòu)外， 其它的結(jié)構(gòu)于其結(jié)構(gòu)表面具有更細化散亂性破壞的凹凸點處理以增加光擴散的功能，進而 可獲致具不同光學(xué)特性的復(fù)合型光學(xué)膜材。本實施例的描述是為了說明以具接口微結(jié)構(gòu)的 擴散層為光擴散機制的設(shè)計原理，不應(yīng)視為限制的觀點，并藉由以下具體的實施例，以說明 本發(fā)明的實施方式。 請參閱圖l所示，為本發(fā)明一較佳實施例的橫剖面示意圖。如圖所示于本實施例 中，本發(fā)明的多層涂布復(fù)合型光學(xué)膜結(jié)構(gòu)l，其特征在于以具散亂型接口微結(jié)構(gòu)的擴散層作 為光擴散機制，包括透明基材11、多層涂布12及保護涂布層13。
該透明基材ll，具有兩相對面。 該多層涂布12內(nèi)層的擴散層組合120，位于該透明基材11兩相對面其中的一面 上，用以將入射的光線作散射化處理。其中該擴散層組合120具有至少一個以上含接口微 結(jié)構(gòu)121a、121b的擴散層121、122所組成，該些擴散層121、 122的涂布厚度介于lym至 50 i！ m之間，并可進一步加入無機性或有機性的粒子材料。 該多層涂布12最表層的聚光層123，位于該擴散層組合120上，且該擴散層組合 120位于該聚光層123與該透明基材11之間。其中該聚光層123具有用以將散射的光線作 集中化處理的集旋光性微結(jié)構(gòu)123a，可為棱鏡型、角錐型、透鏡型及金字塔型。
該保護涂布層13位于該透明基材11的另一相對面，用以提供整體結(jié)構(gòu)的抗靜電 及抗磨損。以上所述，構(gòu)成一全新的多層涂布復(fù)合型光學(xué)膜結(jié)構(gòu)1。 其中，上述該多層涂布12采用的材料折射率，以該聚光層123為最高，內(nèi)層的擴散 層組合120中以最下層擴散層121的折射率最低，其它擴散層122的折射率則介于此二層 之間，另外亦可于121和123采用高折射率的材料，122采用低折射率的材料，以提供不同的 光學(xué)特性表現(xiàn)。 請參閱圖2所示，為本發(fā)明另一較佳實施例的橫剖面示意圖。如圖所示于本實施 例中，本發(fā)明的多層涂布復(fù)合型光學(xué)膜結(jié)構(gòu)2，其特征在于以具散亂型接口微結(jié)構(gòu)的擴散層 作為光擴散機制，包括透明基材21、多層涂布22及保護涂布層23。
該透明基材21，具有兩相對面。 該多層涂布22的擴散層組合220，位于該透明基材21兩相對面其中的一面上，是 為用以將入射的光線作散射化處理的接口微結(jié)構(gòu)。其中該擴散層組合220具有至少一個以 上含接口微結(jié)構(gòu)221a、222a的擴散層221、222所組成，該些擴散層221、222的涂布厚度介
8于1 ii m至50 ii m之間，并可進一步加入無機性或有機性的粒子材料。 該多層涂布22的聚光層223，位于該透明基材21的另一相對面上，其中該聚光層 223是為用以將散射的光線作集中化處理的集旋光性微結(jié)構(gòu)223a，并可為棱鏡型、角錐型、 透鏡型及金字塔型。 該保護涂布層23位于該擴散層組合220上，用以提供整體結(jié)構(gòu)的抗靜電及抗磨 損。以上所述，構(gòu)成另一全新的多層涂布復(fù)合型光學(xué)膜結(jié)構(gòu)2。 其中，上述該擴散層組合220中各擴散層221、222的材料折射率是以最靠近該透
明基材21的折射率最低，離該透明基材21最外層的折射率最高，另外亦可于221和23采
用高折射率的材料，222采用低折射率的材料以提供不同的光學(xué)特性表現(xiàn)。 請參閱圖3所示，為本發(fā)明再一較佳實施例的橫剖面示意圖。如圖所示于本實施
例中，本發(fā)明的多層涂布復(fù)合型光學(xué)膜結(jié)構(gòu)3，其特征在于以具散亂型接口微結(jié)構(gòu)的擴散層
作為光擴散機制，包括透明基材31、多層涂布32及保護涂布層33。 該透明基材31，具有兩相對面。 該多層涂布32的兩擴散層組合320、321，位于該透明基材31的兩相對面上，是為
用以將入射的光線作散射化處理的接口微結(jié)構(gòu)。其中該擴散層組合320、321具有至少一個
以上含接口微結(jié)構(gòu)322a、323a的擴散層322、323所組成，該些擴散層322、323的涂布厚度
介于1 y m至50 ii m之間，并可進一步加入無機性或有機性的粒子材料。 該多層涂布32的聚光層324，位于該兩擴散層組合320、321其中之一上，其中該聚
光層324是為用以將散射和光線作集中化處理的集旋光性微結(jié)構(gòu)324a，并可為棱鏡型、角
錐型、透鏡型及金字塔型。 該保護涂布層33位于該兩擴散層組合320、 321另一之上，用以提供整體結(jié)構(gòu)的抗 靜電及抗磨損。以上所述，構(gòu)成再一全新的多層涂布復(fù)合型光學(xué)膜結(jié)構(gòu)3。
上述圖1 圖3中，其多層涂布內(nèi)層的擴散層組合，可依其涂布的數(shù)量獲得一個或 一個以上擴散層的結(jié)構(gòu)，例如2層涂布(含聚光層)可得具1個擴散層的結(jié)構(gòu)，3層涂布可 得具2個擴散層的結(jié)構(gòu)，依此類推。 請參閱圖4所示，為圖1中A的局部放大示意圖。如圖所示，并請同時參閱圖1 :當 本發(fā)明于組裝時，以圖1的多層涂布復(fù)合型光學(xué)膜結(jié)構(gòu)1為例。該透明基材11使用的材料， 可為此所屬技術(shù)領(lǐng)域中通常知識所已知的，并可為具高光學(xué)穿透率的玻璃或塑料材料，例 如聚乙烯對苯二甲酸酯(Polyethylene Ter印hthalate， PET)、聚碳酸酯(Polycarbonate, PC)或聚甲基丙烯酸甲酯(Polymethylmethacrylate, P薩)等，并以介于30 ii m至300 ii m 之間的厚度范圍為佳。 于該透明基材11上方的多層涂布12，包含有最表層具聚光效果的集旋光性微結(jié) 構(gòu)123a的聚光層123，及內(nèi)層具擴散效果的數(shù)個含接口微結(jié)構(gòu)121a、121b的擴散層121、 122所組成的擴散層組合120。其中該聚光層123及該擴散層121U22的材料折射率為愈 往上層折射率愈高為最佳，亦或121和123采用高折射率材料，122采用低折射率材料，并 可為紫外光固化(UV Curing)或熱固化(Thermal Setting)的樹酯材料。且各接口微結(jié)構(gòu) 121a、121b及集旋光性微結(jié)構(gòu)123a可利用滾輪(Roller)或平板作為模具，于該透明基材 11或該擴散層121、122上再涂布上一層樹酯材料，并進行壓印制程(Embossing)，最后以紫 外光固化或熱固化后完成。其中，依本實施例中以散亂型作為接口微結(jié)構(gòu)，其擴散層涂布厚
9度控制介于3 m至25 m之間為佳；并且，亦可在該擴散層組合120中的各擴散層121、 122 選擇加入適量的粒子，以改變材料或光學(xué)特性。 由于在該多層涂布12最表層的聚光層123需具有高集光能力，因此其材料為高折 射率材料， 一般介于1. 4至1. 7之間，并以大于1. 5以上為佳。而該擴散層組合120則為 低折射率材料，一般介于1. 3至1. 6之間，并以小于1. 5以下為佳。其中，若該擴散層組合 120包含三層涂布，則第一層與第三層使用低折射率的樹酯材料，而第二層則類似于最表層 的聚光層123宜使用高折射率的樹酯材料。 此外，本發(fā)明為了改善一般光學(xué)膜材因表面電阻過高易產(chǎn)生高靜電問題而導(dǎo)致組 裝質(zhì)量不良，此實施例亦可于該透明基材11的下方施加一可抗靜電及抗磨損的保護涂布 層13，藉以更提高此光學(xué)膜材產(chǎn)品應(yīng)用上的質(zhì)量條件。如是，即完成該多層涂布復(fù)合型光學(xué) 膜結(jié)構(gòu)1的組裝。 當本發(fā)明于運用時，平行入射光的光線101U02、103及104，經(jīng)過具散亂型接口微 結(jié)構(gòu)121a之擴散層121，將因該擴散層組合120的折射率差而產(chǎn)生具散射特性的折射光，其 光線201、202、203及204行進將由原本的平行入射狀變化成散射狀。據(jù)此足以明顯顯示光 擴散的霧度(Haze)效果可在適合的材料組合設(shè)計下以接口的微結(jié)構(gòu)設(shè)計來達成。
在本發(fā)明中，以一個具單一接口微結(jié)構(gòu)設(shè)計的擴散層，其散亂型結(jié)構(gòu)的粗糙度值 大于0.5iim，且該聚光層與該擴散層的折射率差值為0. 05以上，可得到此擴散層的霧度值 介于5%至60%之間，而全穿透率約小于92%以下。因此于最佳化的材料設(shè)計與接口微結(jié) 構(gòu)設(shè)計下，除了可得到一定光擴散功能的霧度外，亦可得到與相同純聚光層光學(xué)膜97%至 100%間的輝度增益表現(xiàn)。 最后，當散射的光線201、202、203及204進入最表層的聚光層123時，即可被特殊 的集旋光性微結(jié)構(gòu)123a設(shè)計將其光線有效的集中化。因此，利用多層涂布技術(shù)所制之光學(xué) 膜材再透過材料技術(shù)的設(shè)計、接口微結(jié)構(gòu)的設(shè)計以及結(jié)合最表層的集旋光性微結(jié)構(gòu)設(shè)計， 將可以制造出高亮度及高質(zhì)量的復(fù)合型光學(xué)膜結(jié)構(gòu)1。 請參閱圖5 圖9所示，分別為本發(fā)明的散亂型接口微結(jié)構(gòu)立體示意圖、本發(fā)明的 棱鏡型接口微結(jié)構(gòu)立體示意圖、本發(fā)明的角錐型接口微結(jié)構(gòu)立體示意圖、本發(fā)明的透鏡型 接口微結(jié)構(gòu)立體示意圖及本發(fā)明的金字塔型接口微結(jié)構(gòu)立體示意圖。如圖所示上述各實 施例中的接口微結(jié)構(gòu)，是利用物理方法的機械性表面加工粗糙化或化學(xué)方法的表面腐蝕粗 糙化等，并以滾輪或平板的表面作為加工模具，使成為具有微細組糙化的散亂結(jié)構(gòu)表面，再 用以進行擴散層的涂布壓印制程，藉以得此具散亂型4a接口微結(jié)構(gòu)的擴散層。另外，本發(fā) 明的接口微結(jié)構(gòu)并無特殊限制，除了上述的散亂型外，亦可為棱鏡型4b、角錐型4c、透鏡型 4d及金字塔型4e等的接口微結(jié)構(gòu)設(shè)計。 綜上所述，本發(fā)明的多層涂布復(fù)合型光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，可有效改善現(xiàn)有技術(shù)的種種缺 點，利用多層涂布技術(shù)對光源的擴散及聚光效果做復(fù)合式的設(shè)計，藉整合于單一光學(xué)膜片 可有效降低材料成本，并在具接口微結(jié)構(gòu)的擴散層作為光擴散機制下，不僅可有效地提升 輝度表現(xiàn)，同時亦可減少因摻雜粒子的分散及膜材翹曲等所致的質(zhì)量變因及因粒子涂布所 致下置光學(xué)膜片刮傷瑕疵的問題，藉此在簡化背光模塊的組裝以提高其組裝效率的同時， 亦提升此復(fù)合型光學(xué)膜的膜材質(zhì)量與光學(xué)特性，進而能更進步、更實用、更符合使用者所 須，確已符合發(fā)明專利申請的要件，依法提出專利申請。
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惟以上所述，僅為本發(fā)明的較佳實施例而已，當不能以此限定本發(fā)明實施的范圍； 故，凡依本發(fā)明申請專利范圍及發(fā)明說明書內(nèi)容所作的簡單的等效變化與修飾，皆應(yīng)仍屬 本發(fā)明專利涵蓋的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
一種多層涂布復(fù)合型光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，其特征在于以具散亂型接口微結(jié)構(gòu)的擴散層作為光擴散機制，包括透明基材、多層涂布及保護涂布層，其中該透明基材，具有兩相對面，且其厚度介于30μm至300μm之間；該多層涂布內(nèi)層具有擴散層組合，該擴散層組合位于該透明基材兩相對面其中的一面上，且該擴散層組合具有至少一個以上含接口微結(jié)構(gòu)的擴散層所組成，該些擴散層的涂布厚度介于1μm至50μm之間，且以單一擴散層其接口微結(jié)構(gòu)的粗糙度值大于0.5μm以上，其中該擴散層組合為用以將入射的光線作散射化處理的接口微結(jié)構(gòu)；該多層涂布最表層具有聚光層，該聚光層位于該擴散層組合上，且該擴散層組合位于該聚光層與該透明基材之間，其中該聚光層為用以將散射的光線作集中化處理的集旋光性微結(jié)構(gòu)；該保護涂布層，位于該透明基材的另一相對面，用以提供整體結(jié)構(gòu)的抗靜電及抗磨損；其中，該擴散層組合的折射率介于1.3至1.6之間，該聚光層的折射率介于1.4至1.7之間。
2. 如權(quán)利要求1所述的多層涂布復(fù)合型光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，其特征在于所述透明基材為高 光學(xué)穿透率的玻璃或塑料，并可為聚乙烯對苯二甲酸酯、聚碳酸酯、或聚甲基丙烯酸甲酯。
3. 如權(quán)利要求1所述的多層涂布復(fù)合型光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，其特征在于所述擴散層的涂布 厚度介于liim至50iim之間。
4. 如權(quán)利要求3所述的多層涂布復(fù)合型光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，其特征在于所述擴散層的涂布 厚度介于3iim至25iim之間。
5. 如權(quán)利要求1所述的多層涂布復(fù)合型光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，其特征在于所述擴散層組合中 的擴散層為棱鏡型、角錐型、透鏡型、或金字塔型的接口微結(jié)構(gòu)。
6. 如權(quán)利要求5所述的多層涂布復(fù)合型光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，其特征在于所述棱鏡型、角錐型 及金字塔型的接口微結(jié)構(gòu)的表面具有更細化散亂性破壞的凹凸點處理。
7. 如權(quán)利要求1所述的多層涂布復(fù)合型光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，其特征在于所述擴散層的接口 微結(jié)構(gòu)的粗糙度值大于0. 5 ii m。
8. 如權(quán)利要求7所述的多層涂布復(fù)合型光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，其特征在于所述擴散層的接口 微結(jié)構(gòu)的粗糙度值大于lym。
9. 如權(quán)利要求1所述的多層涂布復(fù)合型光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，其特征在于所述聚光層為棱鏡 型、角錐型、透鏡型及金字塔型的集旋光性微結(jié)構(gòu)。
10. 如權(quán)利要求l所述的多層涂布復(fù)合型光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，其特征在于所述聚光層為高折射率材料，其折射率介于1. 4至1. 7。
11. 如權(quán)利要求10所述的多層涂布復(fù)合型光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，其特征在于所述聚光層的折射率大于1.5且小于等于1.7。
12. 如權(quán)利要求l所述的多層涂布復(fù)合型光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，其特征在于所述擴散層組合的各擴散層為低折射率材料，其折射率介于1. 3至1. 6。
13. 如權(quán)利要求12所述的多層涂布復(fù)合型光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，其特征在于所述擴散層組合的各擴散層的折射率大于等于1. 3且小于1. 5。
14. 如權(quán)利要求l所述的多層涂布復(fù)合型光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，其特征在于所述擴散層組合包含三層涂布，且第一層與第三層為低折射率的樹酯材料，第二層則為高折射率的樹酯材料。
15. 如權(quán)利要求1所述的多層涂布復(fù)合型光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，其特征在于所述聚光層與該擴 散層的折射率差值為0. 05以上，且該擴散層的霧度值介于5%至60%之間。
16. 如權(quán)利要求1所述的多層涂布復(fù)合型光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，其特征在于所述擴散層組合中 的各擴散層進一步加入粒子材料，該粒子材料為無機性或有機性材料。
17. —種多層涂布復(fù)合型光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，其特征在于以具散亂型接口微結(jié)構(gòu)的擴散層作為光擴散機制，包括透明基材、多層涂布及保護涂布層，其中該透明基材，具有兩相對面，且其厚度介于30 ii m至300 ii m之間； 該多層涂布具有擴散層組合，該擴散層組合位于該透明基材兩相對面其中的一面上，且該擴散層組合具有至少一個以上含接口微結(jié)構(gòu)的擴散層所組成，該些擴散層的涂布厚度介于1 y m至50 P m之間，且其接口微結(jié)構(gòu)的粗糙度值大于0. 5 ii m以上，其中該擴散層組合為用以將入射的光線作散射化處理的接口微結(jié)構(gòu)；該多層涂布具有聚光層，該聚光層位于該透明基材的另一相對面上，其中該聚光層為用以將散射的光線作集中化處理的集旋光性微結(jié)構(gòu)；該保護涂布層，位于該擴散層組合上，用以提供整體結(jié)構(gòu)的抗靜電及抗磨損；以及 其中，該擴散層組合的折射率介于1. 3至1. 6之間，該聚光層的折射率介于1. 4至1. 7之間。
18. 如權(quán)利要求17所述的多層涂布復(fù)合型光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，其特征在于所述擴散層組合 中的擴散層為棱鏡型、角錐型、透鏡型及金字塔型的接口微結(jié)構(gòu)。
19. 如權(quán)利要求17所述的多層涂布復(fù)合型光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，其特征在于所述聚光層與該 擴散層的折射率差值為0. 05以上，且該擴散層的霧度值介于5%至60%之間，全穿透率小 于92%以下。
20. 如權(quán)利要求17所述的多層涂布復(fù)合型光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，其特征在于所述擴散層組合 中的各擴散層進一步加入粒子材料，該粒子材料為無機性或有機性材料。
21. —種多層涂布復(fù)合型光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，其特征在于以具散亂型接口微結(jié)構(gòu)的擴散層 作為光擴散機制，包括透明基材、多層涂布及保護涂布層，其中該透明基材，具有兩相對面，且其厚度介于30 ii m至300 ii m之間；該多層涂布具有兩擴散層組合，位于該透明基材的兩相對面上，且該擴散層組合具有 至少一個以上含接口微結(jié)構(gòu)的擴散層所組成，該些擴散層的涂布厚度介于lym至50iim之 間，且其接口微結(jié)構(gòu)的粗糙度值大于0. 5 ii m以上，其中該擴散層組合為用以將入射的光線 作散射化處理的接口微結(jié)構(gòu)；該多層涂布具有聚光層，位于該兩擴散層組合的其中之一上，其中該聚光層為用以將 散射的光線作集中化處理的集旋光性微結(jié)構(gòu)；該保護涂布層，位于該兩擴散層組合的其中另一個上，用以提供整體結(jié)構(gòu)的抗靜電及 抗磨損；以及其中，該擴散層組合的折射率介于1. 3至1. 6之間，該聚光層的折射率介于1. 4至1. 7 之間。
22. 如權(quán)利要求21所述的多層涂布復(fù)合型光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，其特征在于所述擴散層組合 中的擴散層為棱鏡型、角錐型、透鏡型及金字塔型的接口微結(jié)構(gòu)。
23. 如權(quán)利要求21所述的多層涂布復(fù)合型光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，其特征在于所述聚光層與該 擴散層的折射率差值為0. 05以上，且該擴散層的霧度值介于5%至60%之間。
24. 如權(quán)利要求21所述的多層涂布復(fù)合型光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，其特征在于所述擴散層組合 中的各擴散層進一步加入粒子材料，該粒子材料為無機性或有機性材料。
全文摘要
一種多層涂布復(fù)合型光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，以具接口微結(jié)構(gòu)的擴散層作為光擴散機制，包括透明基材、多層涂布及保護涂布層，該多層涂布內(nèi)層的擴散層組合具有至少一個以上含接口微結(jié)構(gòu)的擴散層，該多層涂布最表層的聚光層具有集旋光性微結(jié)構(gòu)。藉此，利用多層涂布技術(shù)對光源的擴散及聚光效果做復(fù)合式的設(shè)計，藉整合于單一光學(xué)膜片可有效降低材料成本，并在具接口微結(jié)構(gòu)的擴散層作為光擴散機制下，不僅可有效地提升輝度表現(xiàn)，同時亦可減少因摻雜粒子的分散及膜材翹曲等所致的品質(zhì)變因，進而可在簡化背光模塊的組裝以提高其組裝效率的同時，亦提升此復(fù)合型光學(xué)膜的膜材質(zhì)量與光學(xué)特性。
文檔編號B32B7/02GK101738649SQ200810305478
公開日2010年6月16日 申請日期2008年11月11日 優(yōu)先權(quán)日2008年11月11日
發(fā)明者楊盛如, 蘇釗立, 陳華杰, 黃柏昭 申請人:國碩科技工業(yè)股份有限公司