專利名稱：電磁波屏蔽用片的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于屏蔽(也叫抑制)電磁波的片，更詳細講，涉及配置在CRT、PDP等顯示器的正面，屏蔽由該顯示器發(fā)生的電磁波的片。
背景技術(shù)：
(技術(shù)概要)近年來伴隨電氣電子設備的功能的高度化和利用的增加，電磁噪聲干擾(EMI)增加。電磁波噪聲大致區(qū)分有傳導噪聲和輻射噪聲。
去除傳導噪聲的方法有使用噪聲濾波器等的方法。去除輻射噪聲的方法有為了將空間電磁絕緣而利用金屬的框體、或在電路板間插入金屬板、用金屬箔卷包電纜等的方法。這些方法在電路或電源區(qū)(block)的電磁波屏蔽上有效果?？墒?，這些構(gòu)件由于不透明，因此不適合于從CRT和等離子顯示面板(叫做PDP)等的顯示器的正面發(fā)生的電磁波的屏蔽。
等離子顯示面板是具有數(shù)據(jù)電極和熒光層的玻璃和具有透明電極的玻璃的組合體。當這樣的等離子顯示面板工作時，電磁波、近紅外線及熱大量發(fā)生。
通常，為了屏蔽電磁波，在等離子顯示面板的正面設置正面板。作為從顯示器正面發(fā)生的電磁波的屏蔽性，就30MHz-1GHz的電磁波而言，30dB或以上的功能是必要的。
另外，從顯示器正面發(fā)生的波長800-1100nm的近紅外線也能使其他的VTR等設備誤工作。因此，近紅外線也需要與電磁波同樣地屏蔽。
此外，為了易視認顯示器上所顯示的圖象，電磁波屏蔽用的正面板(片)，難以看到金屬網(wǎng)的線條部，還沒有網(wǎng)格的雜亂性、即具有適度的透明性(可見光透過性、可見光透過率)是必要的。
此外，等離子顯示面板一般地以大型畫面為特征。因此，電磁波屏蔽用片的大小(外形尺寸)例如37型竟有621×831mm，42型竟有983×583mm，再大型的尺寸也有。因此，從電磁波屏蔽用片的制造到向顯示器的組裝的各工序中，接地用框部和網(wǎng)部的邊界易斷線，即操作適性極為不好。
(現(xiàn)有技術(shù))對電磁波屏蔽用的正面板(片)追求電磁波屏蔽性、適度的透明性(可見光透過率)、和優(yōu)異的操作適性。
為了提高顯示圖象的視認性，特開平5-283889號公報公開了一種電磁波屏蔽材料，其包含基板、透明粘固層和網(wǎng)格圖案狀的化學鍍層，通過化學鍍，化學鍍層下的透明粘固層變成黑色圖案部。
另外，特開昭61-15480號公報公開了在電磁波屏蔽片的金屬網(wǎng)表面形成氧化銅被膜，抑制外光的反射的方法。
另外，特開平09-293989號公報公開了采用光刻膠法形成電磁波屏蔽片的金屬網(wǎng)時使用的黑色抗蝕劑，將網(wǎng)格開孔后使其原樣不動地殘存，使網(wǎng)格的線條部變成黑色的方法。
此外，特開平10-335885號公報公開了將用光刻法在銅箔上形成幾何學圖形的帶銅箔的塑料膜積層在塑料板上的電磁波屏蔽構(gòu)成體。
使用網(wǎng)狀金屬層的上述任何方法，都是金屬網(wǎng)的線寬以恒定為目標而作成。可是，實際上網(wǎng)部和接地用框部的邊界部分的網(wǎng)及線的雜亂的發(fā)生，特別是在運輸時難以避免。另外，網(wǎng)部和接地用框部的邊界部分，剛度極端不連續(xù)地變化。因此，在從電磁波屏蔽用片的制造工序到向顯示器的裝配、組合的各工序中，由于集中于該邊界部分的應力的作用而能發(fā)生彎曲或斷線，即操作適性極為不好。因此存在浪費高價部件的情況很多這一缺點。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是為消除這樣的問題而完成的。其目的是提供一種電磁波屏蔽用片，其配置在CRT、PDP等顯示器的正面，屏蔽從顯示器發(fā)生的電磁波，另一方面，沒有網(wǎng)格的雜亂，能維持顯示圖象的良好的視認性，并且即使是大型，在從制造到組裝的全部工序中也不發(fā)生網(wǎng)格線條的折斷等的不良，操作適性優(yōu)異。
本發(fā)明是一種電磁波屏蔽用片，其特征在于，具備透明基材、和積層在上述透明基材的一個面上的金屬層，上述金屬層具有網(wǎng)狀的網(wǎng)部、包圍上述網(wǎng)部的網(wǎng)狀的網(wǎng)外周部、和包圍上述網(wǎng)外周部的接地用框部，構(gòu)成上述網(wǎng)外周部的網(wǎng)格的線條的線寬度從網(wǎng)部向接地用框部逐漸加寬。
本發(fā)明的電磁波屏蔽用片，配置在CRT、PDP等顯示器的正面時，屏蔽從該顯示器發(fā)生的電磁波，另一方面，沒有網(wǎng)的雜亂，能維持顯示圖象的良好的視認性，并且即使是大型，在從制造到組裝的全部工序中也不發(fā)生網(wǎng)格線條的折斷等的不良，即操作適性優(yōu)異。
一般地，構(gòu)成上述網(wǎng)部的網(wǎng)格的線條的線寬是一樣的。
優(yōu)選上述網(wǎng)外周部在從上述接地用框部向上述網(wǎng)部的方向含有1-50個、特別優(yōu)選1-25個網(wǎng)格。
或者，優(yōu)選上述網(wǎng)外周部在從上述接地用框部向上述網(wǎng)部的方向有0.15-15mm、特別優(yōu)選0.3-7.5mm的寬幅。
另外，優(yōu)選構(gòu)成上述網(wǎng)外周部的網(wǎng)格的線條的線寬度從網(wǎng)部向接地用框部連續(xù)地加寬?；蛘撸瑑?yōu)選構(gòu)成上述網(wǎng)外周部的網(wǎng)格的線條的線寬度從網(wǎng)部向接地用框部逐級地加寬。這些場合，操作適性極好，防止了彎曲或永久彎曲，不會浪費高價的部件。
另外，優(yōu)選上述金屬層的至少一個面被黑化處理。在此情況下，由于網(wǎng)自身變黑，因此也不需要印刷成黑色框緣狀的工序，能夠長期維持顯示圖象的良好的視認性(防止畫面的閃爍)。另外，在該情況下，優(yōu)選在上述金屬層的至少被黑化處理的面上設置防銹層。
另外，優(yōu)選上述網(wǎng)部及上述網(wǎng)外周部的至少網(wǎng)的開口部用樹脂填充，上述金屬層實質(zhì)上被平坦化。在此情況下，由于網(wǎng)的開口部的凹凸被填埋，因此種種的作業(yè)性提高。
在該情況下，上述樹脂優(yōu)選含有吸收波長570-605nm的可見波段的光的色彩校正用光線吸收劑、和/或吸收波長800-1100nm的近紅外波段的光的近紅外線吸收劑。
另外，優(yōu)選在至少一個面上設置吸收波長570-605nm的可見波段的光的色彩校正用光線吸收劑層、和/或吸收波長800-1100nm的近紅外波段的光的近紅外線吸收劑層。
本發(fā)明的電磁波屏蔽片能夠?qū)⑵浠拿嬖O置在PDP顯示器側(cè)。此情況下，能夠減少電極引出的工序和工時。
附圖的簡單說明

圖1是本發(fā)明的一實施方案的電磁波屏蔽用片的平面圖。
圖2是示意地表示本發(fā)明的一實施方案的電磁波屏蔽用片的一部分的斜視圖。
圖3(A)是圖2的A-A線截面圖，圖3(B)是圖2的B-B線截面圖。
圖4是說明導電材料層的構(gòu)成的截面圖。
圖5(A)是說明從卷繞輥開始的加工的平面圖，圖5(B)是其側(cè)面圖。
圖6是本發(fā)明的一實施方案的網(wǎng)外周部的一部分的放大平面圖。
圖7是貼合在顯示器面的本發(fā)明的一實施方案的電磁波屏蔽用片的截面圖。
實施發(fā)明的最佳方案以下關(guān)于本發(fā)明的實施方案參照附圖詳細說明。
(整體的構(gòu)成)圖1是本發(fā)明的一實施方案的電磁波屏蔽用片的平面圖。圖2是示意地表示本發(fā)明的一實施方案的電磁波屏蔽用片的一部分的斜視圖。
如圖1所示，本發(fā)明的一實施方案的電磁波屏蔽用片1，具備存在于內(nèi)側(cè)中心部的網(wǎng)部103和存在于最外周部的接地用框部101。接地用框部101，當設置在顯示器上的場合，采取接地。
在網(wǎng)部103，如圖2所示，在基材11的一個面上通過粘結(jié)劑層13積層著導電材料層109。該導電材料層109是稠密地形成多個開口部105的網(wǎng)狀。各網(wǎng)利用構(gòu)成開口部105的框的線部107構(gòu)成。線部107的寬度稱為線寬W，線與線的間隔稱為間距P。
在網(wǎng)部103和接地用框部101之間配置著網(wǎng)外周部104。網(wǎng)外周部104也是與網(wǎng)部103大致相同的網(wǎng)狀，但網(wǎng)外周部104的各網(wǎng)格的線條的線寬度從網(wǎng)部103向接地用框部101逐漸地加寬。
(層的構(gòu)成)圖3(A)是圖2的A-A線截面圖，圖3(B)是圖2的B-B線截面圖。圖4是說明導電材料層的構(gòu)成的截面圖。
圖3(A)表示出橫截開口部的截面，開口部105和線107交替地顯現(xiàn)。圖3(B)表示出縱截線107的截面，包含導電材料層109的線107連續(xù)地顯現(xiàn)。導電材料層109具有金屬層21，對至少其觀察面、本實施方案中為兩面，進行黑化處理。而且，設置了防銹層25A及25B使之覆蓋被黑化處理的面23A及23B。防銹層只設置在至少黑化處理過的面上即可。
防銹層25A、25B具有對金屬層21及其被黑化處理的面23A、23B的防銹功能，且也防止被黑化處理的面23A、23B脫落。另外，在蝕刻加工金屬層21形成網(wǎng)時，通過蝕刻而使與基材11鄰接的防銹層25A在開口部105處也殘留，防銹層25A也保護基材11和粘結(jié)劑層13免于蝕刻液之害。任選在金屬層21的另一個面設置黑化處理的面23B及防銹層25B。即，在兩面設置黑化處理的面23A、23B及防銹層25A、25B是任意的?？傊瑑?yōu)選至少在觀察側(cè)設置黑化處理的面及防銹層，以及，在基材11側(cè)整個面(相應于開口部、線部)上設置防銹層25A。
(發(fā)明的要點)本發(fā)明的電磁波屏蔽用片1，在網(wǎng)部103和接地用框部101之間設置著網(wǎng)外周部104。網(wǎng)外周部104中網(wǎng)格的線條107的直線部處的線寬度W從網(wǎng)部103向接地用框部101逐漸地變大。
形成網(wǎng)外周部104的區(qū)域，從接地用框部101的內(nèi)周向網(wǎng)部103，為1-50個網(wǎng)格或0.15-15mm左右、優(yōu)選1-25個網(wǎng)格或0.3-7.5mm、進一步優(yōu)選3-20個網(wǎng)格或1.5-6.0mm的部分。
線寬度連續(xù)地(參看圖6)或逐級地(參看圖1)變大。線寬度逐級地變大的場合，可以象圖1那樣是1級，但為了有效地分散應力集中，優(yōu)選是2級或以上。
通過使網(wǎng)外周部104的線107的線寬度W從網(wǎng)部103向接地用框部101逐漸地變大，從網(wǎng)部到接地用框部剛度緩慢地變化。即，在過去為極端的剛度變化被大幅度緩和。據(jù)此，在從該電磁波屏蔽用片的制造工序到向顯示器的裝配、組合工序的各工序中，操作適性極好。即，防止了彎曲或永久彎曲的發(fā)生，在接地用框部和網(wǎng)部的邊界部分等處也防止了發(fā)生網(wǎng)格的斷線，不會浪費高價的部件。
等離子顯示面板以大型畫面為特征。因此，電磁波屏蔽用片的大小(外形尺寸)例如37型竟有620×830mm左右，42型竟有580×980mm左右，更大型的尺寸也有。因此，從電磁波屏蔽用片的制造工序到向顯示器的裝配、組合工序的各工序中，操作適性極為重要。過去的電磁波屏蔽用片在接地用框部和網(wǎng)部的邊界部分處斷線、或彎曲，往往浪費了高價的部件。
在本說明書中，說明將本發(fā)明的電磁波屏蔽用片主要用于CRT、PDP等顯示器上的情況，但本發(fā)明的電磁波屏蔽用片也能夠用于屏蔽來自顯示器以外的裝置的電磁波的用途中。
(制造方法的概要)首先，準備至少在觀察側(cè)設置了黑化處理面及防銹層的導電材料層109。該導電材料層109通過粘結(jié)劑層13積層在透明膜狀的基材11的一個面上。其后，在導電材料層109上網(wǎng)格圖案狀地設置抗蝕劑層。未用抗蝕劑層覆蓋的部分的導電材料層109通過蝕刻而去除，其后去除抗蝕劑層(所謂的光刻法)。
本實施方案的電磁波屏蔽用片1，可使用已有的陰影掩模等片狀構(gòu)件的蝕刻設備來制造。另外，由于能夠連續(xù)地進行多個制造工序，因此品質(zhì)及合格率高，另外生產(chǎn)效率也高。
以下說明本實施方案的電磁波屏蔽用片1的各層的材料及形成方法。
(導電材料層)在本實施方案的電磁波屏蔽用片的導電材料部109中，金屬層21的至少一個面被黑化處理，變成黑化處理面23A和/或23B，而且，在該黑化處理面23A和/或23B上設置著防銹層25A和/或25B。
導電材料部109通過粘結(jié)劑與包含透明膜的基材11積層。在積層之后采用光刻法使導電材料部109加工成網(wǎng)狀。根據(jù)需要金屬層側(cè)被平坦化，進一步根據(jù)需要設置吸收特定波長的可見光線和/或近紅外線的光線吸收劑層。
當將具有這樣的導電材料部109的電磁波屏蔽用片配置在顯示器的正面時，從顯示器發(fā)生的電磁波被屏蔽，另一方面沒有網(wǎng)格濃淡不勻，黑或白的點狀線狀缺陷極少，具有適度的透明性，即能夠維持顯示器所顯示的圖象的良好的視認性。
作為屏蔽電磁波的導電材料層109，例如利用金、銀、銅、鐵、鋁、鎳、鉻等具有能夠充分屏蔽電磁波的程度的導電性的金屬層21。金屬層21不僅可以是單質(zhì)，還可以是合金或多層。作為金屬層21，在鐵的場合，優(yōu)選低碳沸騰鋼和低碳鋁鎮(zhèn)靜鋼等的低碳鋼、Ni-Fe合金、殷鋼。另外，在進行陰極淀積的場合，從淀積的容易度考慮，優(yōu)選銅或銅合金箔。作為銅合金箔，可使用軋制銅箔或電解銅箔，但從厚度的均一性、與黑化處理和/或鉻酸鹽(處理)層的粘附性、以及能進行10μm或以下的薄膜化的方面考慮，優(yōu)選電解銅箔。
金屬層21的厚度為1-100μm左右，優(yōu)選是5-20μm。為該值或以下的厚度時，光刻法的網(wǎng)加工變得容易，但金屬的電阻值增加，損害電磁波屏蔽效果。另一方面，為該值或以上的厚度時，得不到所要求的高精細的網(wǎng)格形狀，其結(jié)果，實質(zhì)的開口率變低，光線透射率降低，而且視角也降低，圖象的視認性降低。
作為金屬層21的表面粗糙度，優(yōu)選Rz值為0.5-10μm。所謂表面粗糙度Rz，是依據(jù)JIS-B0601而測定的10點的平均值。在該值以下時，即使黑化處理，也鏡面反射外界光，使圖象的視認性變差。在該值以上時，在涂布粘結(jié)劑或抗蝕劑等時，未遍及表面整體、或發(fā)生氣泡。
(黑化處理)為了吸收入射到電磁波屏蔽用片1的網(wǎng)部表面上的室外的太陽光、室內(nèi)的電燈光等外光，提高顯示器的圖象的視認性，對網(wǎng)狀導電材料部109的觀察側(cè)進行黑化處理。據(jù)此反差增大。
黑化處理通過粗化和/或黑化金屬層面來進行。具體講，可適用形成金屬氧化物或金屬硫化物等等的種種的方法。
在鐵的場合，通常在蒸汽中在450-470℃左右的溫度暴露10-20分鐘，形成1-2μm左右的氧化膜(黑化膜)?；蛘?，也可以通過濃硝酸等的藥品處理來形成氧化膜(黑化膜)。
另外，在銅箔的場合，優(yōu)選在包含硫酸、硫酸銅及硫酸鈷等的電解液中進行陰極電解處理，進行使陽離子性粒子附著的陰極淀積。通過使陽離子性粒子附著，在實現(xiàn)粗化的同時得到黑色。作為陽離子性粒子，可適用銅粒子、銅與其他金屬的合金粒子等，但優(yōu)選是銅-鈷合金的粒子。
在本說明書中將粗化處理及黑色化處理合在一起，將導電構(gòu)件表面的光吸收產(chǎn)生的防止光反射的處理叫做黑化處理。
黑化處理的優(yōu)選黑色密度是0.6或以上。作為黑色密度的測定方法，使用“COLOR CONTROL SYSTEM”的“GRETAG SPM100-11”(キモト公司制，商品名)，在觀察視角10度、觀察光源D50、作為照明類型設定成“密度標準ANSI T”的條件下在白色校準后測定試驗片。
另外，作為黑化處理的光線反射率，優(yōu)選5％或以下。光線反射率依據(jù)JIS-K7105使用濁度計HM150(村上色彩公司制，商品名)測定。
(合金粒子)作為上述陽離子性粒子，可適用銅粒子、銅與其他金屬的合金粒子等，但優(yōu)選是銅-鈷合金的粒子。
當使用銅-鈷合金的粒子時，黑化的程度顯著提高，能夠很好地吸收可見光。作為評價電磁波屏蔽用片的視認性的光學特性，色調(diào)用依據(jù)JIS-Z8729的色度體系“L*、a*、b*、ΔE*”表示。該“a*”及“b*”的各絕對值小時，導電材料部109成為不可視認的，圖象的反差提高，作為結(jié)果圖象的視認性優(yōu)異。使用銅-鈷合金的粒子時，與銅粒子比較，能使“a*”及“b*”小，大致接近于0。
另外，銅-鈷合金粒子的平均粒徑優(yōu)選0.1-1μm。當使銅-鈷合金粒子的粒徑增大至該值以上時，金屬箔21的厚度變薄，在與基材11積層的工序中銅箔發(fā)生斷裂等，加工性惡化，另外，密集粒子的外觀致密度欠缺，不勻性明顯。另一方面，為該值以下的粒徑時，粗化不足，因此光吸收產(chǎn)生的防止外光反射的效果不足，圖象的視認性變壞。
(防銹層)為了賦予金屬層21和/或黑化處理面23A、23B以防銹功能及黑化處理面的脫落或變形的防止功能，至少在具有黑化處理面的金屬箔面設置防銹層25A和/或25B。作為防銹層25A、25B，可適用鎳、鋅、和/或銅的氧化物、或者鉻酸鹽處理層。鎳、鋅、和/或銅的氧化物的形成用公知的鍍覆法即可。作為其厚度是0.001-1μm左右，優(yōu)選是0.001-0.1μm。
(鉻酸鹽)鉻酸鹽處理，在被處理材上涂布鉻酸鹽處理液而進行。作為該涂布方法，可適用輥涂法、幕式淋涂法、擠壓涂法、靜電霧化法、浸漬法等。涂布后不水洗就干燥即可。例如，對被處理材的單面實施鉻酸鹽處理的場合，采用輥涂等在該單面涂布鉻酸鹽處理液，對兩面實施的場合，可利用浸漬法。作為鉻酸鹽處理液，通常使用含有3g/L的CrO2的水溶液。這之外，也能夠使用添加與鉻酸酐水溶液不同的羥基羧酸化合物，將6價鉻的一部分還原成3價鉻的鉻酸鹽處理液。
根據(jù)6價鉻的附著量多少，而著色成從淡黃色至黃褐色，但3價鉻自身是無色。因此如果控制3價鉻和6價鉻，則得到實用上沒有問題的透明性。
作為羥基羧酸化合物，可單獨或并用地使用酒石酸、丙二酸、檸檬酸、乳酸、乙醇酸、甘油酸、托品酸、二苯乙醇酸、羥基戊酸等。由于還原性因化合物而異，因此添加量基于對3價鉻的還原性而決定。
具體講，可利用アルサ-フ1000(日本ペイント公司制，鉻酸鹽處理劑商品名)、PM-284(日本パ-カライジング公司制，鉻酸鹽處理液商品名)等。在黑化處理面(層)上實施鉻酸鹽處理的場合，在獲得防銹效果基礎上還獲得黑化處理加強效果。
黑化處理面及防銹面設置在觀察側(cè)的場合，使反差提高，使顯示器的圖象的視認性良好。另一方面，即設置在顯示器面?zhèn)鹊膱龊?，抑制從顯示器產(chǎn)生的雜散光，仍然提高圖象的視認性。
(基材)作為基材11的材料，如果有滿足使用條件和制造上的條件的透明性、絕緣性、耐熱性、機械強度等，則可適用種種的材料。例如可利用聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸·間苯二甲酸乙二醇酯共聚物、對苯二甲酸·環(huán)己烷二甲醇·乙二醇共聚物、聚對苯二甲酸乙二醇酯/聚萘二甲酸乙二醇酯的共擠出膜等的聚酯系樹脂、尼龍6、尼龍66、尼龍610等的聚酰胺系樹脂、聚丙烯、聚甲基戊烯等的聚烯烴系樹脂、聚氯乙烯等的乙烯基系樹脂、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯等的丙烯酸系樹脂、聚酰亞胺、聚酰胺酰亞胺、聚醚酰亞胺等的酰亞胺系樹脂、多芳基化合物、聚砜、聚醚砜、聚苯醚、聚苯硫醚(PPS)、聚芳酰胺、聚醚酮、聚醚腈、聚醚醚酮、聚醚亞硫酸酯等的工程樹脂、聚碳酸酯、聚苯乙烯樹脂等的苯乙烯系樹脂等。
基材11也可以是以這些樹脂為主成分的共聚樹脂、或者混合體(包括合金)、或者包含多個層的疊層體。基材11可以是拉伸膜也可以是未拉伸膜，但出于提高強度的目的，優(yōu)選在單軸方向或雙軸方向拉伸過的膜。基材11的厚度通常可適用12-1000μm左右，但優(yōu)選50-700μm，最優(yōu)選100-500μm。為該值以下的厚度時，機械強度不足，發(fā)生翹曲或松弛等，為該值以上的厚度時，達到過剩的性能，成本上也浪費。
基材11采用包含這些樹脂的至少1層的膜、片、板等形成，將這些形態(tài)在本說明書中統(tǒng)稱為膜。通常聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等的聚酯系膜由于透明性、耐熱性好，成本也低廉，因此被優(yōu)選使用。最優(yōu)選聚對苯二甲酸乙二醇酯。另外，透明性越高越好，優(yōu)選可見光線透過率為80％或以上。
基材膜，在涂布粘結(jié)劑之前，可對該涂布面進行電暈放電處理、等離子處理、臭氧處理、火焰處理、打底(也稱為粘固涂層、粘結(jié)促進劑、增粘結(jié)劑)涂布處理、預熱處理、除塵處理、蒸鍍處理、堿處理等增粘結(jié)處理。在該樹脂膜中可根據(jù)需要加入填充劑、增塑劑、防帶電劑等添加劑。
(積層法)作為基材11和導電材料層109的積層(也叫層壓)法，在基材11或?qū)щ姴牧蠈?09的一方、或兩方上涂布粘結(jié)劑或粘合劑，根據(jù)需要干燥，在加熱或不加熱的狀態(tài)下加壓。其后，可根據(jù)需要在30-80℃的溫度下進行熟化(養(yǎng)護)。另外，基材11自身，或者基材11包含多個層的場合，與導電材料層109的積層面，例如如果是離聚物樹脂、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、乙烯-丙烯酸共聚物、乙烯-丙烯酸酯共聚物等的熱粘結(jié)性樹脂則在加熱下只加熱即可。此情況下，可省略粘結(jié)劑層13。
另外，也可以在基材11上采用化學鍍、化學鍍和電解鍍并用、蒸鍍等方法直接形成導電材料層109。該場合也可省略粘結(jié)劑層13。
(粘結(jié)劑)作為粘結(jié)劑不特別限定，例如可利用丙烯酸樹脂、聚酯樹脂、氨酯樹脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚樹脂等。優(yōu)選使用蝕刻液導致的染色或劣化少、加工適性好的熱固型樹脂、本領(lǐng)域人員稱為干式層壓法的方法。而且，也優(yōu)選使用采用紫外線(UV)等電離輻射線固化(反應)的UV固化型樹脂。
(干式層壓)所謂干式層壓法，是將涂布了在內(nèi)部分散或溶解有粘結(jié)劑的溶劑并干燥的貼合基材重疊積層，在30-120℃熟化幾小時至幾天，由此使粘結(jié)劑固化，使2種材料積層的方法。
改良了干式層壓法的非溶劑層壓法也可被利用。這是將涂布了未分散或溶解到溶劑中的粘結(jié)劑自身并干燥的貼合基材重疊積層，在30-120℃熟化幾小時至幾天，由此使粘結(jié)劑固化，使2種材料積層的方法。
作為在干式層壓法或非溶劑層壓法中使用的粘結(jié)劑，可適用采用熱或紫外線·電子射線等的電離輻射線固化的粘結(jié)劑。作為熱固化粘結(jié)劑，具體地可適用2液固化型粘結(jié)劑、例如包含丙烯酸氨酯系樹脂、聚酯氨酯系樹脂、聚醚氨酯系樹脂等的氨酯系粘結(jié)劑、丙烯酸系粘結(jié)劑、聚酯系粘結(jié)劑、聚酰胺系粘結(jié)劑、聚乙酸乙烯酯系粘結(jié)劑、環(huán)氧系粘結(jié)劑、橡膠系粘結(jié)劑等，但優(yōu)選2液固化型氨酯系粘結(jié)劑。
作為2液固化型氨酯系樹脂，具體地例如可使用由多官能異氰酸酯與含羥基化合物(多元醇)的反應而得到的聚合物。具體講，例如作為多官能異氰酸酯，可使用甲苯二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、多亞甲基多亞苯基多異氰酸酯等的芳香族多異氰酸酯、或者六亞甲基二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯等的脂肪族(或脂環(huán)族)多異氰酸酯等的多官能異氰酸酯。作為這些多異氰酸酯，也能夠使用上述異氰酸酯的多聚物(三聚物等)或加成體。另外，作為含羥基化合物，可使用聚醚系多元醇、聚酯系多元醇、聚丙烯酸酯多元醇等的含羥基化合物。能夠使用通過這些多官能異氰酸酯與含羥基化合物的反應而得到的2液型氨酯系樹脂。
可優(yōu)選使用沒有蝕刻液導致的染色、劣化、并配合了用苯乙烯-馬來酸共聚物改性的聚酯聚氨酯和脂肪族多異氰酸酯的粘結(jié)劑。
在干式層壓法中，將以這些物質(zhì)為主成分的粘結(jié)劑組合物向有機溶劑溶解或分散，將其利用例如輥涂、逆輥涂布、凹槽輥涂布、凹槽輥逆涂布、轉(zhuǎn)移式槽輥涂布、吻涂布、繞線棒涂布、comma涂布、刮刀涂布、浸漬涂布、淋涂布、噴涂等涂布法涂布在基材上，通過干燥溶劑等，能夠形成層壓用粘著層。優(yōu)選使用輥涂布或者逆輥涂布法。
粘著層的膜厚在干燥狀態(tài)下是0.1-20μm左右，優(yōu)選是1-10μm。粘著層一形成就立即積層貼合基材，通過在30-120℃熟化幾小時至幾天，使粘結(jié)劑固化。據(jù)此基材被粘著。粘結(jié)劑的涂布面可以是基材側(cè)、導電材料部側(cè)的任1個。優(yōu)選為經(jīng)粗化的銅箔側(cè)。此情況下，粘結(jié)劑遍及粗化面的整體，氣泡的發(fā)生被抑制。
非溶劑層壓法基本上與干式層壓法同樣，但粘結(jié)劑組合物未向有機溶劑溶解或分散，直接地使用。尤其是為了根據(jù)需要使粘度降低，也有時粘結(jié)劑組合物被加熱加溫。
(粘合劑)作為粘合劑，可適用感壓而粘結(jié)的公知粘合劑。作為粘合劑不特別限定，例如能夠適用天然橡膠系、丁基橡膠、聚異戊二烯、聚異丁烯、聚氯丁二烯、苯乙烯-丁二烯共聚樹脂等的合成橡膠系樹脂、二甲基聚硅氧烷等的硅氧烷系樹脂、丙烯酸系樹脂、聚乙酸乙烯酯、乙烯·乙酸乙烯酯共聚物等的乙酸乙烯酯系樹脂、氨酯系樹脂、丙烯腈、烴樹脂、烷基酚樹脂、松香、松香甘油三酸酯、氫化松香等的松香系樹脂。
(橡膠系粘合劑)在此，作為橡膠系粘合劑，在氯丁橡膠、丁腈橡膠、丙烯酸橡膠、苯乙烯丁二烯橡膠、苯乙烯異戊二烯苯乙烯、苯乙烯丁二烯苯乙烯、苯乙烯乙烯丁二烯苯乙烯、丁基橡膠、聚異丁烯橡膠、天然橡膠、聚異戊二烯橡膠等的粘結(jié)橡膠的一個或多個中配合了酚系樹脂、改性酚樹脂、酮樹脂、醇酸樹脂、松香系樹脂、香豆酮樹脂、苯乙烯系樹脂、石油樹脂、氯乙烯系樹脂等的增粘材料的一個或多個的粘合劑是有效的。
橡膠系粘合劑，與丙烯酸系粘結(jié)材料比較，耐藥品性、耐膨潤性、耐溫度性、粘合性、以及剝離強度優(yōu)異。因此，粘結(jié)部分即使暴露在酸性或堿性的物質(zhì)中也不發(fā)生剝離。另外，橡膠系粘合材料在酸性或堿性的藥液中幾乎不發(fā)生水解，粘合壽命長。
(粘合劑層的形成)這些樹脂或這些混合物被制成乳膠、水分散液或有機溶劑溶液，用絲網(wǎng)印刷或comma涂布等的公知印刷法或涂布法印刷或涂布在一方材料上。該材料根據(jù)需要干燥后與另一材料重疊并加壓。
(從卷繞輥開始的加工)圖5(A)及圖5(B)是說明從卷繞輥開始的加工的平面圖及側(cè)面圖。詳細情況是，圖5(A)是平面圖，表示從卷繞輥解繞而展開的狀態(tài)，電磁波屏蔽用片1以一定間隔配置著。圖5(B)是側(cè)面圖，表示從卷繞輥解繞而展開的狀態(tài)，導電材料層109積層在基材11上。
作為具體的積層方法，首先在從卷繞輥展開的導電材料層109上形成上述的黑化處理面及防銹層。在防銹層上涂布粘結(jié)劑并干燥之后，重疊基材11并加壓。而且，根據(jù)需要在30-80℃的氣氛中進行幾小時至幾天的熟化(養(yǎng)生、硬化)，再卷繞而卷繞成滾筒狀。
(光刻法)在上述疊層體的導電材料層面網(wǎng)格圖案狀地設置抗蝕劑層，通過蝕刻法除去不被抗蝕劑層覆蓋的部分的導電材料層，其后，去除抗蝕劑層(光刻法)。由此，導電材料層成為網(wǎng)狀。
如前述，基材11和導電材料層109疊層體的導電材料層109采用光刻法形成網(wǎng)狀。該工序也對卷繞成滾筒狀的帶狀疊層體進行。即，疊層體不松弛而展開，一邊連續(xù)或間歇地輸送，一邊實施掩蔽、蝕刻、抗蝕劑剝離的各處理。
(掩蔽)例如感光性抗蝕劑涂布在導電材料層109上。在干燥后，以規(guī)定的圖形(網(wǎng)的線部)的版(光掩模)接觸式曝光，進行水顯象，實施硬膜處理等，焙烤。
關(guān)于抗蝕劑的涂布，一邊連續(xù)或間歇地輸送展開的帶狀疊層體(基材11和導電材料層109)，一邊向?qū)щ姴牧蠈?09面用浸漬、幕式淋涂布、澆涂(掛け流し)等的方法涂布酪蛋白、PVA、明膠等抗蝕劑。另外，代替涂布抗蝕劑，也可以使用干抗蝕劑膜。此情況下，作業(yè)性能夠提高。酪蛋白抗蝕劑的場合，焙烤在200-300℃進行。尤其是為了防止疊層體的翹曲，該溫度優(yōu)選盡量低的溫度。
(蝕刻)掩蔽后進行蝕刻。作為在蝕刻中使用的蝕刻液，在連續(xù)進行蝕刻的本發(fā)明中，優(yōu)選可容易循環(huán)使用的氯化亞鐵或氯化亞銅的溶液。另外，該蝕刻工序是基本上與制造蝕刻帶狀連續(xù)的厚度20-80μm的薄板的彩色TV陰極射線管用的陰影掩模的工序同樣的工序。因此，可借用制造該陰影掩模的已有設備從掩蔽到蝕刻直接地連續(xù)實施，效率極好。蝕刻后，進行水洗、采用堿液剝離抗蝕劑、洗滌，其后干燥。
(網(wǎng))網(wǎng)部103具有用線107包圍的多個開口部105。開口部105的形狀不特別限定，例如可適用正三角形、等腰三角形等三角形、正方形、長方形、菱形、梯形等四邊形、五邊形、六邊形、八邊形等多邊形、圓形、橢圓形等。這些開口部多個組合成為網(wǎng)狀。
從開口率、網(wǎng)的非視認性、及圖象的視認性考慮，網(wǎng)部103的線107直線部處的寬度W定為規(guī)定值±30％的范圍內(nèi)。另外，連結(jié)與透明基板正交的線截面形狀中上底和下底的側(cè)壁面部的曲率半徑為上述導電材料層厚度的1.5-3.0倍。優(yōu)選網(wǎng)部103的線寬度W為從5-25μm范圍內(nèi)選擇的恒定值，線間的間距為從150-500μm范圍內(nèi)選擇的恒定值。另外，關(guān)于在網(wǎng)部103的外周構(gòu)成網(wǎng)外周部104的1-50個網(wǎng)格的部分、或者0.15-15mm的部分，如后述，向著接地用外框101方向線寬度逐漸擴大。
通常，在大型的等離子顯示板用的電磁波屏蔽用片上形成幾千條或以上的直線線條，并且分別相交。通過抑制該線的線寬度偏差，且規(guī)定連結(jié)線截面形狀中上底和下底的側(cè)壁面的曲率半徑，能夠得到在具有電磁波屏蔽性和適度的透明性的基礎上，網(wǎng)格濃淡不勻少、黑和白的點狀及線狀缺陷少、顯示光的閃爍少、外光反射也被抑制的具有優(yōu)異的圖象視認性的電磁波屏蔽用片1。
線寬度的偏差例如線寬度是14μm的場合，抑制在14±4.2μm，即9.8-18.2μm。如果為該范圍內(nèi)，則幾乎不發(fā)生網(wǎng)格濃淡不勻、黑和/或白的點狀及線狀缺陷。如果線寬度有該值以上的寬度，則產(chǎn)生網(wǎng)格濃淡不勻。另外，在線寬度的偏差大的場合，人們觀察顯示圖象時，線寬度寬的部分可視認成黑點缺陷，線寬度窄的部分可視認成白點缺陷。對于整體的圖象零星地有白點和/或黑點時，人們感到極強的不舒服感。
可是，根據(jù)本實施方案的電磁波屏蔽用片，通過利用連續(xù)光刻法，使線寬度的偏差在規(guī)定的范圍，因此網(wǎng)格濃淡不勻的發(fā)生極少，而且電磁波屏蔽性及透明性沒有問題。另外，網(wǎng)格濃淡不勻或黑和/或白的點狀及線狀缺陷，在涂布抗蝕劑時抗蝕劑液的飛沫附著在不需要的部分上時也發(fā)生，但在連續(xù)光刻法中，發(fā)生那樣的現(xiàn)象極為稀少。
另外，線寬度的控制方案，網(wǎng)部103和網(wǎng)外周部104存在不同。網(wǎng)外周部104中線條107的直線部處線寬度W被控制成向著接地用框部101逐漸變大。
網(wǎng)外周部104位于網(wǎng)部103和接地用框部101之間，使之包圍網(wǎng)部103。即，從接地用框部101的內(nèi)周向著網(wǎng)部103的中心部的1-50個網(wǎng)格、或者0.15-15mm左右、優(yōu)選1-25個網(wǎng)格、或者0.3-7.5mm、進一步優(yōu)選3-20個網(wǎng)格、或者1.5-6.0mm成為網(wǎng)外周部104。
網(wǎng)外周部104具有在此以上的區(qū)域的場合，在顯示器周邊視認出陰影狀框，感覺圖象小，另外圖象的視認性還降低。另一方面，網(wǎng)外周部104只具有小于此的區(qū)域的場合，網(wǎng)格線條的剛度變化依然過于劇烈，可發(fā)生線條的彎曲等。作為線寬度逐漸加寬的方案，可以沿著多個開口部105(單元格)連續(xù)地加寬，或者每個開口部105(單元格)可以逐級地加寬。
圖6是本實施方案的網(wǎng)外周部104的一部分的放大平面圖。
網(wǎng)部103的規(guī)定的線部107的線寬度是W，向著接地用框部101，網(wǎng)外周部104的線寬度W1、W2、W3、～、Wi、～、Wn為W＜W1＜W2＜W3＜～＜Wi＜～＜Wn。
在線寬度連續(xù)地逐漸加寬的方案中，各線寬度W1、W2、W3、～Wn連續(xù)加寬。即，例如對應于1個單元格的線寬度Wi(i＝1、…、n)自身逐漸加寬。
另一方面，在線寬度逐級地加寬的方案中，例如對應于1個單元格的線寬度Wn自身是同一寬度。此情況下，加寬的級數(shù)n是1或以上，但優(yōu)選是2或以上，多級地分散集中于網(wǎng)部103周邊的應力。
例如圖6的例子是n＝5、以1個單元格為單位逐級加寬的情況。另外，線寬度的加寬方案，不需要在全部的線中相同，也可以對每個線改變W1、W2、W3、～Wn。
作為實現(xiàn)這樣的逐漸加寬的線寬度的方法，將在導電材料層109上貼合干抗蝕劑，或者涂布感光性抗蝕劑，干燥后用于接觸式曝光中的圖案版上的圖案變更成那種所要求的圖案即可。所謂圖案版相當于本領(lǐng)域從業(yè)人員所稱呼的制版膜，感光性抗蝕劑為負型(曝光部分固化而殘留)的場合，它是與開口部105相當?shù)牟糠植煌该?，與線107相當?shù)牟糠譃橥该鞯闹瓢婺?線的負膜)。感光性抗蝕劑為正型(未曝光部分殘留)的場合，制版膜為正膜。在該圖案版中，與線相當?shù)牟糠值膶挾?，在對應于網(wǎng)部103的區(qū)域中記為規(guī)定的線寬度W，在與其周邊的網(wǎng)外周部104對應的區(qū)域中，向著接地用框部101逐漸成為(W＜)W1＜W2＜W3＜～＜Wn即可。
另外，線與電磁波屏蔽用片的端部的邊(下部面)構(gòu)成的傾角在圖1的例子中是45度，但不限于此，為了消除網(wǎng)紋等，可考慮顯示器象素和發(fā)光特性適宜選擇。
(平坦化)一形成網(wǎng)，網(wǎng)的線部107就具有導電材料層的厚度，但開口部105去除導電材料層成為凹部。即，導電材料部109為凹凸狀態(tài)。在下道工序中涂布粘結(jié)劑或粘合劑的場合，上述凹凸用該粘結(jié)劑等填埋?？墒?，那時，該凹部的空氣未完全用粘結(jié)劑等置換，而易以氣泡形式殘存。當殘留氣泡時，在氣泡與粘結(jié)劑的界面光散射，濁度(霧值)變高。為了防止該問題，優(yōu)選在粘結(jié)之前預先用透明樹脂填充上述凹部進行平坦化。
作為平坦化，透明樹脂涂布在凹部而埋入，但透明樹脂未侵入到凹部的各角落時，氣泡殘留，透明性劣化。為此，透明樹脂用溶劑等稀釋以低粘度涂布并干燥，或一邊脫除空氣一邊涂布。如以上那樣形成平坦化層29(參看圖7、或者圖3)。
平坦化層29優(yōu)選是透明性高、與網(wǎng)的導電材料的粘結(jié)性好、且與下個工序的粘結(jié)劑的粘結(jié)性好的。但是，當在平坦化層29的表面有突起、凹陷、不勻時，在電磁波屏蔽片1設置顯示器正面時，發(fā)生網(wǎng)紋、干涉條紋、牛頓環(huán)等，故不優(yōu)選。作為優(yōu)選的方法，在涂布作為樹脂的熱固化樹脂或紫外線固化樹脂后，積層平面性優(yōu)異、有剝離性的基材，用熱或紫外線使先涂布的樹脂固化，剝離剝離性基材并去除。此情況下，在平坦化層29的表面轉(zhuǎn)印平面性基材的表面，形成平滑的面。
作為為形成平坦化層29而使用的樹脂，不特別限定，可適用各種的天然或合成樹脂、熱固化樹脂或電離輻射線固化樹脂等。尤其從樹脂的耐久性、涂布性、平坦化的容易度、平面性等考慮，優(yōu)選丙烯酸系的紫外線固化樹脂。
(NIR吸收劑)而且，在為形成平坦化層29而使用的樹脂中也可以添加吸收可見和/或近紅外的特定波長的光線吸收劑。通過吸收可見和/或近紅外線的特定波長，不愉快感被抑制，圖象的視認性提高。在此，所謂近紅外的特定波長波段是780-1200nm左右，特別是800-1100nm左右的波段。優(yōu)選吸收780-1200nm的波段的80％或以上。
作為近紅外線吸收劑(叫做NIR吸收劑)，不特定限定，可適用在近紅外線區(qū)有急劇的吸收，可見光區(qū)380-780nm的光透過性高、且在可見光區(qū)沒有特定波長的大的吸收的色素等。
另外，作為從PDP發(fā)射的可見光，通常作為氖原子的發(fā)光光譜的橙色多，因此圖象色調(diào)比天然色移向橙色。為了校正之，優(yōu)選添加具有某種程度地吸收波長570-605nm附近的特性的色彩校正用光線吸收劑。
作為近紅外線吸收劑，有花青系化合物、酞菁系化合物、naphthalocyanine系化合物、萘醌系化合物、蒽醌系化合物、二硫酚系配合物、immonium系化合物、diimmonium系化合物等。
作為色彩校正用光線吸收劑有酞菁系化合物等。
(NIR吸收層)代替向平坦化層29添加NIR吸收劑，也可以在至少一個面上設置具有NIR吸收劑的另外的層(叫做NIR吸收層)。
NIR吸收層可設置在平坦化層29側(cè)和/或相反側(cè)的基材11側(cè)。設置在平坦化層29側(cè)的場合，是圖3所示的NIR吸收層31B，設置在基材11側(cè)的場合，是圖3所示的NIR吸收層31A。NIR吸收層31B及NIR吸收層31A，用粘結(jié)劑積層具有NIR吸收劑的市售膜(例如東洋紡績公司制，商品名No2832)、或使粘合劑含有NIR吸收劑并涂布而得到。作為粘合劑可適用聚酯樹脂、聚氨酯樹脂、丙烯酸樹脂、和用熱或紫外線等固化的、利用環(huán)氧、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、異氰酸酯基等的反應的固化型樹脂等。另外，關(guān)于色彩校正用光線吸收劑也同樣地能夠以與平坦化層29獨立的層的形式積層。
(AR層)而且，雖未圖示，但可在電磁波屏蔽用片的觀察側(cè)設置防反射層(叫做AR層)。防反射層是防止可見光線反射的層，市場銷售單層和多層的種種的防反射層。多層的防反射層交替地積層了高折射率層和低折射率層。作為高折射率層，有氧化鈮、氧化鈦、氧化鋯、ITO等。作為低折射率層，有氧化硅、氟化鎂等。另外，也有具有有亂反射外光的微細凹凸表面的層的防反射層。
(硬涂層、防污層、防眩層)而且，除防反射(AR)層之外，還可設置硬涂層、防污層、防眩層。硬涂層是在JIS-K5400的鉛筆硬度試驗中具有H或以上的硬度的層，可以是用熱或電離輻射線使聚酯丙烯酸酯、氨酯丙烯酸酯、環(huán)氧丙烯酸酯等的多官能丙烯酸酯固化的層。防污層是疏水性、疏油性的涂層，可適用硅氧烷系、氟代烷基甲硅烷基化合物等。防眩層是具有亂反射外光的微細凹凸表面的層。
(片化)切割如以上那樣以連續(xù)的帶狀狀態(tài)制造的積層構(gòu)件，得到單片的電磁波屏蔽用片1。電磁波屏蔽用片1貼合在玻璃等透明基板上。根據(jù)需要與NIR吸收層、AR層、硬涂層、防污層、防眩層組合，成為顯示器正面板。
作為上述基板，在大型顯示器用時，使用厚度1-10mm的具有充分剛性的基板。另外，在字符顯示器等小型的顯示器用時，使用厚度0.01-0.5mm的塑料膜。即，根據(jù)顯示器的大小和用途，上述基板可適宜選擇。在此，電磁波屏蔽用片1一旦作為顯示器正面板組合后，設置在顯示器的正面上。為此，基材11側(cè)成為觀察側(cè)?？墒牵姶挪ㄆ帘斡闷?也可以直接貼合在顯示器的正面。
(直接貼合)圖7是貼合在顯示器面的本發(fā)明的電磁波屏蔽用片的截面圖。在該情況下，呈網(wǎng)狀的金屬箔側(cè)成為觀察側(cè)，在金屬箔的兩面順序設置著黑化處理面和防銹層。此情況下，由于接地用框部101向外側(cè)露出，因此易引出電極，易取得接地。另外，由于接地用框部101被黑化處理的黑面成為觀察側(cè)，因此對上述玻璃板框緣狀地實施的黑色印刷是不需要的，可縮短工序，在成本方面也有利。
(實施例1)作為導電材料，使用對表面實施了由平均粒徑0.3μm的銅-鈷合金粒子所致的黑化處理、再附加由鉻酸鹽(處理)所致的防銹兼黑化處理層的厚度10μm的電解金屬箔。用2液固化型聚氨酯系粘結(jié)劑層壓該導電材料的鉻酸鹽(處理)層、和厚度100μm的雙軸拉伸聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜A4300(東洋紡績公司制，商品名)，其后，在56℃熟化4天。作為粘結(jié)劑，使用包含多元醇的主劑タケラックA-310和包含多異氰酸酯的固化劑A-10(均為武田藥品工業(yè)公司制，商品名)，涂布量按干燥后的厚度計為7μm。
為了經(jīng)光刻法形成網(wǎng)格，借用彩色TV陰影掩模用的制造線對連續(xù)的帶狀構(gòu)件進行從掩蔽到蝕刻的工序。具體講，首先用澆涂法在導電材料層面的整體上涂布包含酪蛋白的感光性抗蝕劑。其次，該導電材料層被輸送到下個工位，使用具有下述形狀的圖案版及高壓汞燈使之接觸式曝光。其后，導電材料層一邊被相繼地輸送到各工位，一邊水顯象，硬膜處理，再在100℃焙烤。
上述圖案版的形狀為下述那樣的形狀在網(wǎng)部，開口部是正方形，線寬度是22μm，線間隔(間距)是300μm，傾角是49度，在5mm寬的網(wǎng)外周部，線寬度從22μm向著接地用框部連續(xù)地增加，在與接地用框部連接的部分為40μm，接地用框部(接地部)的寬度為5mm。
導電材料層進一步被輸送到下個工位，通過用噴霧法噴吹作為蝕刻液的液溫40℃、40°波美度的氯化亞鐵溶液，進行蝕刻，形成開口部。其后，導電材料層一邊被相繼地輸送到各工位，一邊被水洗，抗蝕劑被剝離，洗滌，再在100℃干燥。據(jù)此得到實施例1的電磁波屏蔽用片。
(比較例1)作為圖案版的形狀，在網(wǎng)部及網(wǎng)外周部，開口部是正方形，線寬度是直到接地用框部為止都相同的22μm，線間隔(間距)是300μm，傾角是49度，除此以外與實施例1相同。據(jù)此得到比較例1的電磁波屏蔽用片。
(實施例2)在實施例1的網(wǎng)部及網(wǎng)外周部涂布下述組成的平坦化層組合物，填充開口部凹部。其后，層壓厚度50μm的SP-PET20-BU(ト-セロ公司制，表面脫模處理PET膜商品名)，使用高壓汞燈進行200mj/cm2的曝光(按365nm換算)。然后，剝離SP-PET20-BU，得到網(wǎng)部及網(wǎng)外周部被平坦化的實施例2的電磁波屏蔽用片。該電磁波屏蔽用片具有與實施例1同樣的性能。
作為平坦化層組合物，使用了N-乙烯基-2-吡咯烷酮20質(zhì)量份、二環(huán)戊烯基丙烯酸酯25質(zhì)量份、低聚酯丙烯酸酯(東亞合成(株)制，M-8060)52質(zhì)量份、1-羥基環(huán)己基苯基酮(チバガイギ-公司制，イルガキュア184)3質(zhì)量份。
(實施例3)
在實施例2的平坦化層組合物中含有作為近紅外線吸收劑的硫醇-鎳配合物1質(zhì)量份。除此以外，與實施例2同樣地得到實施例3的電磁波屏蔽用片。該電磁波屏蔽用片具有與實施例1同樣的性能。顯示圖象的視認性進一步良好。
(實施例4)在實施例2的平坦化層上用粘合劑積層NIR吸收膜No2832(東洋紡績公司制，近紅外線吸收膜商品名)。除此以外，與實施例2同樣地得到實施例4的電磁波屏蔽用片。該電磁波屏蔽用片具有與實施例1同樣的性能。顯示圖象的視認性進一步良好。
(實施例5)作為上述圖案版的形狀，在網(wǎng)部，開口部是正方形，線寬度是20μm，線間隔(間距)是250μm，傾角是60度，在5mm寬的網(wǎng)外周部，線寬度從20μm向著接地用框部連續(xù)地增加，在與接地用框部連接的部分是26μm。除此以外，與實施例1相同。據(jù)此，得到實施例5的電磁波屏蔽用片。
(實施例6)作為上述圖案版的形狀，在網(wǎng)部，開口部是正方形，線寬度是20μm，線間隔(間距)是250μm，傾角是60度，在3mm寬的網(wǎng)外周部，線寬度從20μm向著接地用框部連續(xù)地增加，在與接地用框部連接的部分是26μm。除此以外，與實施例1相同。據(jù)此，得到實施例6的電磁波屏蔽用片。
(實施例7)作為上述圖案版的形狀，在網(wǎng)部，開口部是正方形，線寬度是20μm，線間隔(間距)是300μm，傾角是49度，在25個網(wǎng)格的網(wǎng)外周部，線寬度從20μm向著接地用框部每1單元格逐級地增加1.0μm，在與接地用框部連接的部分是45μm。除此以外，與實施例1相同。據(jù)此，得到實施例7的電磁波屏蔽用片。
(實施例8)作為上述圖案版的形狀，在網(wǎng)部，開口部是正方形，線寬度是20μm，線間隔(間距)是300μm，傾角是49度，在5個網(wǎng)格的網(wǎng)外周部，線寬度從20μm向著接地用框部每1單元格逐級地增加3.0μm，在與接地用框部連接的部分是35μm。除此以外，與實施例1相同。據(jù)此，得到實施例8的電磁波屏蔽用片。
(實施例9)在采用銅-鈷合金粒子形成的黑化處理面及與鉻酸鹽(處理)層相反的面層壓PET膜。除此以外，與實施例2同樣。據(jù)此得到實施例9的電磁波屏蔽用片。
(結(jié)果)在實施例1中，使用了網(wǎng)部的線寬度為22μm的抗蝕劑圖案版，但蝕刻后的實際的網(wǎng)部的線寬度是7-17μm。而且，蝕刻后的實際的網(wǎng)外周部的線寬度，與網(wǎng)部連接的部分是7-17μm，與接地用框部連接的部分是17-29μm。
在比較例1中，蝕刻后的實際的網(wǎng)部的線寬度，從與網(wǎng)部連接的部分到即將與接地用框部連接之前的部分是10-16μm，但與接地用框部連接的部分是5-20μm，偏差大。
另外，對于實施例1及比較例1的電磁波屏蔽用片各100片，形成與實施例2類似的平坦化層。其結(jié)果，實施例1的100片上沒有異常就形成了平坦化層，但比較例1中2片上發(fā)生斷線，合格率低。
而且，實施例1及比較例1的電磁波屏蔽用片各100片組裝到PDP面板上。其結(jié)果，實施例1的100片沒有異常就組裝，但比較例1中1片發(fā)生彎折，1片發(fā)生斷線，合格率低。
將實施例1至實施例8及比較例1的電磁波屏蔽用片加工成正面板，設置在PDP顯示器的正面上，顯示圖象評價視認性，結(jié)果視認性均良好。
另外，用粘合劑將實施例9的電磁波屏蔽用片的基材面設置到PDP顯示器上，閃爍也沒有，圖象的視認性良好，而且電極的引出工序數(shù)減少，也不需要框緣狀的黑色印刷。
權(quán)利要求
1.一種電磁波屏蔽用片，其特征在于，具備透明基材和積層在上述透明基材的一面上的金屬層，上述金屬層具有網(wǎng)狀的網(wǎng)部、包圍上述網(wǎng)部的網(wǎng)狀網(wǎng)外周部和包圍上述網(wǎng)外周部的接地用框部，構(gòu)成上述網(wǎng)外周部的網(wǎng)格的線條的線寬度從網(wǎng)部向接地用框部逐漸加寬。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電磁波屏蔽用片，其特征在于，構(gòu)成上述網(wǎng)部的網(wǎng)格的線條的線寬是一樣的。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電磁波屏蔽用片，其特征在于，上述網(wǎng)外周部在從上述接地用框部向上述網(wǎng)部的方向含有1-50個網(wǎng)格。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電磁波屏蔽用片，其特征在于，上述網(wǎng)外周部在從上述接地用框部向上述網(wǎng)部的方向具有0.15-15mm的寬度。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的電磁波屏蔽用片，其特征在于，上述網(wǎng)外周部在從上述接地用框部向上述網(wǎng)部的方向含有1-25個網(wǎng)格。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電磁波屏蔽用片，其特征在于，上述網(wǎng)外周部在從上述接地用框部向上述網(wǎng)部的方向具有0.3-7.5mm的寬度。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-6的任1項所述的電磁波屏蔽用片，其特征在于，構(gòu)成上述網(wǎng)外周部的網(wǎng)格的線條的線寬度從網(wǎng)部向接地用框部連續(xù)地加寬。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-6的任1項所述的電磁波屏蔽用片，其特征在于，構(gòu)成上述網(wǎng)外周部的網(wǎng)格的線條的線寬度從網(wǎng)部向接地用框部分步地加寬。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-8的任1項所述的電磁波屏蔽用片，其特征在于，上述金屬層的至少一個面被黑化處理。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的電磁波屏蔽用片，其特征在于，在上述金屬層的至少黑化處理過的面上設置防銹層。
11.根據(jù)權(quán)利要求1-10的任1項所述的電磁波屏蔽用片，其特征在于，上述網(wǎng)部及上述網(wǎng)外周部的至少網(wǎng)開口部用樹脂填充，上述金屬層被實質(zhì)上平坦化。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的電磁波屏蔽用片，其特征在于，上述樹脂含有吸收波長570-605nm的可見波段的光的色彩校正用光線吸收劑和/或吸收波長800-1100nm的近紅外波段的光的近紅外線吸收劑。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的電磁波屏蔽用片，其特征在于，在至少一個面上設置吸收波長570-605nm的可見波段的光的色彩校正用光線吸收劑層和/或吸收波長800-1100nm的近紅外波段的光的近紅外線吸收劑層。
全文摘要
本發(fā)明的電磁波屏蔽用片(1)，具備透明基材、和積層在上述透明基材的一個面上的金屬層。上述金屬層具有網(wǎng)狀的網(wǎng)部(103)、包圍上述網(wǎng)部(103)的網(wǎng)狀的網(wǎng)外周部(104)、和包圍上述網(wǎng)外周部(104)的接地用框部(101)。構(gòu)成上述網(wǎng)外周部(104)的網(wǎng)的線寬度從網(wǎng)部(103)向接地用框部(101)逐漸加寬。本發(fā)明的電磁波屏蔽用片(1)在從制造到組裝的全部工序中不易發(fā)生彎曲或斷線等，因此操作適性優(yōu)異。
文檔編號B32B15/08GK1689386SQ03823958
公開日2005年10月26日 申請日期2003年8月6日 優(yōu)先權(quán)日2002年8月8日
發(fā)明者荒川文裕, 石井康英彥, 橋本大祐, 京田享博, 大石英司 申請人:大日本印刷株式會社