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光學(xué)層積體和光學(xué)層積體的制造方法

文檔序號:2441805閱讀:462來源:國知局

專利名稱::光學(xué)層積體和光學(xué)層積體的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域
:本發(fā)明涉及一種新穎的光學(xué)層積體和光學(xué)層積體的制造方法。
背景技術(shù)
:構(gòu)成各種顯示裝置(以字符處理器、計(jì)算機(jī)、電視機(jī)等電子設(shè)備的顯示屏為代表)的光學(xué)元件等的成型體采用顯示出絕緣性的塑料或玻璃來形成,所以存在容易帶電且容易附著灰塵的問題。例如,對于構(gòu)成顯示裝置的防反射片等塑料制光學(xué)元件,若在加工工序或顯示裝置的組裝工序等中,帶電而附著灰塵,則會給顯示裝置的圖像顯示功能造成不良影響。并且,LCD中的IPS"面內(nèi)切換(in-planeswitching)"、VA"象限垂直配向(domainverticalalignment)"模式中,表面膜的帶電還會導(dǎo)致圖像模糊。因此,為了防止上述問題,有文獻(xiàn)提出了在透明材料上形成抗靜電層的方法。抗靜電層通常采用含有抗靜電劑和由紫外線固化型樹脂構(gòu)成的粘結(jié)劑的組合物來形成(專利文獻(xiàn)13)。該情況下,若為了提高抗靜電性能,大量混合抗靜電劑,則粘結(jié)劑的含量相對降低,引起與抗靜電層鄰接的層的層間強(qiáng)度(密合性)或膜強(qiáng)度下降等問題。若密合性或膜強(qiáng)度降低,則會引起以抗靜電層為起點(diǎn)的剝離。這樣的剝離除了導(dǎo)致在制造工序中發(fā)生各種故障之外,還導(dǎo)致產(chǎn)品價(jià)值下降。另一方面,若為了提高密合性或膜強(qiáng)度而提高樹脂粘結(jié)劑的含量,則抗靜電劑的含量相對下降,所以抗靜電性能也相應(yīng)下降。專利文獻(xiàn)1日本特開2005-3058專利文獻(xiàn)2日本特開2005-231089專利文獻(xiàn)3日本特開2005-241989
發(fā)明內(nèi)容因此,本發(fā)明的主要目的在于,提供一種兼?zhèn)鋬?yōu)異的抗靜電性能和密合性的光學(xué)層積體及其制造方法。本發(fā)明人鑒于現(xiàn)有技術(shù)的問題,進(jìn)行了深入研究,結(jié)果發(fā)現(xiàn),通過采用特定的層結(jié)構(gòu),能夠?qū)崿F(xiàn)上述目的,從而完成了本發(fā)明。本發(fā)明涉及一種光學(xué)層積體,其是在透光性基材上依次形成有抗靜電層和硬膜層而成的層積體,其特征在于,在所述層積體的截面外觀上,所述硬膜層的截面紋樣(斷面相)存在于從硬膜層經(jīng)由抗靜電層到透光性基材中。優(yōu)選上述抗靜電層使用含有抗靜電劑和熱塑性樹脂的熱干燥型組合物來形成。優(yōu)選上述抗靜電劑是選自聚乙炔、聚苯胺、聚噻吩、聚吡咯、聚苯硫醚、聚(1,6-庚二烯)、聚亞聯(lián)苯基(聚對亞苯基)、聚對苯硫醚、聚苯乙炔、聚(2,5-噻吩)(Poly(2,5-thienylene))、聚呋喃、聚(3,4-亞乙基二氧噻吩)、聚異硫茚、多并苯和它們的衍生物中的至少一種導(dǎo)電性高分子。優(yōu)選上述抗靜電層的厚度為10500nm。優(yōu)選上述硬膜層由含有樹脂和溶劑的硬膜層形成用組合物形成,上述溶劑對抗靜電層的熱塑性樹脂具有溶解性。優(yōu)選上述光學(xué)層積體實(shí)質(zhì)上不存在干涉條紋。優(yōu)選上述光學(xué)層積體是在硬膜層上形成有選自由防眩層、低折射率層和防污層組成的組中的至少1層而成的。優(yōu)選在上述光學(xué)層積體中,選自由防眩層、低折射率層和防污層組成的組中的至少1層和硬膜層中的至少1層具有抗靜電性能。上述光學(xué)層積體優(yōu)選用作防反射用層積體。本發(fā)明還提供一中偏振片,該偏振片為具備偏振元件的偏振片,其特征在于,所述偏振片在偏振元件表面上設(shè)有所述光學(xué)層積體。優(yōu)選上述偏振片還具有至少1層除光學(xué)層積體含有的抗靜電層以外的抗靜電層。本發(fā)明還提供光學(xué)層積體的制造方法,其是在透光性基材上依次形成有抗靜電層和硬膜層而成的光學(xué)層積體的制造方法,其特征在于,所述抗靜電層使用含有抗靜電劑和熱塑性樹脂的熱干燥型組合物來形成,所述硬膜層由含有樹脂和溶劑的硬膜層形成用組合物形成,所述溶劑對上述抗靜電層的所述熱塑性樹脂具有溶解性。在本發(fā)明的光學(xué)層積體中,在該層積體的截面外觀上,硬膜層的截面紋樣存在于從硬膜層通過抗靜電層到透光性基材的區(qū)域內(nèi),所以能夠發(fā)揮優(yōu)異的密合性。即,在本發(fā)明的層積體中,維持基材/抗靜電層/硬膜層形成為一體的狀態(tài)。因此,本發(fā)明的層積體能夠在維持良好的密合性的同時(shí),使用與現(xiàn)有技術(shù)相同或更多的抗靜電劑,結(jié)果,本發(fā)明的層積體能夠發(fā)揮更優(yōu)異的抗靜電性能。尤其是使用有機(jī)系抗靜電劑(聚噻吩、聚苯胺、聚吡咯等)作為抗靜電劑的情況下,可發(fā)揮優(yōu)異的抗靜電性能的同時(shí),進(jìn)一步提高層積體的全光線透過率,并且還能夠降低霧值。聚噻吩因透明性高而特別優(yōu)選。作為硬膜層積體,本發(fā)明的光學(xué)層積體能夠適合用作防反射層積體(包括用為防眩性層積體的情況)。并且,本發(fā)明的光學(xué)層積體可以用于透過型顯示裝置。尤其是,可以用于電視、計(jì)算機(jī)、字符處理器等顯示屏的顯示。特別是本發(fā)明的光學(xué)層積體適合用作CRT、ELD、PDP、液晶面板等顯示屏的表面。本發(fā)明的光學(xué)層積體是在透光性基材上依次形成有抗靜電層和硬膜層而成的層積體,其特征在于,在所述層積體的截面外觀上,所述硬膜層的截面紋樣存在于從硬膜層經(jīng)由抗靜電層到透光性基材中。該硬膜的截面紋樣是指,在切割光學(xué)層積體的截面時(shí),由于硬膜層的硬度高,所以硬膜層以某種切痕的外觀殘留。即,是指硬膜層的截面的圖案。上述截面外觀可以通過透過型電子顯微鏡(TEM)進(jìn)行觀察。例如,在后述比較例3(該例是本發(fā)明以外的類型,是聚噻吩粘結(jié)劑為紫外線固化型材料時(shí)的結(jié)果。除此之外的現(xiàn)有類型(g卩,主要是為了賦予抗靜電性而使用分散有導(dǎo)電性超微粒的材料的類型)的觀察結(jié)果也相同)的光學(xué)層積體中,如TEM(10萬倍)的截面圖(即圖2)所示,依次存在硬膜層、抗靜電層和透光性基材的各截面紋樣。上部的縱向條紋圖案的區(qū)域?yàn)橛材拥慕孛婕y樣,中心附近的黑色層為抗靜電層的截面紋樣,該黑色層下側(cè)為基材的截面紋樣。即,在透光性基材的區(qū)域內(nèi)未發(fā)現(xiàn)上述層積體的硬膜層的截面紋樣。相對于此,根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)層積體的TEM(10萬倍)的截面圖(即圖1),發(fā)現(xiàn)硬膜層的截面紋樣從硬膜層經(jīng)由抗靜電層達(dá)到透光性基材側(cè)而存在。換言之,能夠確認(rèn)到硬膜層的截面紋樣經(jīng)由抗靜電層侵入到透光性基材側(cè)。作為這樣的光學(xué)層積體,例如可以舉出如下得到的光學(xué)層積體例如,用于形成硬膜層的硬膜層形成用組合物中含有的溶劑將分別包含于抗靜電層和透光性基材中的樹脂粘結(jié)劑溶脹、溶解,同時(shí)所述組合物滲透到抗靜電層中,并達(dá)到透光性基材而得到光學(xué)層積體。圖1中,由抗靜電層達(dá)到了基材側(cè)的硬膜層部分(縱向條紋圖案的區(qū)域)很小,為0.10.2pm,但根據(jù)用于硬膜層形成用組合物的溶劑的不同,達(dá)到了基材側(cè)的硬膜層部分有時(shí)也會達(dá)56pm或其以上的62(Him。像這樣,在截面的外觀性狀中具有硬膜層的截面紋樣從硬膜層經(jīng)由抗靜電層達(dá)到透光性基材而連續(xù)存在的結(jié)構(gòu),所以能夠有效維持硬膜層、抗靜電層和透光性基材實(shí)質(zhì)成一體的結(jié)構(gòu),結(jié)果本發(fā)明的光學(xué)層積體能夠發(fā)揮高密合性。下面,具體說明本發(fā)明中使用的基材、組合物。此外,在本發(fā)明中,在沒有特別說明的情況下,將單體、低聚物、預(yù)聚物等固化性樹脂前體總稱為"樹脂"。透光性基材透光性基材優(yōu)選具有平滑性、耐熱性且機(jī)械強(qiáng)度優(yōu)異的材料。作為形成透光性基材的材料的具體例,可以舉出聚酯(聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯)、三乙酸纖維素、二乙酸纖維素、乙酸丁酸纖維素、聚酯、聚酰胺、聚酰亞胺、聚醚砜、聚砜、聚丙烯、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚乙烯醇縮醛、聚醚酮、聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯或者聚氨酯等熱塑性樹脂,優(yōu)選聚酯(聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯)、三乙酸纖維素。上述透光性基材優(yōu)選使用上述熱塑性樹脂作為富有柔軟性的膜狀體,根據(jù)要求固化性的使用方式,也可以使用這些熱塑性樹脂的板,或者還可以使用玻璃板的板狀體。除此之外,作為上述透光性基材,可以舉出具有脂環(huán)結(jié)構(gòu)的非晶環(huán)烯烴聚合物(Cyclo-Olefm-Polymer:COP)膜。上述透光性基材是使用降冰片烯系聚合物、單環(huán)的環(huán)狀烯烴系聚合物、環(huán)狀共軛二烯系聚合物、乙烯基脂環(huán)式烴類聚合物等的基材,例如,可以舉出日本Zeon株式會社制造的ZEONEX或ZEONOR(降冰片烯系樹脂)、SUMITOMOBAKELITE株式會社制造的SUMILITEFS-1700、JSR株式會社制造的ARTON(改性降冰片烯系樹脂)、三井化學(xué)株式會社制造的APEL(環(huán)狀烯烴共聚物)、Ticona公司制造的Topas(環(huán)狀烯烴共聚物)、日立化成株式會社制造的OPTOREZOZ-1000系列(脂環(huán)式丙烯酸樹脂)等。此外,作為三乙酸纖維素的替代基材,還優(yōu)選使用旭化成化學(xué)株式會社制造的FV系列(低雙折射率、低光彈性模量膜)。透光性基材的厚度優(yōu)選為20^im300^im,更優(yōu)選上限為200>im,下限為30pm。透光性基材為板狀體的情況下,透光性基材的厚度也可以超過所述厚度。在基材上形成硬膜層、抗靜電層等時(shí),為了提高粘結(jié)性,除了進(jìn)行電暈放電處理、氧化處理等物理處理之外,還可預(yù)先涂布被稱為錨定劑或底漆的涂料??轨o電層作為抗靜電層沒有特別限定,例如可優(yōu)選采用含有抗靜電劑和熱塑性樹脂的熱干燥型組合物來形成。該情況下,還可以根據(jù)需要,使用溶劑。熱干燥型組合物是通過加熱對溶劑進(jìn)行干燥時(shí)形成覆膜并在其后變成可在該覆膜層上進(jìn)行加工的狀態(tài)的樹脂組合物,可以使用與公知的熱塑性涂料等相同的粘結(jié)劑、溶劑等制備抗靜電層??轨o電劑沒有限定,可以從公知的抗靜電劑中適當(dāng)選擇一種或2種以上抗靜電劑。例如,可以舉出季銨鹽、吡啶鎗鹽、具有由伯氨基、仲氨基、叔氨基等衍生的陽離子性基團(tuán)的各種陽離子性化合物;具有磺酸根、硫酸酯根、磷酸酯根、膦酸根等陰離子性基團(tuán)的陰離子性化合物;氨基酸系、具有氨基的硫酸酯(7S/硫酸二》于》)系等兩性化合物;氨基醇系、甘油系、聚乙二醇系等非離子型化合物;錫和鈦的醇鹽這樣的有機(jī)金屬化合物和它們的乙酰丙酮鹽等金屬螯合物等。此外,還可以舉出將上述列出的化合物高分子量化后的化合物。并且,具有叔氨基、季銨基或金屬螯合部且可借助電離放射線聚合的單體或低聚物、或者具有可借助電離放射線聚合的官能團(tuán)的如偶聯(lián)劑那樣的有機(jī)金屬化合物等可聚合的化合物也可用作抗靜電劑。并且,例如導(dǎo)電性超微粒也可以用作抗靜電劑。作為導(dǎo)電性微粒的具體例,可以舉出金屬氧化物微粒。作為這種金屬氧化物,可以舉出ZnO(折射率為1.90以下,下面括號內(nèi)的數(shù)值表示折射率)、Ce02(1.95)、Sb202(1.71)、Sn02(1.997)、常被簡稱為ITO的氧化銦錫(1.95)、In2O3(2.00)、Al203(1.63)、銻摻雜氧化錫(簡稱為ATO,2.0)、鋁摻雜氧化鋅(簡稱為AZO,2.0)等。除此之外,還可以舉出不是金屬氧化物的無機(jī)系碳納米管、富勒烯等。微粒是指1微米以下的、所謂亞微米大小的粒子,優(yōu)選平均粒徑為0.1nm0.1pm的粒子。上述平均粒徑可以采用動(dòng)態(tài)光散射法等進(jìn)行測定。此外,作為有機(jī)系抗靜電劑,還可以使用例如聚乙炔、聚苯胺、聚噻吩、聚吡咯、聚苯硫醚、聚(l,6-庚二烯)、聚亞聯(lián)苯基(聚對亞苯基)、聚對苯硫醚、聚苯乙炔、聚呋喃、聚(3,4-亞乙基二氧噻吩)、聚異硫茚、多并苯或它們的衍生物等導(dǎo)電性高分子。這些導(dǎo)電性高分子可以使用一種或2種以上。作為上述聚噻吩,優(yōu)選低聚噻吩。作為上述衍生物,沒有特別限定,例如可以舉出聚苯乙炔、聚二乙炔的垸基取代物等。在本發(fā)明中,特別優(yōu)選使用上述導(dǎo)電性高分子的至少一種。通過使用上述導(dǎo)電性高分子,能夠在本發(fā)明的層積體中,實(shí)現(xiàn)更高透過率的同時(shí),得到更低的霧值。作為熱塑性樹脂,不特別限制,但從能夠制備熱干燥型組合物的方面出發(fā),可以適合使用例如纖維素衍生物(例如乙酸纖維素、硝基纖維素、醋酸丁酯纖維素(acetylbutylcdlulose)、乙基纖維素、甲基纖維素等)、乙烯基系樹脂(例如乙酸乙烯酯及其共聚物、氯乙烯及其共聚物、偏二氯乙烯及其共聚物等)、縮醛系樹脂(例如聚乙烯醇縮甲醛、聚乙烯醇縮丁醛等)、丙烯酸系樹脂(丙烯酸樹脂及其共聚物、甲基丙烯酸樹酯及其共聚物等)之外,還可以適合使用聚苯乙烯樹脂、聚酰胺樹脂、聚碳酸酯樹脂等。使用熱塑性樹脂的情況下,上述組合物中的抗靜電劑的含量可以根據(jù)要使用的抗靜電劑的種類等適當(dāng)設(shè)定,通常在抗靜電劑和熱塑性樹脂的合計(jì)100質(zhì)量%中,抗靜電劑量為1質(zhì)量%左右50質(zhì)量%左右,優(yōu)選為5質(zhì)量%20質(zhì)量%。并且,在上述組合物中,根據(jù)需要,還可以使用溶劑。可以根據(jù)要使用的抗靜電劑的種類等,從公知的溶劑中適當(dāng)選擇溶劑。例如,使用聚噻吩作為抗靜電劑的情況下,除了水之外,還可以使用甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、正戊醇、異戊醇、仲戊醇、叔戊醇、l-乙基-l-丙醇、2-甲基-l-丁醇、乙二醇一甲醚、乙二醇一甲醚乙酸酯、甲基溶纖劑、乙基溶纖劑、丁基溶纖劑、丙二醇、丙二醇單乙醚、丙二醇單丁醚、正己醇、環(huán)己醇等一種或2種以上的溶劑。對于上述組合物的制備方法,只要能夠?qū)⒏鞒煞志鶆蚧旌霞纯?,可采用公知的方法?shí)施。例如,可以使用涂料搖擺器、珠磨機(jī)、捏合機(jī)、混合器等公知的裝置進(jìn)行混合。在形成抗靜電層時(shí),例如只要將上述組合物用作抗靜電層形成用組合物,由上述組合物形成涂膜,使所述涂膜固化即可。涂膜的形成方法可以依照公知的方法進(jìn)行。例如,可以采用旋涂法、浸漬法、噴霧法、模涂(夕'、卜"一卜)法、棒涂法、輥涂法、凹液面涂布(meniscuscoating)法、苯胺印刷法、絲網(wǎng)刷法、刮槽(e—卜")涂布法等各種方法??轨o電層的厚度(干燥厚度)通常為10nm左右500nm左右,特別優(yōu)選為50200nm。對于全光線透過率、霧度等光學(xué)性能來說優(yōu)選厚度小于10nm的情況,但有時(shí)不能得到目標(biāo)抗靜電性能(飽和充電電壓小于2.0kV)。并且,在厚度超過500nm的情況下,為了使硬膜層的截面紋樣經(jīng)由抗靜電層并存在于透光性基材中,有可能需要很長時(shí)間,并在生產(chǎn)加工方面效率有可能變差。根據(jù)以上理由,優(yōu)選將所述抗靜電層的厚度設(shè)定為上述的膜厚范圍內(nèi)。所述抗靜電層的厚度是利用電子顯微鏡(SEM、TEM、STEM)對截面進(jìn)行觀察并測定得到的值。硬膜層本發(fā)明中的"硬膜層"是指在JISK5600-5-4(1999)中規(guī)定的鉛筆硬度試驗(yàn)中顯示出"H"以上的硬度的層。在本發(fā)明的光學(xué)層積體中,上述硬膜層的鉛筆硬度優(yōu)選為2H以上。并且,上述硬膜層的維氏硬度優(yōu)選為250N/mm以上。上述硬膜層只要具有透明性即可,沒有特別的限制,上述硬膜層優(yōu)選含有樹脂。作為上述樹脂,沒有特別限定,例如可以舉出電離放射線固化型樹脂(即利用紫外線或電子射線固化的樹脂)、電離放射線固化型樹脂與溶劑干燥型樹脂(僅通過使涂布時(shí)為了調(diào)整固體成分而添加的溶劑干燥來形成覆膜的樹脂)的混合物、或熱固化型樹脂這三類,優(yōu)選可以舉出電離放射線固化型樹脂。并且,在本發(fā)明的優(yōu)選方式中,可以使用至少含有電離放射線固化型樹脂和熱固化型樹脂而成的樹脂。作為上述電離放射線固化型樹脂,例如可以舉出具有丙烯酸酯系官能團(tuán)的化合物等具有1個(gè)或2以上不飽和鍵的化合物。作為具有1個(gè)不飽和鍵的化合物,例如可以舉出(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸甲基已酯、苯乙烯、甲基苯乙烯、N-乙烯基吡咯烷酮等。作為具有2個(gè)以上不飽和鍵的化合物,可以舉出例如聚羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、己二醇(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯等多官能化合物與(甲基)丙烯酸酯等的反應(yīng)生成物(例如多元醇的聚(甲基)丙烯酸酯)等。此外,在本說明書中,"(甲基)丙烯酸酯"是指甲基丙烯酸酯和丙烯酸酯。除了上述化合物以外,具有不飽和雙鍵的較低分子量的聚酯樹脂、聚醚樹脂、丙烯酸樹脂、環(huán)氧樹脂、氨基甲酸酯樹脂、醇酸樹脂、螺縮醛樹脂、聚丁二烯樹脂、多硫醇-多烯樹脂等也可用作上述電離放射線固化型樹脂。在將電離放射線固化型樹脂用作紫外線固化型樹脂的情況下,優(yōu)選使用光聚合引發(fā)劑。作為光聚合引發(fā)劑的具體例,可以舉出乙酰苯類、二苯甲酮類、米歇爾苯甲酸酐、阿爾法阿米羅基酯(a-amyloximester)、噻噸酮類、苯丙酮類、芐基類、苯偶姻類、酰基膦氧化物類。并且,優(yōu)選ii所述光聚合引發(fā)劑與光敏劑混合使用,作為光敏劑的具體例,可以舉出正丁胺、三乙胺、聚-正丁基膦等。作為添加到電離放射線固化性樹脂組合物中的光聚合引發(fā)劑,適合使用例如乙酰苯類、二苯甲酮類、米歇爾苯甲酸芐酯、阿爾法阿米羅基酯(a-amyloximester)、一硫化四甲基秋蘭姆(于卜,乂f"少乂々,厶乇乂廿A77<F)、噻噸酮類等。并且,為具有陽離子聚合性官能團(tuán)的樹脂系的情況下,作為光聚合引發(fā)劑,優(yōu)選將芳香族重氮鐺鹽、芳香族锍鹽、芳香族碘鑰鹽、茂金屬化合物、苯偶姻磺酸酯等單獨(dú)使用,或作為混合物使用。并且,根據(jù)需要,添加光敏劑、光聚合促進(jìn)劑。作為該光敏劑、光聚合促進(jìn)劑,只要是公知的光敏劑即可,例如,包括苯偶姻、苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻異丙醚、a-甲基苯偶姻、a-苯基苯偶姻等苯偶姻系化合物;蒽醌、甲基蒽醌等蒽醌系化合物;聯(lián)苯酰;丁二酮;乙酰苯、二苯甲酮等苯丙酮化合物;二苯基二硫化物、硫化四甲基秋蘭姆等硫化物;a-氯甲基萘;蒽和六氯丁二烯、五氯丁二烯等鹵代烴;噻噸酮、正丁胺、三乙胺、三正丁基膦等。具體地說,對于乙酰苯系光聚合引發(fā)劑,優(yōu)選使用二苯甲酮或噻噸酮光敏劑。光聚合引發(fā)劑的添加量相對于100質(zhì)量份的電離放射線固化性組合物為0.110質(zhì)量份。作為混合到電離放射線固化型樹脂中使用的溶劑干燥型樹脂,主要可以舉出熱塑性樹脂。作為所述熱塑性樹脂,可以使用通常例示的樹脂。通過添加上述溶劑干燥型樹脂,能夠有效防止涂布面的涂膜缺陷。作為優(yōu)選的熱塑性樹脂的具體例,所述熱塑性樹脂可以使用通常例示的樹脂。通過添加上述溶劑干燥型樹脂,能夠有效防止涂布面的涂膜缺陷。作為優(yōu)選的熱塑性樹脂的具體例,可以舉出例如苯乙烯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、乙酸乙烯酯系樹脂、乙烯基醚系樹脂、含鹵素樹脂、脂環(huán)式烯烴系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、聚酰胺系樹脂、纖維素衍生物、硅酮系樹脂,以及橡膠或彈性體等。作為所述熱塑性樹脂,通常優(yōu)選使用非結(jié)晶性且可溶于有機(jī)溶劑(尤其是可溶解2個(gè)以上的聚合物或固化性化合物的共同溶劑)的樹脂。尤其優(yōu)選成型性或制膜性、透明性、耐候性高的樹脂,例如苯乙烯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、脂環(huán)式烯烴系樹脂、聚酯系樹脂、纖維素衍生物(纖維素酯類等)等。根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選方式,透光性基材的材料為三乙酸纖維素"TAC"等纖維素系樹脂的情況下,作為熱塑性樹脂的優(yōu)選具體例,可以舉出纖維素系樹脂,例如硝基纖維素、乙酸纖維素、乙酸丙酸纖維素、羥乙基纖維素乙醚等。通過使用纖維素系樹脂,可以提高透光性基材和硬膜層的密合性和透明性。作為可以用作上述樹脂的熱固性樹脂,可以舉出酚醛樹脂、脲樹脂、鄰苯二甲酸二烯丙酯樹脂、三聚氰胺樹脂、胍胺樹脂、不飽和聚酯樹脂、聚氨酯樹脂、環(huán)氧樹脂、氨基醇酸樹脂、三聚氰胺-脲共縮合樹脂、硅樹脂、聚硅氧垸樹脂等。在使用熱固性樹脂的情況下,根據(jù)需要,還可以一并使用交聯(lián)劑、聚合引發(fā)劑等固化劑、聚合促進(jìn)劑、溶劑、粘度調(diào)整劑等。上述硬膜層可以通過如下方式獲得將樹脂和根據(jù)需要添加的添加劑(例如聚合引發(fā)劑、防眩劑、防污劑、流平劑等)溶解或分散到溶劑中,形成溶液或分散液,將該溶液或分散液用作硬膜層形成用組合物,采用上述組合物形成涂膜,使所述涂膜固化,從而得到硬膜層。作為上述溶劑,可以根據(jù)樹脂的種類和溶解性選擇使用,只要是能夠至少將固體成分(2個(gè)以上的聚合物和固化性樹脂前體、反應(yīng)引發(fā)劑、其他添加劑)均勻溶解的溶劑即可。作為這種溶劑,可以舉出例如酮類(丙酮、甲乙酮、甲基異丁基酮、環(huán)己酮等)、醚類(二氧六環(huán)、四氫呋喃等)、脂肪族烴類(己垸等)、脂環(huán)式烴類(環(huán)己垸等)、芳香族烴類(甲苯、二甲苯等)、鹵化碳類(二氯甲烷、二氯乙烷等)、酯類(乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯等)、水、醇類(乙醇、異丙醇、丁醇、環(huán)己醇等)、溶纖劑類(甲基溶纖劑、乙基溶纖劑等)、乙酸溶纖劑類、亞砜類(二甲亞砜等)、酰胺類(二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺等)等,也可以是它們的混合溶劑。上述硬膜層形成用組合物優(yōu)選含有對所形成的抗靜電層的熱塑性樹脂具有滲透性的滲透性溶劑。在本發(fā)明中,滲透性溶劑的"滲透性"的含義包括對熱塑性樹脂的滲透性、溶脹性、濕潤性等全部概念。"滲透性"可理解為如下行為這樣的滲透性溶劑將熱塑性樹脂溶脹、濕潤,從而硬膜層形成用組合物的一部分進(jìn)行從抗靜電層的上部滲透到下部、進(jìn)一步滲透到下層。此外,上述溶劑可以根據(jù)硬膜層中的樹脂是否對基材具有密合性來確定。例如,上述樹脂對基材沒有密合性的情況下,優(yōu)選使用對基材具有滲透性的溶劑。例如,基材為TAC的情況下,作為滲透性溶劑的具體例,可以舉出酮類(丙酮、甲乙酮、環(huán)己酮、甲基異丁基酮、二丙酮醇);酯類(甲酸甲酯、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、乳酸乙酯);含氮化合物(硝基甲垸、乙腈、N-甲基吡咯烷酮、N,N-二甲基甲酰胺);二醇類(乙二醇一甲醚、乙二醇一甲醚乙酸酯);醚類(四氫呋喃、1,4-二氧六環(huán)、二氧戊環(huán)、二異丙醚);鹵代烴(二氯甲烷、三氯甲烷、四氯乙烷);二醇醚類(甲基溶纖劑、乙基溶纖劑、丁基溶纖劑、乙酸溶纖劑);其他(二甲亞砜、碳酸亞丙酯),或這些物質(zhì)的混合物,優(yōu)選酯類、酮類;乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、甲乙酮等。除此之外,甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇、異丁醇等醇類;甲苯、二甲苯等芳香族烴類也可以與上述滲透性溶劑混合使用。并且,在硬膜層形成用組合物中,上述滲透性溶劑占溶劑總量的10質(zhì)量%100質(zhì)量%,特別優(yōu)選占50質(zhì)量%100質(zhì)量%。上述硬膜層形成用組合物中的原料的含有比例(固體成分)沒有限定,通常為5質(zhì)量Q%70質(zhì)量%,特別優(yōu)選為25質(zhì)量%60質(zhì)量%。上述硬膜層形成用組合物中,可以根據(jù)提高硬膜層的硬度、抑制固化收縮、控制折射率、賦予防眩性等目的,添加樹脂、分散劑、表面活性劑、防眩劑、抗靜電劑、硅烷偶聯(lián)劑、增稠劑、防著色劑、著色劑(顏料、染料)、消泡劑、流平劑、阻燃劑、紫外線吸收劑、賦粘劑、阻聚劑、抗氧化劑、表面改性劑等。作為抗靜電劑,可以采用在上述抗靜電層中使用的各種抗靜電劑中的一種或2種以上。作為防眩劑,可以使用在后述的防眩層中使用的防眩劑中的一種或2種以上。作為上述硬膜層形成用組合物的制備方法,只要能夠?qū)⒏鞒煞志鶆蚧旌希蜎]有特別限定,例如可以使用涂料搖擺器、珠磨機(jī)、捏合機(jī)、混合器等公知的裝置進(jìn)行混合。形成上述硬膜層的工序如下進(jìn)行具體地說,涂布上述硬膜層形成用組合物,形成涂膜,將所得到的涂膜固化,從而形成上述硬膜層。作為所述涂布方法沒有特別限定,例如可以舉出旋涂法、浸漬法、噴霧法、模涂法、棒涂法、輥涂法、凹液面涂布法、苯胺印刷法、絲網(wǎng)刷法、刮槽涂布法等公知方法。對于上述涂膜的固化,沒有特別的限制,優(yōu)選根據(jù)需要,進(jìn)行干燥,并且通過加熱、活性能量線照射等進(jìn)行固化來形成。優(yōu)選硬膜層的膜厚(固化時(shí))為0.1^im100(im,優(yōu)選為0.8^im20iim,進(jìn)一步優(yōu)選在1.5pm10(im的范圍。所述膜厚是用電子顯微鏡(SEM、TEM、STEM)對截面進(jìn)行觀察并測定得到的值。對于上述活性能量線照射,可以舉出利用紫外線或電子射線進(jìn)行的照射。作為紫外線源的具體例,可以舉出超高壓汞燈、高壓汞燈、低壓汞燈、碳弧燈、黑光熒光燈、金屬鹵化物燈等光源。作為紫外線的波長,可以使用190380nm的波段。作為電子射線源的具體例,可以舉出Cockcroft-Walton(-'夕夕口7卜7少卜)型、VandeGraaff("'>f夕',7卜)型、共振變壓器型、絕緣核級變壓器型、或者直線型、Dynamitron(夕"<于S卜a>)型、高頻型等各種電子射線加速器。其他層作為本發(fā)明的基本層構(gòu)成,只要在透光性基材上至少依次形成抗靜電層和硬膜層即可。因此,在不損害本發(fā)明層積體的透光性等的范圍內(nèi),可以根據(jù)需要,在硬膜層上適宜地形成1層或2層以上的其他層(防眩層、低折射率層、防污層、粘結(jié)劑層、其他硬膜層等),優(yōu)選形成從防眩層、低折射率層和防污層組成的組中選擇的至少1層。這些層可以采用與公知的防反射用層積體相同的材料。防眩層防眩層可以形成于例如透過性基材和硬膜層或低折射率層(后述)之間。防眩層可以由包含樹脂和防眩劑的樹脂組合物形成。作為上述樹脂,可以從硬膜層項(xiàng)中說明的物質(zhì)中進(jìn)行適當(dāng)選擇來使用。作為防眩劑,可以使用各種微粒。微粒的平均粒徑?jīng)]有限制,通常微粒的平均粒徑只要在0.01pm左右2(Hmi左右即可。并且,微粒形狀可以是圓球狀、橢圓狀等的任意一種形狀,可優(yōu)選舉出圓球狀的微粒。并且,上述微??梢耘e出無機(jī)系或有機(jī)系的微粒。上述微粒以發(fā)揮防眩性并優(yōu)選具有透明性的微粒為宜。作為微粒的具體例,在無機(jī)系中,可以舉出二氧化硅微珠;在有機(jī)系中,可以舉出塑料微珠。作為塑料微珠的具體例,可以舉出聚苯乙烯微珠(折射率1.60)、三聚氰胺微珠(折射率1.57)、丙烯酸微珠(折射率1.491.535)、丙烯酸-苯乙烯微珠(折射率1.54、1.521.56)、苯胍胺-甲醛縮合物微珠(1.66)、三聚氰胺-甲醛縮合物微珠(1.66)、苯胍胺-三聚氰胺-甲醛縮合物微珠(1.52)、聚碳酸酯微珠、聚乙烯微珠等。對于上述微粒,將平均粒徑設(shè)定為ROim),將防眩層凹凸的十點(diǎn)平均粗糙度設(shè)定為RzOim),將防眩層的凹凸平均間隔設(shè)定為Sm()im),將凹凸部的平均傾斜角設(shè)定為pea,在這種情況下,優(yōu)選滿足下述的全部數(shù)學(xué)式。30《Sm《6000.05《Rz《1.600.3《R《20Sm(^m)表示該防眩層的凹凸的平均間隔,0a(度)表示凹凸部的平均傾斜角,(Rz)表示10點(diǎn)平均粗糙度,該定義依照J(rèn)ISB0601-1994,表面粗糙度測定器還適用SE-3400/株式會社小坂研究所制作的操作說明書(1995.07.20修訂)。在ea為角度單位,將以縱橫比例表示傾斜的斜率設(shè)定為Aa的情況下,以Aa^tanea氣各凹凸的最小部和最大部之差(相當(dāng)于各凸部的高度)的總和/基準(zhǔn)長度)求出?;鶞?zhǔn)長度是對利用測定機(jī)SE-3400測得的粗糙度曲線進(jìn)行截彎取直得到的值Xc,相當(dāng)于實(shí)際的觸針測量長度。并且,在本發(fā)明的其他優(yōu)選實(shí)施方式中,將上述微粒和上述樹脂組合物的折射率分別設(shè)定為nl、n2的情況下,優(yōu)選滿足Ar^Inl-n2I<0.1,且在防眩層內(nèi)部的霧度值為55%以下的防眩層。微粒的添加量根據(jù)所使用的微粒的種類、所期望的防眩性等而有所不同,相對于100質(zhì)量份的上述樹脂組合物,只要微粒的添加量通常為240質(zhì)量份、優(yōu)選為10質(zhì)量份左右25質(zhì)量份左右即可。在制備防眩層用組合物時(shí),還可以添加抗沉降劑。因?yàn)橥ㄟ^添加抗沉降劑,能夠抑制樹脂微珠沉淀,使其均勻地分散到溶劑內(nèi)。作為抗沉降劑的具體例,可以使用二氧化硅微珠等微珠類。微珠類的平均粒徑?jīng)]有限定,通常為0.5pm以下,優(yōu)選為0.10.25(am。防眩層的膜厚(固化時(shí))通常為O.l(im左右100pm左右,優(yōu)選在0.810(im的范圍內(nèi)。通過使膜厚處于該范圍,能夠充分發(fā)揮作為防眩層的功能。上述防眩層的膜厚可以采用以下方法測定。用激光共聚焦顯微鏡(LeicaTCS-NT:Leica公司制造倍數(shù)"3001000倍")對光學(xué)層積體的截面進(jìn)行透過觀察,采用下述的評價(jià)基準(zhǔn)判斷有無界面。具體地說,為了得到?jīng)]有光暈的鮮明的圖像,在激光共聚焦顯微鏡中使用濕式物鏡,且在光學(xué)層積體上放置約2ml折射率1.518的油,進(jìn)行觀察和判斷。使用油是為了使物鏡和光學(xué)層積體之間的空氣層消失。測定過程1:通過激光顯微鏡觀察測定平均膜厚。2:測定條件如上所述。3:每1個(gè)畫面共測定2點(diǎn),對每個(gè)點(diǎn)測定凹凸的最大凸部、最小凹部的從基材算起的層厚,將其分為5個(gè)畫面,對共計(jì)10點(diǎn)進(jìn)行測定,計(jì)算出平均值。由于各層存在折射率差,所以上述激光顯微鏡能夠進(jìn)行非破壞截面觀察。從而,在折射率差不明確或折射率差接近0的情況下,也可以借助能夠觀察到各層組成的不同的SEM和TEM截面照片觀察,同樣地觀察5個(gè)畫面,求出防眩層的膜厚。低折射率層低折射率層起到如下作用當(dāng)來自外部的光(例如,熒光燈、自然光等)在光學(xué)層積體的表面反射時(shí),降低其反射率。低折射率層優(yōu)選由l)含有二氧化硅或氟化鎂的樹酯、2)作為低折射率樹脂的氟類樹酯、3)含有二氧化硅或氟化鎂的氟類樹酯、4)二氧化硅或氟化鎂的薄膜等中的任意一種材料構(gòu)成。這些低折射率層優(yōu)選折射率在1.45以下,特別優(yōu)選在1.42以下。并且,低折射率層的厚度沒有限定,通常可以從30nm左右l^im左右的范圍內(nèi)適當(dāng)設(shè)定。所述低折射率層的厚度可以采用與所述硬膜層和低折射率層的厚度相同的方式測定。除氟樹脂以外的樹脂為與用于構(gòu)成硬膜層的樹酯相同的樹脂。作為上述氟類樹脂,可以使用分子中至少含有氟原子的聚合性化合物或其聚合物。作為所述聚合性化合物,沒有特別限定,例如優(yōu)選具有電離放射線固化性基團(tuán)、熱固性極性基團(tuán)等固化反應(yīng)性基團(tuán)的化合物。并且,所述聚合性化合物還可以是同時(shí)具有這些反應(yīng)性基團(tuán)的化合物。相對于該聚合性化合物,所述聚合物是指完全不具有上述反應(yīng)性基團(tuán)等的物質(zhì)。作為具有電離放射線固化性基團(tuán)的聚合性化合物,可以廣泛使用具有烯鍵式不飽和鍵的含氟單體。更具體地說,可以舉出氟代烯烴類(例如氟乙烯、偏二氟乙烯、四氟乙烯、六氟丙烯、全氟丁二烯、全氟-2,2-二甲基-l,3-間二氧雜環(huán)戊烯等)。作為具有(甲基)丙烯酰氧基的物質(zhì),還包括如(甲基)丙烯酸-2,2,2-三氟乙酯、(甲基)丙烯酸-2,2,3,3,3-五氟丙酯、(甲基)丙烯酸-2-(全氟丁基)乙酯、(甲基兩烯酸-2-(全氟己基)乙酯、(甲基)丙烯酸-2-(全氟辛基)乙酯、(甲基兩烯酸-2-(全氟癸基)乙酯、(x-三氟甲基丙烯酸甲酯、a-三氟甲基丙烯酸乙酯這樣的含氟(甲基)丙烯酸酯化合物;分子中具有氟代烷基、氟環(huán)烷基或氟代亞垸基(所述氟代垸基、氟環(huán)烷基和氟代亞烷基具有至少3個(gè)氟原子且碳原子數(shù)為114)和至少2個(gè)(甲基)丙烯酰氧基的含氟多官能(甲基)丙烯酸酯化合物等。作為熱固性極性基團(tuán),優(yōu)選例如羥基、羧基、氨基、環(huán)氧基等可形成氫鍵的基團(tuán)。它們不僅與涂膜的密合性優(yōu)異,而且與二氧化硅等無機(jī)超微粒的親和性也優(yōu)異。作為具有熱固性極性基團(tuán)的聚合性化合物,可以舉出例如4-氟乙烯-全氟垸基乙烯基醚共聚物;氟乙烯-烴類乙烯基醚共聚物;環(huán)氧樹脂、聚氨酯樹脂、纖維素、酚醛樹脂、聚酰亞胺樹脂等各樹脂的氟改性物等。作為同時(shí)具有電離放射線固化性基團(tuán)和熱固性極性基團(tuán)的聚合性化合物,可以舉出丙烯酸或甲基丙烯酸的部分和全氟代烷基、鏈烯基、芳基酯類、完全或部分氟化乙烯基醚類、完全或部分氟化乙烯基酯類、完全或部分氟化乙烯基酮類等。并且,作為氟類樹脂,例如可以舉出如下物質(zhì)。包括至少1種含氟(甲基)丙烯酸酯化合物(作為具有上述電離放射線固化性基團(tuán)的聚合性化合物)的單體或單體混合物的聚合物;上述含氟(甲基)丙烯酸酯化合物的至少1種與分子中不含氟原子的(甲基)丙烯酸酯化合物(如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸-2-甲基已酯等)的共聚物;氟乙烯、偏二氟乙烯、三氟乙烯、三氟氯乙烯、3,3,3-三氟丙烯、1,1,2-三氯-3,3,3-三氟丙烯、六氟丙烯等含氟單體的均聚物或共聚物等。作為氟類樹脂,還可以使用在所述共聚物中含有硅酮成分的含硅酮偏二氟乙烯共聚物。作為硅酮成分,可以舉出(聚)二甲基硅氧烷、(聚)二乙基硅氧烷、(聚)二苯基硅氧垸、(聚)甲基苯基硅氧烷、垸基改性(聚)二甲基硅氧垸、含偶氮基(聚)二甲基硅氧烷、二甲基硅酮、苯基甲基硅酮、垸基和/或芳烷基改性硅酮、氟硅酮、聚醚改性硅酮、脂肪酸酯改性硅酮、甲基氫硅酮、含硅烷醇基硅酮、含烷氧基硅酮、含苯酚基硅酮、甲基丙烯酸改性硅酮、氨基改性硅酮、羧酸改性硅酮、甲醇改性硅酮、環(huán)氧改性硅酮、巰基改性硅酮、氟改性硅酮、聚醚改性硅酮等。其中,優(yōu)選具有二甲基硅氧垸結(jié)構(gòu)的硅酮。作為上述二甲基硅氧烷結(jié)構(gòu),更具體地說,可以舉出向末端具有硅烷醇基的聚二甲基硅氧烷、聚甲基苯基硅氧烷、聚甲基乙烯基硅氧烷等19聚烷基硅氧垸、聚鏈烯基硅氧烷或者聚芳基硅氧垸中添加混合了各種交聯(lián)劑(例如四官能硅烷(如四乙酰氧基硅垸、四垸氧基硅烷、四丁基酮肟基硅垸、四異丙烯基硅垸等)以及三官能硅烷(如烷基三乙酰氧基硅烷或鏈烯基三乙酰氧基硅垸、三酮肟基硅垸、三異丙烯基硅垸、三垸氧基硅垸等)等)得到的物質(zhì),還可以舉出在一些情況下預(yù)先使上述混合物質(zhì)發(fā)生反應(yīng)而得到的物質(zhì)。除此之外,由以下化合物構(gòu)成的非聚合物或聚合物也可用作氟類樹脂。即,還可以使用分子中具有至少1個(gè)異氰酸酯基的含氟化合物與分子中具有至少1個(gè)氨基、羥基、羧基等可與異氰酸酯基反應(yīng)的官能團(tuán)的化合物反應(yīng)得到的化合物;含氟聚醚多元醇、含氟垸基多元醇、含氟聚酯多元醇、含氟s-己內(nèi)酯改性多元醇等含氟多元醇與具有異氰酸酯基的化合物反應(yīng)得到的化合物;等等。并且,與上述的具有氟原子的聚合性化合物或聚合物一起,還可以混合使用硬膜層用組合物中記載的各樹脂成分。此外,還可以適宜地使用固化劑以使反應(yīng)性基團(tuán)等固化,或者適宜地使用各種添加劑、溶劑以提高涂布性、賦予防污性。具體地說,通過將含有30%90%偏二氟乙烯、5%50%六氟丙烯(下面,百分率均為質(zhì)量基準(zhǔn))的單體組合物共聚,得到上述含硅酮的偏二氟乙烯共聚物。對于上述含硅酮的偏二氟乙烯共聚物,單體組合物中的各成分的比例如下偏二氟乙烯為30%90%,優(yōu)選為40%80%,特別優(yōu)選為40%70%,并且六氟丙烯為5%50%,優(yōu)選為10%50%,特別優(yōu)選為15。%45%。該單體組合物中還可以進(jìn)一步含有0%40。%、優(yōu)選0%35%、特別優(yōu)選10%30%的四氟乙烯。對于上述的單體組合物,在不損壞上述的含硅酮的偏二氟乙烯共聚物的使用目的和效果的范圍內(nèi),可以以例如20%以下、優(yōu)選為10%以下的范圍含有其他共聚物成分。作為這樣的其他共聚成分的具體例,可以例示出氟乙烯、三氟乙烯、三氟氯乙烯、1,2-二氯-1,2-二氟乙烯、2-溴-3,3,3-三氟乙烯、3-溴-3,3-二氟丙烯、3,3,3-三氟丙烯、1,1,2-三氯-3,3,3-三氟丙烯、a-三氟甲基丙烯酸等具有氟原子的聚合性單體的一種或2種以上。由以上的單體組合物得到的含氟共聚物中,含氟比例需要為60%70%,優(yōu)選含氟比例為62%70%,特別優(yōu)選為64%68%。通過將含氟比例設(shè)定在上述范圍內(nèi),從而使含氟聚合物對溶劑具有良好的溶解性,并且,通過含有這樣的含氟聚合物作為成分,從而形成對各種基材具有優(yōu)異的密合性、具有高透明性和低折射率并具有充分優(yōu)異的機(jī)械強(qiáng)度的薄膜,所以能夠使得形成有薄膜的表面的耐傷性等機(jī)械特性足夠高。按聚苯乙烯換算數(shù)均分子量計(jì),上述含氮共聚物的分子量為5000200000,特別優(yōu)選為10000100000。通過使用具有這樣大小的分子量的含氟共聚物,所得到的氟類樹脂組合物的粘度大小適宜,所以能夠可靠地形成具有適合的涂布性的氟類樹脂組合物。含氮共聚物優(yōu)選其自身的折射率為1.45以下,特別為1.42以下,進(jìn)一步優(yōu)選為1.40以下。在使用了折射率超過1.45的含氟共聚物的情況下,有時(shí)候由所得到的氟類涂料形成的薄膜的防反射效果小。并且,在本發(fā)明中,作為用于低折射率劑的固化性的含氟共聚物,除了含全氟烷基的硅烷化合物(例如(十七氟-l,l,2,2-四氫癸基)三乙氧基硅垸)等之外,還可以使用將含氟單體單元和用于賦予交聯(lián)反應(yīng)性的結(jié)構(gòu)單元作為構(gòu)成成分的含氟共聚物。作為含氟單體單元的具體例,可以舉出例如氟代烯烴類(例如氟乙烯、偏二氟乙烯、四氟乙烯、六氟乙烯、六氟丙烯、全氟-2,2-二甲基-1,3-間二氧雜環(huán)戊烯等)、(甲基)丙烯酸的部分或完全氟化烷基酯衍生物類(例如Biscoat6FM(大阪有機(jī)化學(xué)制造)、MJ0M(大金制造)等)、完全或部分氟化乙烯基醚類等,優(yōu)選全氟烯烴類。特別是從折射率、溶解性、透明性、易得性等方面考慮,更優(yōu)選六氟丙烯。作為用于賦予固化反應(yīng)性的結(jié)構(gòu)單元,可以舉出如(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、縮水甘油基乙烯基醚等那樣通過分子內(nèi)預(yù)先具有自固化性官能團(tuán)的單體聚合得到的結(jié)構(gòu)單元;通過具有羧基、羥基、氨基、磺基等的單體(例如(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羥甲酯、(甲基)丙烯酸羥基烷基酯、丙烯酸烯丙酯、羥乙基乙烯基醚、羥丁基乙烯基醚、馬來酸、丁烯酸等)的聚合得到的結(jié)構(gòu)單元;通過高分子反應(yīng)在這些結(jié)構(gòu)單元中引入(甲基)丙烯?;裙袒磻?yīng)性基團(tuán)的結(jié)構(gòu)單元(例如,可以利用使羥基與丙烯酰氯作用等方法引入(甲基)丙烯酰基等固化反應(yīng)性基團(tuán))。并且,除了上述含氟單體單元、用于賦予固化反應(yīng)性的結(jié)構(gòu)單元以外,還可以從對溶劑的溶解性、皮膜的透明性等方面出發(fā),適當(dāng)共聚不含氟原子的單體。對可合用的單體單元沒有特別限定,可以舉出例如烯烴類(乙烯、丙烯、異戊二烯、氯乙烯、偏二氯乙烯等)、丙烯酸酯類(丙烯酸甲酯、丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸-2-乙基己酯)、甲基丙烯酸酯類(甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丁酯、二甲基丙烯酸乙二醇酯等)、苯乙烯衍生物(苯乙烯、二乙烯基苯、乙烯基甲苯、a-甲基苯乙烯等)、乙烯基醚類(甲基乙烯基醚、乙基乙烯基醚、環(huán)己基乙烯基醚等)、乙烯基酯類(乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、肉桂酸乙烯酯等)、丙烯酰胺類(N-叔丁基丙烯酰胺、N-環(huán)己基丙烯酰胺等)、甲基丙烯酰胺類、丙烯腈衍生物等。對于上述的聚合物,如日本特開平8-92323號、日本特開平10-25388號、日本特開平10-147739號、日本特開平12-17028號公報(bào)中的記載那樣,還可以適當(dāng)合用固化劑。尤其,在聚合物的固化反應(yīng)性基團(tuán)為如羥基、羧基那樣的單獨(dú)不具有固化反應(yīng)性的基團(tuán)的情況下,必須合用固化劑。作為固化劑,可以舉出例如多異氰酸酯系、氨基塑料(7$/7°,》t)、多元酸或其酸酐等。另一方面,在固化反應(yīng)性基團(tuán)為自固化反應(yīng)性基團(tuán)的情況下,可以不特別添加固化劑,但也可以適當(dāng)合用多官能(甲基)丙烯酸酯化合物、多官能環(huán)氧化合物等各種固化劑。低折射率劑中特別有用的含氟共聚物是全氟烯烴與乙烯基醚類或乙烯基酯類的無規(guī)共聚物。特別優(yōu)選可單獨(dú)進(jìn)行交聯(lián)反應(yīng)的基團(tuán)((甲基)丙烯酰基等自由基反應(yīng)性基團(tuán);環(huán)氧基、氧雜環(huán)丁烷基等開環(huán)聚合性基團(tuán)等)。這些含交聯(lián)反應(yīng)性基團(tuán)的聚合單元優(yōu)選占聚合物的全部聚合單元的5摩爾%70摩爾%,更優(yōu)選為30摩爾%60摩爾%。并且,在本發(fā)明的低折射率劑中,為賦予防污性,優(yōu)選在含氟共聚物中引入聚硅氧烷結(jié)構(gòu)。聚硅氧烷結(jié)構(gòu)的引入方法沒有限定,優(yōu)選例如,像日本特開平11-189621號、日本特開平11-228631號、日本特開2000-313709號所記載的那樣,使用硅酮大分子偶氮引發(fā)劑(siliconemacro-azoinitiator)來引入聚硅氧垸嵌段共聚成分的方法;像日本特開平2-251555號、日本特開平2-308806號所記載的那樣,使用硅酮大分子單體來引入聚硅氧垸接枝共聚成分的方法。這些情況下,聚硅氧烷結(jié)構(gòu)優(yōu)選占聚合物的0.5質(zhì)量%10質(zhì)量%,特別優(yōu)選為1質(zhì)量%5質(zhì)量%。對于賦予防污性,除了上述之外,還可適當(dāng)添加含反應(yīng)性基團(tuán)的聚硅氧垸。作為含反應(yīng)性基團(tuán)的聚硅氧垸,也可以使用市售品。作為市售品,可以舉出例如信越化學(xué)工業(yè)株式會社制造的商品名KF-100T、X-22-169AS、KF畫102、X-22-3701正、X-22畫164B、X-22-5002、X-22-173B、X-22-174D、X-22-167B、X-22-161AS;東亞合成株式會社制造的商品名AK-5、AK-30、AK-32;CHISSO株式會社制造的商品名SilaplaneFM0275、SilaplaneFM0721等。此時(shí),這些聚硅氧烷優(yōu)選以低折射率層的總固體成分的0.5質(zhì)量%10質(zhì)量%的范圍添加,更優(yōu)選為1質(zhì)量%5質(zhì)量%。在本發(fā)明的低折射率劑中,作為市售的含氟化合物,也可以利用例如TEFRON(注冊商標(biāo))AF1600(杜邦公司制造、折射率『1.30)、CYTOP(旭硝子株式會社制造、n=1.34)、17FM(MitsubishiRayon株式會社制造、n=1.35)、OpstarJN-7212(JSR株式會社制造、n=1.40)、OpstarJN-7228(JSR株式會社制造、n=1.42)、LR201(日產(chǎn)化學(xué)工業(yè)株式會社制造、n-1.38)(均為商品名)等。除此之外,低折射率層也可以采用由Si02形成的薄膜構(gòu)成。例如,可以采用蒸鍍法、濺射法、等離子體CVD法等氣相法、液相法(該液相法由含有Si02溶膠的溶膠液形成Si02凝膠膜)等任意方法來形成低折射率層。此外,除了Si02以外,還可以采用MgF2薄膜等材料來構(gòu)成低折射率層。尤其,從對下層的密合性高的方面考慮,優(yōu)選Si02薄膜。并且,在上述方法之中,采用等離子體CVD法時(shí),優(yōu)選將有機(jī)硅氧烷用作原料氣體,并在不存在其他無機(jī)質(zhì)的蒸鍍源的條件下進(jìn)行。并且,在這種情況下,優(yōu)選盡量將被蒸鍍體維持在低溫下來進(jìn)行。在形成低折射率層時(shí),可以使用例如含有原料成分的組合物(折射率層用組合物)來形成。更具體地說,將原料成分(樹脂等)和根據(jù)需要添加的添加劑(例如,后述的"具有空隙的微粒"、聚合引發(fā)劑、抗靜電劑、防眩劑等)溶解或分散到溶劑中形成溶液或分散液,將該溶液或分散液用作低折射率層用組合物,采用上述組合物形成涂膜,通過使上述涂膜固化,由此能夠得到低折射率層。此外,聚合引發(fā)劑、抗靜電劑、防眩劑等添加劑沒有特別限定,可以舉出公知物質(zhì)。在上述低折射率層中,作為低折射率劑,優(yōu)選使用"具有空隙的微粒"。"具有空隙的微粒"能夠在保持防眩層的層強(qiáng)度的同時(shí),降低其折射率。在本發(fā)明中,"具有空隙的微粒"是指如下微粒形成在微粒的內(nèi)部填充有氣體的結(jié)構(gòu)和/或含氣體的多孔質(zhì)結(jié)構(gòu)體,并且與微粒本身的折射率相比,折射率與氣體在微粒中的占有率成反比例地下降。并且,本發(fā)明中,還包括根據(jù)微粒的形態(tài)、結(jié)構(gòu)、凝聚狀態(tài)、微粒在覆膜內(nèi)部中的分散狀態(tài),能夠在內(nèi)部和/或表面的至少一部分形成納米多孔結(jié)構(gòu)的微粒。使用了該微粒的低折射率層能夠?qū)⒄凵渎收{(diào)節(jié)到1.301.45。作為具有空隙的無機(jī)系微粒,例如,可以舉出通過日本特開2001-233611號公報(bào)所記載的方法制備的二氧化硅微粒。也可以是通過曰本特開平7-133105、日本特開2002-79616號公報(bào)、日本特開2006-106714號公報(bào)等所記載的制法得到的二氧化硅微粒。具有空隙的二氧化硅微粒容易制造且自身的硬度高,因此與粘結(jié)劑混合來形成低折射率層時(shí),能夠提高低折射率層強(qiáng)度,并且能夠?qū)⒄凵渎收{(diào)節(jié)到1.20左右1.45左右的范圍內(nèi)。特別是,作為具有空隙的有機(jī)系微粒的具體例,可以優(yōu)選舉出使用日本特開2002-80503號公報(bào)中公開的技術(shù)制備的中空聚合物微粒。作為能夠在覆膜的內(nèi)部和/或表面的至少一部分形成納米多孔結(jié)構(gòu)的微粒,除了上面的二氧化硅微粒之外,還可以舉出緩釋材料、多孔質(zhì)微?;蛑锌瘴⒘5姆稚Ⅲw或凝聚體,所述緩釋材是為增大比表面積而制造的并且用于使填充用的柱和表面的多孔質(zhì)部吸附各種化學(xué)物質(zhì);所述多孔質(zhì)微粒用于固定催化劑;所述中空微粒的分散體或凝聚體用于包含絕熱材料、低介電材料。關(guān)于這種具體例,作為市售品,可以利用如下物質(zhì)從日本二氧化硅工業(yè)株式會社制造的商品名Nipsil、Nipgd中選擇多孔質(zhì)二氧化硅微粒的聚集體,從日產(chǎn)化學(xué)工業(yè)株式會社制造的具有二氧化硅微粒連接成鏈狀的結(jié)構(gòu)的膠態(tài)二氧化硅UP系列(商品名)中選擇本發(fā)明的優(yōu)選粒徑范圍內(nèi)的微粒。"具有空隙的微粒"的平均粒徑在5nm300nm,優(yōu)選下限為8nm以上且上限為100nm以下,更優(yōu)選下限為lOnm以上且上限為80nm以下。由于微粒的平均粒徑處于該范圍內(nèi),因而可以對低折射率層賦予優(yōu)異的透明性。此外,上述平均粒徑是通過動(dòng)態(tài)光散射法等方法測定的值。在上述低折射率層中,相對于100質(zhì)量份的樹脂,優(yōu)選"具有空隙的微粒"通常為0.1質(zhì)量份左右500質(zhì)量份左右、優(yōu)選為10質(zhì)量份左右200質(zhì)量份左右。作為上述溶劑,沒有特別限定,可以舉出例如在硬膜層用組合物中例示的物質(zhì),優(yōu)選甲基異丁基酮、環(huán)己酮、異丙醇(IPA)、正丁醇、叔丁醇、二乙基酮、PGME等。對于上述低折射率層用組合物的制備方法,只要能夠?qū)⒊煞志鶆虻鼗旌霞纯?,可以按照公知的方法?shí)施。例如,可以使用在形成硬膜層時(shí)使用的上述公知的裝置進(jìn)行混合。涂膜的形成方法可以采用公知的方法。例如,可以使用在形成硬膜層時(shí)使用的上述的各種方法。在形成低折射率層時(shí),將上述低折射率層形成用組合物的粘度設(shè)定為能夠得到良好涂布性的0.5cps(25°C)5cps(25°C),優(yōu)選設(shè)定為0.7cps(25。C)3cps(25。C)的范圍。這樣能夠?qū)崿F(xiàn)可見光線優(yōu)異的防反射膜,并且能夠形成均勻且沒有涂布不均的薄膜,而且能夠形成對基材的密合性特別優(yōu)異的低折射率層。得到的涂膜的固化方法根據(jù)組合物的內(nèi)容等適當(dāng)選擇即可。例如,紫外線固化型的情況下,通過對涂膜照射紫外線,使其固化即可。為了進(jìn)行固化處理而利用加熱手段的情況下,優(yōu)選在氟類樹脂組合物中添加熱聚合引發(fā)劑,該熱聚合引發(fā)劑通過加熱產(chǎn)生例如自由基,引發(fā)聚合性化合物聚合。低折射率層的膜厚(nm)dA,優(yōu)選滿足下式(I)。dA=mX/(4nA)(I)(上述式中,riA表示低折射率層的折射率;m表示正奇數(shù),優(yōu)選為1;X為波長,優(yōu)選為480580nm范圍內(nèi)的值)。并且,本發(fā)明中,從降低反射率的方面考慮,優(yōu)選低折射率層滿足下述數(shù)學(xué)式(n)。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage26</formula>(II)防污層防污層起到如下作用使得光學(xué)層積體的最表面上難以附著污漬(指紋、水性或油性的油墨類、鉛筆等),或者即使在附著了污漬時(shí),也能夠容易拭去。根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選方式,為防止在低折射率層的最表面上附著污漬,可以設(shè)置防污層,特別優(yōu)選在形成有低折射率層的透光性基材一方的面和相反的面這兩側(cè)設(shè)置防污層。通過形成防污層,能夠?qū)鈱W(xué)層積體(防反射用層積體)實(shí)現(xiàn)防污性和耐擦傷性的進(jìn)一步改善。即使在沒有低折射率層的情況下,也可以為防止最表面附著污漬,設(shè)置防污層。防污層通??梢杂珊蟹牢蹖佑脛┖蜆渲慕M合物形成。作為防污層用劑的具體例,可以舉出與分子中具有氟原子的電離放射線固化型樹脂組合物的相容性低并且難以添加到低折射率層中的氟類化合物和/或硅系化合物;與分子中具有氟原子的電離放射線固化型樹脂組合物和微粒具有相容性的氟類化合物和/或硅系化合物。這些可以使用公知或市售的產(chǎn)品。防污層例如可形成于硬膜層上。尤其是,優(yōu)選防污層形成為最表面。也可以通過例如對硬膜層本身賦予防污性能來代替防污層。光學(xué)層積體中的界面等本發(fā)明的光學(xué)層積體優(yōu)選實(shí)質(zhì)上不存在界面。此處,"(實(shí)質(zhì)上)不存在界面"包括如下情況l)兩個(gè)層面重疊,但實(shí)際上不存在界面;以及2)根據(jù)折射率判斷為在兩者的面上不存在界面。本發(fā)明的光學(xué)層積體優(yōu)選實(shí)質(zhì)上不存在界面。此處,"(實(shí)質(zhì)上)不存在界面"包括以下情況l)兩個(gè)層面重疊,但實(shí)際上不存在界面;以及2)根據(jù)折射率判斷為在兩者的面上不存在界面。作為"(實(shí)質(zhì)上)不存在界面"的具體基準(zhǔn),通過光學(xué)層積體的干涉條紋觀察進(jìn)行判斷。即,在光學(xué)層積體的背面粘貼黑色膠帶,在3波長熒光燈的照射下,從光學(xué)層積體之上進(jìn)行目視觀察。此時(shí),在能夠確認(rèn)到干涉條紋的情況下,另外通過激光顯微鏡觀察截面時(shí),可以確認(rèn)到界面,所以將這種情況認(rèn)定為"存在界面"。另一方面,在不能確認(rèn)到干涉條紋的情況下,或干涉條紋非常弱的情況下,另外通過激光顯微鏡觀察截面時(shí),呈現(xiàn)出看不到界面或只能看到非常模糊的界面的狀態(tài),所以將這種情況認(rèn)定為"實(shí)質(zhì)上不存在界面"。此外,激光顯微鏡獲取來自各界面的反射光,而能夠非破壞性地觀察截面。這僅在各層上存在折射率差的情況下才觀察到界面,所以在觀察不到界面的情況下,認(rèn)為折射率方面沒有差異,沒有界面。并且,本發(fā)明的光學(xué)層積體優(yōu)選用作防反射用層積體。偏振片在偏振元件表面上設(shè)置本發(fā)明的光學(xué)層積體,并使偏振元件表面與該光學(xué)層積體上存在硬膜層的面相反的面接觸,由此得到偏振片,所得到的偏振片也是本發(fā)明之一。作為上述偏振元件沒有特別限定,例如可以使用通過碘等進(jìn)行染色、拉伸的聚乙烯醇膜、聚乙烯醇縮甲醛膜、聚乙烯醇縮乙醛膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系皂化膜等。在上述偏振元件和本發(fā)明的光學(xué)層積體的層積處理中,優(yōu)選對透光性基材(優(yōu)選三乙酸纖維素膜)進(jìn)行皂化處理。通過皂化處理,粘結(jié)性變得良好,還能夠得到抗靜電效果。其他抗靜電層在需要更加優(yōu)異的抗靜電性能的情況下,本發(fā)明的光學(xué)層積體中,除了上述抗靜電層之外,還可以設(shè)置至少1層具有抗靜電性能的層。作為具有上述抗靜電性能的層,也可以是上述抗靜電層以外的新的抗靜電層,但從減少工序方面考慮,優(yōu)選是對其他層賦予抗靜電性能。即,在本發(fā)明的光學(xué)層積體中,優(yōu)選選自由任意形成的防眩層、低折射率層和防污層組成的組中的至少1層和硬膜層中的至少1層具有抗靜電性能??轨o電性能例如可以通過混合上述的抗靜電劑來賦予。此外,本發(fā)明的偏振片上也可以設(shè)置至少1層除構(gòu)成上述光學(xué)層積體的抗靜電層以外的抗靜電層。偏振片有時(shí)需要解決由于制造步驟中產(chǎn)生靜電而導(dǎo)致LCD面板等的電路被破壞等問題。在該情況下,為了解決這樣的問題,優(yōu)選將抗靜電層設(shè)置在沒有設(shè)置上述光學(xué)層積體的一側(cè)的偏振元件表面上。上述偏振片中的抗靜電層只要具有抗靜電性能即可,沒有特別限定,可以與上述光學(xué)層積體中的抗靜電層同樣地形成。作為抗靜電劑,優(yōu)選使用聚乙炔、聚苯胺、聚噻吩、聚吡咯、聚苯硫醚、聚(l,6-庚二烯)、聚亞聯(lián)苯基(聚對亞苯基)、聚對苯硫醚、聚苯乙炔、聚(2,5-噻吩)或它們的衍生物等導(dǎo)電性高分子。上述偏振片中的抗靜電層優(yōu)選厚度(干燥厚度)為10nm左右500nm左右,特別優(yōu)選為50nm200nm。上述抗靜電層的厚度是利用電子顯微鏡(SEM、TEM、STEM)觀察界面來測定得到的值。作為上述偏振片中的抗靜電層,如上所述,可以是抗靜電層單層,也可以是具有抗靜電層的光學(xué)層積體。作為上述光學(xué)層積體,只要具有抗靜電層即可,沒有特別的限制,但優(yōu)選使用本發(fā)明的光學(xué)層積體。作為具體例,在透光性基材上形成由導(dǎo)電性高分子構(gòu)成的抗靜電層1,在其上形成6(im的硬膜層1,從而制作出光學(xué)層積體,然后在與該透光性基材的形成了這兩個(gè)層的面相反的面上形成由導(dǎo)電性高分子構(gòu)成的抗靜電層2,進(jìn)一歩形成比上述硬膜層1薄的2pm的硬膜層2,從而制作出光學(xué)層積體l?;蛘?,同樣地操作直到在透光性基材上形成抗靜電層1和硬膜層1,在該基材的反面上層積分散有作為導(dǎo)電性超微粒的ATO的硬膜油墨作為抗靜電層3,從而制作出光學(xué)層積體2。在光學(xué)層積體l的情況中,利用丙烯酸系粘合劑等將具有抗靜電層2的面粘貼到偏振元件面上;在光學(xué)層積體2的情況中,利用丙烯酸系粘合劑等將具有抗靜電層3的面粘貼到偏振元件面上。圖像顯示裝置還可以制作在最表面設(shè)置上述光學(xué)層積體或上述偏振片而成的圖像顯示裝置。所述圖像顯示裝置可以是LCD等非自發(fā)光型圖像顯示裝置,也可以是PDP、FED、ELD(有機(jī)EL、無機(jī)EL)、CRT等自發(fā)光型圖像顯示裝置。作為上述非自發(fā)發(fā)光型的代表例的LCD是設(shè)置透過性顯示體和從背面照射上述透過性顯示體的光源裝置而形成的。上述圖像顯示裝置為LCD的情況下,在該透過性顯示體的表面形成本發(fā)明的光學(xué)層積體或上述的偏振片來構(gòu)成圖像顯示裝置。在具有上述光學(xué)層積體的液晶顯示裝置的情況下,光源裝置的光源從光學(xué)層積體的下側(cè)進(jìn)行照射。此外,在STN型液晶顯示裝置中,液晶顯示元件和偏振片之間可插入有相位差板。根據(jù)需要,可以在該液晶顯示裝置的各層間設(shè)置粘結(jié)劑層。作為上述自發(fā)光型圖像顯示裝置的PDP具備表面玻璃基板(在表面形成電極)和背面玻璃基板(在表面形成電極和微小的槽,在槽內(nèi)形成紅、綠、藍(lán)的熒光體層)來構(gòu)成,該背面玻璃基板與該表面玻璃基板對置,其間封入放電氣體。上述圖像顯示裝置為PDP的情況下,還有在上述表面玻璃基板的表面或其前面板(玻璃基板或膜基板)上設(shè)置上述的光學(xué)層積體的裝置。上述自發(fā)光型圖像顯示裝置可以是ELD裝置或CRT等圖像顯示裝置,ELD裝置是將施加電壓時(shí)發(fā)光的硫化鋅、二胺類物質(zhì)將發(fā)光體蒸鍍到玻璃基板上,控制施加到基板上的電壓來進(jìn)行顯示;CRT是將電信號轉(zhuǎn)換成光,產(chǎn)生人的眼睛能夠看到的圖像。該情況下,在上述的各顯示裝置的最表面或其前面板的表面上設(shè)置上述的光學(xué)層積體。無論在哪一種的情況下,上述圖像顯示裝置均能夠用于電視、計(jì)算機(jī)、字符處理器等顯示屏的顯示。特別是上述圖像顯示裝置能夠適合用于CRT、液晶面板、PDP、ELD、FED等高清晰圖像用顯示屏的表面。發(fā)明效果本發(fā)明的光學(xué)層積體能夠維持透明性,穩(wěn)定地發(fā)揮抗靜電性能,還能夠抑制制造時(shí)在涂敷機(jī)等上產(chǎn)生銹。因此,本發(fā)明的光學(xué)層積體可以適合地用于陰極線管顯示裝置(CRT)、液晶顯示屏(LCD)、等離子體顯示屏(PDP)、電致發(fā)光顯示屏(ELD)等。圖1是示出用TEM觀察在實(shí)施例1中制作的光學(xué)層積體的截面的結(jié)果的圖。圖2是示出用TEM觀察在比較例3中制作的光學(xué)層積體的截面的結(jié)果的圖。具體實(shí)施例方式下面示出實(shí)施例和比較例,進(jìn)一步具體說明本發(fā)明的特征。但是,本發(fā)明的范圍不限于實(shí)施例。<制備例1>硬膜層形成用組合物1將下述成分均勻混合分散,制備硬膜層形成用組合物1。-季戊四醇三丙烯酸酯(日本化藥制造,商品名"PET30"):100質(zhì)量份-甲苯43質(zhì)量份-流平劑(大日本油墨化學(xué)工業(yè)制造,商品名"MCF-350-5"):2質(zhì)量份-聚合引發(fā)劑(汽巴精化制造,商品名"IRGACURE184"):4質(zhì)量份硬膜層形成用組合物2將下述成分均勻混合分散,制備硬膜層形成用組合物2。-季戊四醇三丙烯酸酯(日本化藥制造,商品名"PET30"):100質(zhì)量份-甲乙酮43質(zhì)量份-流平劑(大日本油墨化學(xué)工業(yè)制造,商品名"MCF-350-5"):2質(zhì)量份-聚合引發(fā)劑(汽巴精化制造,商品名"IRGACURE184"):4質(zhì)量份硬膜層形成用組合物3使用珠磨機(jī),將下述成分均勻混合分散,制備硬膜層形成用組合物3。-ATO超微粒(三菱原料株式會社制造,平均l次粒徑30nm):7質(zhì)量份-季戊四醇三丙烯酸酯樹脂(日本化藥株式會社制造,PET-30):100質(zhì)量份-分散劑(味之素化學(xué)株式會社制造,AJISPERPN-411):1.4質(zhì)量份-異丙醇60質(zhì)量份-甲乙酮40質(zhì)量份,聚合引發(fā)劑(汽巴精化制造,商品名"IRGACURE184"):4質(zhì)量份防眩層形成用組合物1將20.96質(zhì)量份的作為紫外線固化型樹脂的季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(日本化藥株式會社制造,折射率1.51)、8.02質(zhì)量份的作為紫外線固化型樹脂的DPHA(日本化藥株式會社制造,折射率1.51)、3.10質(zhì)量份的丙烯酸系聚合物(MitsubishiRayon制造,分子量75,000)、1.89質(zhì)量份的作為光固化引發(fā)劑的IRGACURE184(汽巴精化制造)、0.32質(zhì)量份的作為光固化引發(fā)劑的IRGACURE907(汽巴精化制造)、4.81質(zhì)量份的作為透光性第一微粒的苯乙烯微珠(綜研化學(xué)株式會社制造,粒徑5.0!am,折射率1.60)、2.89質(zhì)量份的作為透光性第二微粒的三聚氰胺微珠(日本觸媒株式會社制造,粒徑1.8pm,折射率1.68)、0.013質(zhì)量份的有機(jī)硅系流平劑10-28(大日精化株式會社制造)、46.40質(zhì)量份的甲苯以及11.60質(zhì)量份的環(huán)己酮充分混合,調(diào)制成組合物。用孔徑為30pm的聚丙烯制過濾器對該組合物進(jìn)行過濾,制備出防眩層用組合物l。防眩層形成用組合物2防眩層用組合物.季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(折射率1.51):38質(zhì)量份31-乙酸丙酸纖維素(分子量50,000):0.47質(zhì)量份光固化引發(fā)劑■IRGACURE127(汽巴精化株式會社制造)1.98質(zhì)量份增感劑■SpeedcureMBB(LAMBSONFineChemicals制造)0.33質(zhì)量份微粒-無定形二氧化硅(平均粒徑1.4pm,采用硅烷偶聯(lián)劑進(jìn)行了表面疏水處理)0.20質(zhì)量份-無定形二氧化硅(平均粒徑1.9pm,采用硅烷偶聯(lián)劑進(jìn)行了表面疏水處理)3.46質(zhì)量份-有機(jī)硅系流平劑0.072質(zhì)量份-甲苯33質(zhì)量份-甲乙酮34質(zhì)量份導(dǎo)電性組合物-ATO超微粒(三菱原料株式會社制造,平均l次粒徑30nm):2質(zhì)量份-分散劑(味之素化學(xué)株式會社制造,AJISPERPN-411):0.2質(zhì)量份-異丙醇4質(zhì)量份利用珠磨機(jī)使上述材料的導(dǎo)電性組合物良好地分散之后,與防眩層組合物一起混合,利用孔徑為30(am的聚丙烯制過濾器對該組合物進(jìn)行過濾,制備出防眩層用組合物2??轨o電層形成用組合物1將下述成分均勻混合分散,制備抗靜電層形成用組合物l?!鯝TO分散液(日本《A乂'7夕7株式會社制造,商品名"PdtronC-4456S-7"):25質(zhì)量份-粘結(jié)劑(SatomarCompany制造,商品名"SR-238F"):5.5質(zhì)量份-聚合引發(fā)劑(汽巴精化制造,商品名"IRGACURE184"):0.59質(zhì)量份-甲基異丁基酮59質(zhì)量份-環(huán)己酮26質(zhì)量份抗靜電層形成用組合物2作為抗靜電層形成用組合物2,使用含有聚噻吩的熱干燥型樹脂組合物(IdemitsuTechnofme株式會社制造,商品名"ELCoatTALP2010")。該組合物含有作為抗靜電劑的聚(3,4-亞乙基二氧噻吩)、作為熱塑性樹脂粘結(jié)劑的MMA(甲基丙烯酸甲酯)-BA(丙烯酸丁酯)-2-HEMA(甲基丙烯酸-2-羥乙酉旨)共聚物??轨o電層形成用組合物3作為抗靜電層形成用組合物3,使用含有聚噻吩的紫外線固化型樹脂組合物(IdemitsuTechnofme株式會社制造,商品名"ELCoatUVH515")。該組合物含有作為抗靜電劑的聚(3,4-亞乙基二氧噻吩)、作為樹脂粘結(jié)劑的丙烯酸系UV固化型樹脂。<實(shí)施例1〉準(zhǔn)備透明基材(厚度80pm,三乙酸纖維素樹脂膜(富士膠片公司制造,產(chǎn)品名"TF80UL")),使用繞線型涂布棒在膜的單面上涂布抗靜電層用組合物2,在溫度5(TC的熱爐中保持30秒,使涂膜中的溶劑蒸發(fā),使涂膜固化,形成厚度約為100nm(干燥后)的透明抗靜電層。然后,在抗靜電層上涂布硬膜層形成用組合物l,在溫度7(TC的熱爐中保持30秒,使涂膜中的溶劑蒸發(fā)之后,照射紫外線,直到累積光量達(dá)到46mj以使涂膜固化,形成厚度10pm(干燥時(shí))的硬膜層,制作抗靜電光學(xué)層積體。利用透過型電子顯微鏡(TEM)(日本電子制造的"JEM-200X型"),以IO萬倍對得到的層積體的截面進(jìn)行觀察。其結(jié)果見圖1。由圖1也可知,硬膜層的截面(縱向條紋圖案)通過聚噻吩層(抗靜電層黑色層),還發(fā)展(滲透)到基材的一部分。<實(shí)施例2>使用硬膜層形成用組合物2替代硬膜層形成用組合物1,除此之外,采用與實(shí)施例1相同的方式,制作抗靜電光學(xué)層積體。采用與實(shí)施例1相同的方式對所得到的層積體的截面進(jìn)行觀察,結(jié)果與實(shí)施例1相同,確認(rèn)到在基材層的截面上存在硬膜層的截面紋樣,即存在被認(rèn)為是硬膜層組成分滲透在基材中的部分。(抗靜電層的干燥后的厚度為100nm)。<實(shí)施例3>使用防眩層形成用組合物1替代硬膜層形成用組合物1,將固化膜厚設(shè)定為6,,除此之外,采用與實(shí)施例1相同的方式,制作抗靜電光學(xué)層積體。(抗靜電層的干燥后的厚度為100nm)。<比較例1〉準(zhǔn)備透明基材(厚度80pm,三乙酸纖維素樹脂膜(富士膠片公司制造,產(chǎn)品名"TF80UL")),使用繞線型涂布棒,在膜的單面上涂布抗靜電層形成用組合物1,在溫度7(TC的熱爐中保持30秒,使涂膜中的溶劑蒸發(fā),然后為了防止氧抑制而進(jìn)行氮?dú)庵脫Q之后,照射紫外線,直到累積光量達(dá)到98mj,使涂膜固化,形成厚度為100nm(干燥時(shí))的透明抗靜電層。然后,在抗靜電層上涂布硬膜層形成用組合物1,在溫度7(TC的熱爐中保持30秒,使涂膜中的溶劑蒸發(fā)之后,照射紫外線,直到累積光量達(dá)到46mj以使涂膜固化,形成厚度為1(^m(干燥時(shí))的硬膜層,制作抗靜電光學(xué)層積體。采用與實(shí)施例1相同的方式,對所得到的層積體的截面進(jìn)行觀察,觀察到的結(jié)果見圖2。在圖2中,確認(rèn)到各層的截面紋樣按照層構(gòu)成的順序存在。即,在基材的截面紋樣上,沒有確認(rèn)到除該相以外的截面紋樣。并且,由于使用超微粒分散型抗靜電組合物,所以霧度高,全光線透過率也較低,此外在與聚噻吩相同的膜厚(100nm)的情況下,飽和充電電壓也較差,未能得到所期望的光學(xué)層積體。<比較例2>使用抗靜電層形成用組合物3替代抗靜電層形成用組合物1,形成約100nm的固化膜,使用了硬膜層形成用組合物2,除此之外,采用與比較例1相同的方式,制作出層積體。采用與實(shí)施例1相同的方式對所得到的層積體的截面進(jìn)行觀察,結(jié)果得到的層積體的截面與圖2相同。即,由于粘結(jié)劑為紫外線固化型,所以未能在基材的截面紋樣上確認(rèn)到硬膜層的截面紋樣的存在,密合性不良。(抗靜電層的干燥后的厚度為lOOnm)。<比較例3>使用抗靜電層形成組合物3,使用硬膜層形成用組合物l,除此之外采用與比較例2相同的方式,制作出層積體。采用與實(shí)施例1相同的方式對所得到的層積體的截面進(jìn)行觀察,結(jié)果所得到的層積體的截面與圖2相同。g卩,由于粘結(jié)劑為紫外線固化型,所以未能在基材的截面紋樣上確認(rèn)到硬膜層的截面紋樣的存在,密合性不良。(抗靜電層的干燥后的厚度為100nm)。<比較例4〉使用防眩層形成用組合物1替代硬膜層形成用組合物1,將固化膜厚形成為6pm,除此之外,采用與比較例1相同的方式,制作層積體。其結(jié)果,由于除了抗靜電組合物之外,使用與實(shí)施例3相同的防眩性硬膜,所以應(yīng)該得到相同的性能,但由于使用超微粒分散型抗靜電組合物,所以霧度高,全光線透過率也低,未能得到所期望的光學(xué)層積體。(抗靜電層的干燥后的厚度為100nm)。<實(shí)施例4>使用硬膜層形成用組合物3替代硬膜層形成用組合物1,除此之外,采用與實(shí)施例1相同的方式,制作出抗靜電光學(xué)層積體。采用與實(shí)施例1相同的方式對所得到的層積體的截面進(jìn)行觀察,結(jié)果與實(shí)施例1相同,確認(rèn)到在基材層的截面上存在硬膜層的截面紋樣,即確認(rèn)到存在被認(rèn)為是硬膜層組成分滲透在基材中的部分。(抗靜電層的干燥后的厚度為100nm)。<實(shí)施例5〉使用防眩層形成用組合物2替代硬膜層形成用組合物1,除此之外,采用與實(shí)施例1相同的方式,制作出抗靜電光學(xué)層積體。采用與實(shí)施例1相同的方式對所得到的層積體的截面進(jìn)行觀察,結(jié)果與實(shí)施例1相同,確認(rèn)到在基材層的截面上存在硬膜層的截面紋樣,即確認(rèn)到存在被認(rèn)為是硬膜層組成分滲透在基材中的部分。(抗靜電層的干燥后的厚度為畫nm)。<試驗(yàn)例1〉對實(shí)施例和比較例中得到的光學(xué)層積體分別進(jìn)行下述的評價(jià)試驗(yàn)。其結(jié)果示于表l。<table>tableseeoriginaldocumentpage36</column></row><table>*實(shí)施例4AS類型主要的AS類型為聚(3,4-亞乙基二氧噻吩),除此之外,在HC層中還含有ATO。**實(shí)施例5AS類型主要的AS類型為聚(3,4-亞乙基二氧噻吩),除此之外,在AG層中還含有ATO。此外,表l中的各物性采用下述方法測定。-全光線透過率(《118&7361):全光線透過率(%)使用霧度計(jì)(村上色彩技術(shù)研究所制造,產(chǎn)品編號HM-150)來測定。全光線透過率對于透明硬膜(ClearHardCoat)和具有防眩性的硬膜均優(yōu)選在85%以上。本發(fā)明中,在透明硬膜的情況下,可以達(dá)到約90%以上。-霧值(JISK7136):霧值(%)使用霧度計(jì)(村上色彩技術(shù)研究所制造,產(chǎn)品編號HM-150)來測定。硬膜層為不含用于防眩層的微珠等的透明硬膜的情況下,0.3以下的霧值(%)為合格。飽和充電電壓利用靜電衰減檢測儀(SHISHIDOELECTROSTATIC:H-OllO),在距離膜(4cmX4cm見方)20mm的位置,在施加電壓+10kV、25±2°C、50±10%RH條件下進(jìn)行測定,測定這種情況下的飽和充電電壓。在沒有抗靜電層的通常硬膜的情況下,飽和充電電壓為2.5kV左右。在本發(fā)明中,飽和充電電壓優(yōu)選小于2.0kV(尤其是1.9kV以下)。涂布密合性(JISK5600):放入lmm見方的方格中,使用二千"'>制造的工業(yè)用24mmCellotape(注冊商標(biāo)),進(jìn)行1次剝離,以%表示殘留的格(7^目)的數(shù)量。該試驗(yàn)中,100/100為合格,除此之外的數(shù)值為不合格。抗靜電層(AS層)的粘結(jié)劑為紫外線固化型的情況下,全部不合格,即使膜厚超過優(yōu)選范圍,也不合格。-重涂時(shí)(再涂)的外觀作為抗靜電層的膜強(qiáng)度基準(zhǔn),目視確認(rèn)硬膜層形成用組合物或防眩層形成用組合物涂布后的膜,目視確認(rèn)到重涂得到的抗靜電層的膜剝離(異物)。在膜強(qiáng)度較弱的情況下,通過涂布產(chǎn)生膜剝離,所以能夠容易地用肉眼確認(rèn)。涂膜密合力對抗靜電層的外觀影響很大。外觀和密合性對于顯示屏顯示畫面的美觀來說,也是很重要的性能。參考例1(硬膜層/AS層/TAC/粘結(jié)層/偏振元件/粘結(jié)層/TAC/AS層/透明粘合材/保護(hù)膜(附有透明粘合材))準(zhǔn)備透明基材(厚度80jam,三乙酸纖維素樹脂膜(富士膠片公司制造,產(chǎn)品名"TF80UL"),使用繞線型的涂布棒在膜的單面上涂布抗靜電用組合物2,在溫度5(TC的熱爐中保持30秒,使涂膜中的溶劑蒸發(fā),將涂膜固化,形成厚度為約100nm(干燥后)的透明抗靜電層。然后,在抗靜電層上涂布硬膜層形成用組合物l,在溫度7(TC的熱爐中保持30秒,使涂膜中的溶劑蒸發(fā),然后,照射紫外線,累積光量到46mJ/m2,使涂膜固化,形成厚度IO,(干燥時(shí))的硬膜層,制作出抗靜電光學(xué)層積體。并且,采用相同的方式,在三乙酸纖維素樹脂膜的單面上涂布抗靜電層組合物2,并使其干燥,此外,在形成的抗靜電層上粘貼透明粘合材(例如,日立化成工業(yè)株式會社)的DA-1000等兩面附有保護(hù)膜的光學(xué)膜用丙烯酸系粘合劑等),形成抗靜電層涂布體。將上述抗靜電光學(xué)層積體在4(TC的氫氧化鉀水溶液(濃度2mol/L)中浸漬5分鐘,進(jìn)行皂化處理,用純水清洗之后,在7(TC下干燥5分鐘。并且,采用相同的方式,對上述抗靜電涂布體進(jìn)行皂化處理,進(jìn)行干燥。在進(jìn)行了皂化處理的上述2片三乙酸纖維素樹脂膜面上涂布由7%的聚乙烯醇系水溶液構(gòu)成的粘結(jié)劑之后,以夾持聚乙烯醇系偏振膜的方式貼合,制作出偏振片1。參考例2(具有3層AS層的液晶顯示裝置例)偏振片1硬膜層/AS層/TAC/粘結(jié)層/偏振元件/粘結(jié)層/TAC/AS層/透明粘合材/保護(hù)膜(附有透明粘合材)偏振片2保護(hù)膜(附有透明粘合材)/透明粘合材/AS層/TAC/粘結(jié)層/偏振元件/粘結(jié)層/TAC采用與參考例1相同的方式,制作偏振片1。接著,采用與參考例1相同的方式,形成抗靜電層涂布體之后,對所得到的抗靜電層涂布體和未處理的三乙酸纖維素樹脂膜進(jìn)行皂化處理,然后,涂布由7%的聚乙烯醇系水溶液構(gòu)成的粘結(jié)劑,以夾持聚乙烯醇系偏振膜的方式貼合,制作出偏振片2。最后,用剝離了保護(hù)膜的透明粘合材,將偏振片1和偏振片2以夾持液晶盒的方式貼合,制作出液晶顯示裝置l。不會打亂液晶層,能夠得到良好的液晶顯示裝置。參考例3(具有1層AS層的偏振片制造例)(硬膜層/AS層/TAC/粘結(jié)層/偏振元件/粘結(jié)層/TAC/透明粘合材/保護(hù)膜(附有透明粘合材))除了沒有在抗靜電層涂布體上形成抗靜電層之外,采用與參考例1相同的方式,形成偏振片3。參考例4(具有l(wèi)層AS層的偏振片制造例)(硬膜層/TAC/粘結(jié)層/偏振元件/粘結(jié)層/TAC/AS層/硬膜層/透明粘合材/保護(hù)膜(附有透明粘合材))沒有在朝向圖像顯示裝置觀察側(cè)的TAC表面上形成抗靜電層,除此之外,采用與參考例l相同的方式,制作出光學(xué)層積體。采用與參考例1的抗靜電光學(xué)層積體相同的方式,在夾持偏振元件的另一TAC上形成AS層和硬膜層,構(gòu)成抗靜電光學(xué)層積體。但是,與參考例1不同,將硬膜層的膜厚(干燥時(shí))設(shè)定為1.5(mi。通過這樣形成較薄的硬膜層,能夠提高LCD面板的抗靜電性能。除此之外,與參考例l相同的方式,形成偏振片4。參考例5(具有1層AS層的液晶顯示裝置例)偏振片3硬膜層/AS層/TAC/粘結(jié)層/偏振元件/粘結(jié)層/TAC/透明粘合材/保護(hù)膜(附有透明粘合材)偏振片5保護(hù)膜(附有透明粘合材的)/透明粘合材/TAC/粘結(jié)層/偏振元件/粘結(jié)層/TAC采用與參考例3相同的方式,制作偏振片3。接著,對粘貼了透明粘合材的三乙酸纖維素樹脂膜和未處理三乙酸纖維素樹脂膜進(jìn)行皂化處理之后,涂布由7%的聚乙烯醇系水溶液構(gòu)成的粘結(jié)劑,以夾持聚乙烯醇系偏振膜的方式貼合,制作出偏振片5。最后,用剝離了保護(hù)膜的透明粘合材,將偏振片3和偏振片5以夾持液晶盒的方式貼合,制作出液晶顯示裝置2。與參考例2記載的具有3層AS層的液晶顯示裝置1相比可知,AS層為1層的情況下,抗靜電性能下降,并且可知AS層多的裝置得到更優(yōu)異的抗靜電性能。上述的偏振片、液晶顯示裝置在制作過程中均未在各構(gòu)成層間發(fā)生剝離等,能夠確保高密合性。用聚酯布對偏振片14進(jìn)行20次反復(fù)摩擦,觀察使煙灰接近摩擦后的面時(shí)的表面狀態(tài)。根據(jù)觀察結(jié)果,按照下述基準(zhǔn)評價(jià)防灰塵附著性(抗靜電性)。評價(jià)〇沒有煙灰附著,防灰塵附著效果充分評價(jià)X:有煙灰附著,防灰塵附著效果不足其結(jié)果列于表2。表2<table>tableseeoriginaldocumentpage39</column></row><table>結(jié)果,具有光學(xué)層積體所含有的抗靜電層以外的抗靜電層的偏振片顯示出特別優(yōu)異的防灰塵附著效果。工業(yè)實(shí)用性通過本發(fā)明,能夠得到兼?zhèn)鋬?yōu)異的抗靜電性能和密合性的光學(xué)層積體及其制造方法。本發(fā)明的光學(xué)層積體能夠適合地應(yīng)用于陰極線管顯示裝置(CRT)、液晶顯示屏(LCD)、等離子體顯示屏(PDP)、電致發(fā)光顯示屏(ELD)、FED、ELD等。權(quán)利要求1、一種光學(xué)層積體,該光學(xué)層積體是通過在透光性基材上依次形成抗靜電層和硬膜層而構(gòu)成的光學(xué)層積體,其特征在于,在所述層積體的截面外觀上,所述硬膜層的截面紋樣(截面圖案)存在于從硬膜層經(jīng)由抗靜電層到透光性基材中。2、根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)層積體,其中,所述抗靜電層使用含有抗靜電劑和熱塑性樹脂的熱干燥型組合物來形成。3、根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)層積體,其中,所述抗靜電劑是選自聚乙炔、聚苯胺、聚噻吩、聚吡咯、聚對苯硫醚、聚(l,6-庚二烯)、聚亞聯(lián)苯基(聚對亞苯基)、聚對苯硫醚、聚苯乙炔、聚呋喃、聚(3,4-亞乙基二氧噻吩)、聚異硫茚、多并苯和它們的衍生物中的至少一種導(dǎo)電性高分子。4、根據(jù)權(quán)利要求l、2或3所述的光學(xué)層積體,其中,所述抗靜電層的厚度為10nm500nm。5、根據(jù)權(quán)利要求2、3或4所述的光學(xué)層積體,其中,所述硬膜層由含有樹脂和溶劑的硬膜層形成用組合物形成,所述溶劑對抗靜電層的熱塑性樹脂具有溶解性。6、根據(jù)權(quán)利要求l、2、3、4或5所述的光學(xué)層積體,其中,在所述光學(xué)層積體中實(shí)質(zhì)上不存在干涉條紋。7、根據(jù)權(quán)利要求l、2、3、4、5或6所述的光學(xué)層積體,其中,在所述硬膜層上形成選自由防眩層、低折射率層和防污層組成的組中的至少1層。8、根據(jù)權(quán)利要求l、2、3、4、5、6或7所述的光學(xué)層積體,其中,所述選自防眩層、低折射率層和防污層組成的組中的至少1層和所述硬膜層中的至少1層具有抗靜電性能。9、根據(jù)權(quán)利要求l、2、3、4、5、6、7或8所述的光學(xué)層積體,其中,所述光學(xué)層積體用作防反射用層積體。10、一種偏振片,該偏振片是具備偏振元件的偏振片,其特征在于,所述偏振片在偏振元件表面上設(shè)有權(quán)利要求1、2、3、4、5、6、7或8所述的光學(xué)層積體。11、根據(jù)權(quán)利要求10所述的偏振片,其中,所述偏振片具有至少l層除光學(xué)層積體所含有的抗靜電層以外的抗靜電層。12、一種光學(xué)層積體的制造方法,其中,在透光性基材上依次形成抗靜電層和硬膜層,從而形成所述光學(xué)層積體,所述方法的特征在于,所述抗靜電層是使用含有抗靜電劑和熱塑性樹脂的熱干燥型組合物而形成的,所述硬膜層由含有樹脂和溶劑的硬膜層形成用組合物形成,所述溶劑對所述抗靜電層的所述熱塑性樹脂具有溶解性。全文摘要本發(fā)明提供光學(xué)層積體和光學(xué)層積體的制造方法,所述光學(xué)層積體兼?zhèn)鋬?yōu)異的抗靜電性能和密合性。該光學(xué)層積體通過在透光性基材上依次形成抗靜電層和硬膜層而構(gòu)成,在上述層積體的截面外觀上,上述硬膜層的截面紋樣存在于從硬膜層經(jīng)由抗靜電層到透光性基材中。文檔編號B32B27/00GK101410247SQ200780011公開日2009年4月15日申請日期2007年3月30日優(yōu)先權(quán)日2006年3月31日發(fā)明者中島正隆,伊藤潔,木下陽子申請人:大日本印刷株式會社
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