專利名稱：接合裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及輪廓接合裝置，并且更具體地涉及用于夾持或保持規(guī)則形狀或不規(guī)則 形狀的構件的接合裝置。
背景技術：
應該可以理解的是，在工程和其它環(huán)境下的廣泛范圍中，期望夾持或保持諸如翼 型這樣的構件以便允許加工和其它工藝。這樣的構件可以是規(guī)則形狀的或不規(guī)則形狀的， 但不管怎樣，都希望確保正確的位置和定位。應該懂得，構件必須被精確地保持并定位在這 種組件中而不會損壞到該構件本身，并且要確保加工或其它形成工藝不會引起振動或其它 運動，這些振動或其它運動可能會造成構件的錯誤處理。還將懂得，在一些情況下，構件可 以被夾持在諸如虎鉗的裝置中，使得不僅允許加工而且還允許其它構件組裝到所保持的構 件上。在上述情況下，還應懂得，為了呈現(xiàn)以及保持和夾持簡單而提供的適當?shù)妮喞?合會產生多個問題。如上所述，通常，輪廓接合裝置不論是僅用于呈現(xiàn)或是加工都通常要夾持工件或 構件以用于檢查或加工操作。幾乎所有的制造工藝都要求加工以及組裝階段。然而，對于 這種接合裝置，有一個折中，即意味著接合裝置對于特定的情況不是最優(yōu)化的。在這些情況 下，接合裝置可以被標準化，導致對于精確呈現(xiàn)的潛在問題，以及隨后的對于加工工藝的問 題。已知一類模塊化類型的柔性夾具。這些模塊化夾具和接合裝置包括V形塊，肘節(jié)夾，定 位夾和類似裝置。盡管能夠理解，模塊化夾具在本質上限于標準幾何形狀，并且使用這種裝 置在重構和調整到標準形狀以及從標準形狀調整而來是耗時的。另外，將懂得，對于夾具和 夾持裝置，力將被施加為使得如果構件或工件不被精確呈現(xiàn)或保持，那么這種大的夾持力 將被不適當?shù)厥┘?，從而可能導致構件損壞。這種問題對于具有曲線表面或不規(guī)則形狀的 構件(諸如渦輪葉片和翼型)來說尤其明顯。理想地，接合裝置應該具有可變的或可重構的模塊化結構，以適應構件的困難的 類型，形狀和尺寸。已知提供了包括封裝在內部的或機械設備的可變形的夾具。例如，在包 括航空工業(yè)等各種領域能夠發(fā)現(xiàn)的封裝的夾具中，在加工操作或組裝中，低熔點熔融基體 材料(諸如鉛或鋅)用于包圍不規(guī)則形狀構件(諸如渦輪葉片)，從而產生形成良好的表 面，以便部件定位和夾持。盡管這種方法是可接受的，但是應該懂得，在基體從液態(tài)轉換為 固態(tài)的過程中產生的溫度變化可能誘導熱應力，并且加工工藝仍會造成工件或構件的變形 損壞。另一個因素是低熔點合金通常包括有害的元素，諸如鉛，其可能造成不可接受的操作 環(huán)境問題。在這種情況下，對于在初始施加保持基體和除去保持基體的過程中所需要的加 熱和冷卻循環(huán)比較脆弱的工件來說，這樣的方法是不可接受的。已知更為先進的接合裝置用于夾持和呈現(xiàn)不規(guī)則形狀的構件。這些裝置可包括磁 流變流體，磁流變(MR)流體作為膜或其它以類似于低熔點基體材料的方式包圍不規(guī)則形 狀的構件。還已知，如國際專利申請?zhí)?005/049278和美國專利號7204481所示的，其提供
4了夾持設備，該夾持設備使用多個夾持桿，該夾持桿可利用磁流變流體來移動以接合構件。 磁場施加到流體，該流體然后凝固，以便接合并通常保持或呈現(xiàn)構件。上述現(xiàn)有技術的裝置 在夾具的模塊性，可壓縮性，操作條件和物理尺寸方面有限制。關于模塊性，各單獨的裝置 設計用于特定的構件，并且MR流體通常用于適應尺寸和形狀的微小變化，因此限定了裝置 的應用性。另外，應該懂得，MR流體本質上由凝固而發(fā)揮作用，則在系統(tǒng)內，如果有任何空 氣沒有排出，則該空氣可能被裝置壓縮，從而影響接合的強度。其它的問題與使用高的和危 險水平的電流有關，在一些情況下，對于加工工藝需要使用水作為冷卻劑，與電流結合，則 可能導致危險的操作。另外，MR流體本身可能被水所污染。還將懂得，具體問題與現(xiàn)有技 術的裝置的尺寸有關，尤其是必須要適應較小的構件時。核心問題與MR流體需要由磁場來凝固的體積有關。大的體積將需要使用強力的 磁鐵，這意味著必須要使用電磁鐵。另外，MR流體也有可能隨著時間而退化。將理解，MR流 體實質上包括懸浮的可磁誘導的顆粒。如果這些顆粒沉降下來，則關于MR流體控制的凝固 的有效性將降低。

發(fā)明內容
根據(jù)本發(fā)明的第一方面，提供了用于構件的接合裝置，該裝置包括保持一定體積 的磁流變流體的腔并具有可位移的接合元件，一部分MR可位移通過腔中的通道以移動接 合元件，該通道包括腔的變窄部分并具有繞通道相關聯(lián)的磁鐵，作用在通道內的MR流體 上，以將腔內的MR流體的位移保持在接合部件和通道之間。通常，裝置包括多個接合元件。典型地，各接合元件具有其自身的腔?？傮w而言， 各腔允許MR流體在通道中的不同的位移。各個腔和/或各個接合元件或部件可具有不同 的尺寸。總體而言，各腔被柱塞封閉，以在使用中提供MR流體的強制位移?？傮w而言，通道包括腔的接合端和腔的儲存端之間的收縮?？傮w而言，磁鐵是永磁鐵。典型地，裝置包括限定腔的殼體，具有出口以容納接合部件。典型地，出口具有有 效的長度，以引導接合部件移動超過腔。總體而言，接合元件或部件具有帶有形狀的端部。該帶有形狀的端部可以與長部 件成一體，或者由可分離的元件形成。總體而言，接合元件抵抗復位偏置元件而懸在MR流體之上。復位偏置元件可以由 機械彈簧提供。裝置可能包括傳感器來確定長部件的移動，以及器件來記錄長部件的位置。典型 地，各長部件的記錄的位置用于提供使用該裝置所呈現(xiàn)的構件的部分輪廓記錄。長部件的端部可以被膜所覆蓋。典型地，根據(jù)本發(fā)明的方面，提供包括多個以上所述的裝置的設備?？傮w而言，這 些裝置彼此相對以在其間支撐和/或夾持構件。總體而言，裝置設在相應的基底上。各基 底可以相對于彼此位移，以進一步支撐和/或夾持構件?？傮w而言，根據(jù)本發(fā)明的方面的設備可以通過壓或其它接合來提供形成表面以使 構件成形。
另外，根據(jù)本發(fā)明的方面，提供了一種MR流體，其包括最初在三氯甲烷中與月桂 酸組合的聚苯乙烯，NaOH水溶液，以及烴油，該組合被加熱以蒸發(fā)三氯甲烷，以形成基體來 接收懸浮的羰基鐵或其它可磁誘導的顆粒。總體而言，聚苯乙烯的密度優(yōu)選為大約1050Kg/m3?？傮w而言，烴油的粘度的范圍 是1到10000厘泊，并優(yōu)選為75厘泊左右，密度為0. 1到5g/cm3，并通常優(yōu)選為0. 6到0. 9g/ cm3的范圍。典型地，羰基鐵顆粒的尺寸具有1到1000微米的范圍，優(yōu)選為3μπι，密度為從 1到10g/cm3的范圍，優(yōu)選為7. 9g/cm3左右。典型地，MR流體具有的成分包括0. 到10% (重量)的聚苯乙烯，0. 到10% (重量)的月桂酸，0.05%到5% (重量)的氫氧化鈉，5%到95% (重量)的烴油，以及 20%到90% (重量)的羰基鐵顆粒。總體而言，羰基鐵在MR流體中保持為懸浮。另外，根據(jù)本發(fā)明的方面，提供了一種制造MR流體的方法，包括最初在三氯甲烷 中將聚苯乙烯和月桂酸組合，之后添加氫氧化鈉水溶液，同時持續(xù)攪拌，將三氯甲烷和水懸 浮物中的攪拌的聚苯乙烯，月桂酸和氫氧化鈉組合與烴油組合，加熱該組合物以蒸發(fā)三氯 甲烷，并將得到的基體與羰基鐵或其它可磁誘導顆?；旌??？傮w而言，該方法包括添加0. 到10% (重量)左右的聚苯乙烯，0. 到10% (重量)的月桂酸，0.05%到5% (重量)的氫氧化鈉水溶液，5%到95% (重量)的烴油， 以及20%到90% (重量)的羰基鐵顆粒。


下面將參考附圖僅以示例的方式來描述本發(fā)明的方面的實施例，其中圖1是根據(jù)本發(fā)明的方面的裝置的接合組件的透視圖；圖2是圖1所示的裝置的分解視圖；圖3是根據(jù)本發(fā)明的方面的接合裝置的第一實施例的橫截面圖；圖4是包括根據(jù)本發(fā)明的方面的裝置的接合組件的第二實施例的透視圖；圖5是包括根據(jù)本發(fā)明的方面的裝置的接合組件的第三實施例的透視圖；圖6是圖5所示的本發(fā)明的方面的第三實施例的截面圖；圖7是包括根據(jù)本發(fā)明的方面的裝置的接合組件的第四實施例的透視圖；圖8是如圖7所示的第四實施例的橫截面圖；圖9示出了用于有效的MR流體操作的通道形狀的備選方案；圖10是包括根據(jù)本發(fā)明的方面的第五實施例的裝置的接合組件的示意性側橫截 面圖；以及圖11是圖10所示的組件的平面圖。
具體實施例方式如上所述，提供允許保持和夾持并呈現(xiàn)多種規(guī)則或不規(guī)則形狀的構件的接合裝置 需要可重構的性質。根據(jù)本發(fā)明的方面，可重構的性質通過使用已知的磁流變流體并稱為 MR流體來實現(xiàn)。這種MR流體因其性質而為人熟知，并且通常包括可磁誘導顆粒的懸浮物， 其在磁場的影響下，在使用中獲得接近固體的粘度。在這種情況下，流體可以在流體狀態(tài)和基本上固體狀態(tài)之間轉換。這一能力用于多種環(huán)境，對于本發(fā)明的方面，其允許裝置的流體 狀態(tài)調整，以便接合到構件上，然后通過將MR流體或部分流體轉換為固體狀態(tài)而保持該接 合位置。將懂得，一旦獲得初始接觸和保持，則可以通過機械設備將根據(jù)本發(fā)明的方面的裝 置放置在相互可位移的基底段上來加強接合。圖1示意性地示出了根據(jù)本發(fā)明的方面的接合組件100的第一實施例的透視圖。 組件100包括成相對關系的兩個裝置100a，100b,構件103位于其間。裝置100a，IOOb設在 相應的基底部分102上，基底部分102可以相對于彼此而移動，以便在開始時適應構件103 的形狀，并且在使用中為裝置100提供更大的保持力。實際上，裝置100a，IOOb包括夾持塊， 以接合構件103，以允許構件103的組裝或隨后的加工。如圖所示，構件103是翼型或葉片， 但應該懂得，可以適應其它構件。圖2提供了一個裝置IOOa的透視圖的示意性圖示。圖2中的圖示是分解視圖，其 中，裝置IOOa顯示為具有包括與中間塊2和側塊3相關聯(lián)的基塊1的殼體，中間塊2和側 塊3全部用螺母5和螺栓4夾持在一起，以便形成根據(jù)本發(fā)明的方面的合適的腔。在殼體 內，滑塊6和永磁鐵7布置在位置上，以便作用在通道上，用于在基本上封閉的腔內調節(jié)MR 流體的移動或位移。在這種情況下，各中間塊6的出口 20具有形式為銷9的接合元件或部 件。在延伸通過中間塊2的腔的另一端使用推銷或元件11。在這種情況下，延伸通過中間 塊2的腔包含MR流體。MR流體位移以造成部件9的移動。在這種情況下，接合元件9的端 部將取決于構件的輪廓而接合該構件。在這種情況下，各元件9將不同地移動以接合構件 表面的某些相對的部分。MR流體的加壓將由推銷11保持。然而，根據(jù)本發(fā)明的方面，更重 要的是，對于各個接合元件，磁鐵7將作用于在腔的部分之間延伸的通道或其周圍，以便限 制MR流體的移動。在這種情況下，在位移至接合的同時，MR流體將由于永磁鐵作用于通道 而受到限制，因此，接合元件的位置基本上被保持。如圖所示，裝置IOOa由塊的組裝而形成，以便于制造。在這種情況下，將懂得，通 常，通過在腔的出口 20中為各個接合元件9使用合適的密封件，諸如0形環(huán)密封件10來保 持MR流體。事實上，在這種情況下，通過由銷11的機械位移或其它方式而獲得的加壓來封 閉腔，直到由接合元件9的端部適當接合到構件上。可包括螺紋位移件或另一個致動器的 加壓機構可保持MR流體的加壓，但根據(jù)本發(fā)明的方面，總體而言，由于通道內降低的體積 而由磁鐵7造成的MR流體的凝固具有鎖定效果，該通道在塊中限定了腔的接合端部和腔的 儲存部之間的分離。將懂得，由于通道在腔內包括變窄的部分，因此，當磁鐵7插入時，磁鐵7作用在減 小的體積的MR流體上。在這種情況下，通常，對于磁鐵7可以使用簡單的永磁鐵，對通道中 的減小體積的MR流體具有有效的和更集中的作用。在這種情況下，如果磁鐵不被完全移 除，則銷11可作用以克服MR流體在通道中的部分凝固，以便造成MR流體的位移，用于接合 元件9的移動。將懂得，磁鐵7的部分移除將降低磁場的強度，并因此降低通道中的流變 (MR)效應。在這種情況下，在使用中，銷11將通過接合元件9的移動而形成用于調節(jié)的過 壓。這種方法可能不會過于有效，在這種情況下，可能有必要通過MR流體的移動以及之后 在使用中重新定位磁鐵7而在初始調整過程中提供磁鐵7的完全滑動位移，以便作為“鎖”， 作用在通道中的MR流體上，以便防止MR流體返回腔的儲存部，以便在使用中保持接合元件 9的位置。
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如圖1和圖2所示，根據(jù)本發(fā)明的方面的裝置100總體上包括多個單獨的接合元 件9，其空間上布置為在使用中通過元件9的端部形成與構件的接觸。裝置中所使用的元件 9的數(shù)量取決于操作要求。另外，將懂得，特別是接合部件或元件9的端部之間的間距將是 與裝置在使用中支撐和呈現(xiàn)構件的可接受性有關的重要因素。端部通常是圓的。端部可以 是與構件一體的，或者由可以分開地連接的端帽形成，這取決于在使用中將由裝置接合的 具體構件。為了進一步有利于分散負荷，可以使用膜來在接合部件9的端部上伸展，用于使 由構件的輪廓施加的負荷平滑。盡管接合元件9被顯示為圓柱形元件，但應該懂得，可以使用其它形狀，并且提供 正方形橫截面形狀可在使用中允許更緊密的連接和負荷分布。在圖2中，可以注意到，兩個側塊3位于各端，六個滑動塊6在它們之間，以容納三 個永磁鐵，在使用中，每個永磁鐵可位移到作用于通道的位置，使用滑動桿8限制MR流體流動。圖3是如圖2所示的裝置的示意性橫截面圖。因此，構件103由相應的裝置100a， IOOb中的接合部件9來接合。在這種情況下，裝置100在相對的位置上，因此在中間夾住構 件103。各元件9由柱塞11的柱塞作用而在各對應的腔內相對位移。柱塞11使流變(MR) 流體50位移，以便使接合元件9的端部與構件103接合。如之前所述，側塊3設在各個相 應的裝置100中，中間塊2限定了出口 20，接合部件或元件9延伸通過出口 20。在這種情 況下，MR流體50的位移造成接合元件9的移動。在最初建立期間，元件9的端部將通過流體50的機械加壓而接合構件103。通過 磁性元件7作用在形成于腔中間位置的通道30而保持流體50的定位。如上所述的通道30 位于各相應的腔的儲存段31和接合段32之間。顯然，當不受到磁力時，柱塞11 (通常是銷 的形式)的位移將造成流體50移動和流動。因此，在通道30的任一側，MR流體的體積都 是變化的。然而，MR流體在通道30中的量將基本是不變的并且是較小體積。在這種情況 下，通常，各永磁鐵7可以作用在通道30內的流體50，以便對在通道30內流動的流體形成 相對穩(wěn)定的阻力。在這種情況下，通過相應的磁鐵7作用在各通道30內的MR流體50上而 保持接合元件9的定位。如上所述，在磁場影響下的MR流體50將“凝固”，因此，在通道30內凝固的MR流 體50將堵住腔。在這種情況下，在使用中，在通道30和接合元件9的最后部之間的腔內的 MR流體50a的體積基本上被保持，以呈現(xiàn)元件9。至少在很大程度上由于來自磁鐵7的磁 場的作用，體積50a的大部分將不會凝固。在這種情況下，通道30之外的該流體50a可能 仍是相對流體的。所保持的流體性有一個程度。在這種情況下，為了保持流體50a，合適的 密封件(典型地是0形環(huán)密封件51的形式)將成組地設置在接合元件9的端部。為了呈現(xiàn)接合元件9，將懂得，期望能夠約束并引導其運動。在這種情況下，通常將 設置端板14。該端板14將限定出口 20并使其延伸，使得通過對接合元件9的肩部的適當 的接合，在MR流體50的位移作用下可以引導接合元件9的基本上橫向或軸向的運動。在 這種情況下，通過提供比較剛性的和不易彎曲的接合元件9，通過不同地位移的和間隔的接 合元件9而在相應的接觸點獲得對構件10的平面接合。如上所述，接合元件9通常包括可以是整體的或分開連接的端部，其具有對應于 期望的構件103的輪廓的合適形狀。如所示，該端部形狀通常是圓頂形，其彎曲的角度適合
8于將要接合的構件表面的彎曲。接合元件的端部的可選形狀可包括金字塔形或尖頂形，以 及提供柔性的端部以適當?shù)亟雍掀浔砻?。如所述的，膜可以與可位移的接合元件9的端部 固定連接，或者作為分開的襯墊鋪設在這些元件上，以便進一步分散負荷以及提高構件的 接觸點的剛度，在接觸點上構件可能由于過度的壓力而損壞。本發(fā)明的方面限制了由磁鐵7所作用的MR流體的體積，因此，如所述的，通常，僅 需要正常的永磁鐵通過使通道30內的MR流體凝固而保持MR流體50的位置。通道30和 接合元件9的最后部之間的腔的接合部將在使用限定裝置100的保持強度。將懂得，流體 50a仍是流體的，因此，在過度的負荷下可能是可壓縮的，但這增加了減振效果。但是，為了 進一步地增加對構件103的負荷，相應裝置100a，IOOb可位于基底元件上，這些基底本身可 以機械地向內或向外移動，以便形成元件9對構件103的更大接合。如所述的，在使用中，腔通常是封閉的，以便MR流體可以被適當?shù)刈饔?。將懂得?希望在腔內的MR流體50內避免出現(xiàn)氣泡。氣泡或其它氣體將是可壓縮的，因此，可以改變 裝置在產生接合元件9對構件103的接合壓力方面的有效操作。在這種情況下，通常，各腔 將被充滿，并且提供密封件或塞13以保持封閉性質?？梢蕴峁┩L孔，該通風孔通常由有 重量的帽封閉，該帽由MR流體的開始加壓而升起。腔可包括在任何情況下釋放空氣的通風 孔?？晌灰频匿N11的形式的致動器可與裝置100的后板114連接。在這種情況下，由 柱塞或銷11所提供的致動器能夠保持腔內的MR流體，該MR流體將保持接合元件或部件9 的位置。在這種情況下，為了適當?shù)刈枞ǖ?0，考慮到僅需要在腔的接合側保持流體的體 積，包括MR流體50a的體積，可以減小磁鐵7的強度，以在使用中保持接合部件9的位置。除了用于MR流體的強制位移的棘齒或螺紋保持裝置之外，將懂得，可以為所有的 或單個的銷或柱塞11的形式的致動器和/或各接合元件9提供機械鎖定。將認識到，為了確保避免在使用中可能會影響到MR流體的操作的氣泡或水的污 染，裝置的組裝是重要的。在這種情況下，組裝將包括初始的徹底的清潔和干燥設備以避免 水污染。然后，柱塞或推銷和接合元件將以合適的密封裝到裝置中，以確保和避免之后的 MR流體的泄漏。將懂得，限定了腔的中間塊本身將被很好地清潔并填充合適的磁流變流體 (MR流體)。如所述，為了獲得最大夾持力，通常，MR流體要被加載為確保系統(tǒng)基本不含空 氣。避免空氣污染的一種方法如下進行a)在中間塊2中在腔的一端封閉通風孔(未示出)，從孔的另一側填充，直到腔被 充滿，插入夾銷(接合元件)9并慢推，直到流變流體到達中間塊的另一端，用MR流體50填 充腔的第二段，直到腔被完全地充滿；b)支撐該裝置并插入柱塞或推銷11 (致動器)，直到MR流體50在另一端流出通 風孔，也就是說，腔被泄放，以確保它是被充滿的；c)封閉通風孔。通過對各個腔重復上述過程，將懂得，能夠避免氣封。一旦MR流體50位于腔內， 將懂得，其它構件可定位或夾持在合適的位置。以上所述的實施例僅是以示例的方式提供的。下面參考圖4至圖8來描述備選實 施例。圖4示出了本發(fā)明的方面的第二實施例，其在操作上類似于以上參考圖1至圖3所描述的實施例。如之前所述，推銷211形式的致動器作用于固定到基底202的相應的裝 置200a，200b中。套筒212被限定為連接裝置200a，200b的各部分，使得柱塞或位移銷211 形式的致動器在各腔(未示出)的一端，接合元件209在另一端，以允許裝置200a，200b的 元件209之間在箭頭A方向上的相對橫向或軸向位移。如之前所述，各基本上對齊的致動 器或柱塞211的腔在腔(未示出)內產生MR流體位移或移動，使得接合元件209位移。通 道(未示出)，通常是各套筒212的一部分，與磁鐵相關聯(lián)。在這種情況下，通過柱塞或銷 211的運動而獲得相應的接合元件209的初始位移，然后，通過由磁鐵對套筒212所限定的 腔的通道內的MR流體的作用而保持其位置。圖5和圖6圖示了本發(fā)明的第三實施例。操作過程與之前所述的相似，操作的原 理涉及到初始對MR流體350的加壓，使得接合元件309位移為與工件或構件303接合。對腔限定通道，通過對通道內的MR流體350施加磁力而實現(xiàn)接合部件或元件的位 置的保持。在第三實施例中，成組的通道使用推銷或柱塞309，與腔的接合部和接合元件相 關聯(lián)。因此，不是如之前的裝置那樣對每個單獨的腔使用單個的推銷或致動器柱塞，而是成 組的腔配置為初始定位接合元件，然后磁性元件作用以凝固通道內的MR流體，因此保持腔 的接合部內的流體體積，因此，保持各接合元件對構件303的位移的位置。圖6提供了根據(jù)本發(fā)明的第三方面的兩個接合裝置300a，300b的橫截面。因此， 所示出的各裝置300呈現(xiàn)接合元件309以接合構件303。裝置300a，300b位于相對的位置， 并且通常固定在基底上。中間塊302限定腔，MR流體350位于該腔內。如之前所述，各腔 被填充，以避免氣泡，并且在這種情況下，通常包括塞313以允許流體350進入裝置300。根 據(jù)如圖6和圖5所述的第三實施例，包含MR流體350b的組合的初始儲存腔延伸到各接合 元件309所對應的通道330。在這種情況下，各通道在一側具有腔的儲存部，并在另一側具 有包含MR流體350的接合部。通過位移以及因此增加在接合部內的MR流體的體積，從而 各接合元件309位移與構件303的相對部分接合。MR流體的位移通過銷或柱塞311來實現(xiàn)，銷或柱塞311使MR流體正位移通過通道 330，以改變MR流體在接合部中的體積。一旦接合元件309與構件303接合，將懂得，磁鐵 307將保持接合部中的流體的體積，包括MR流體350a，因此，保持接合元件309的位置。圖 6中所述的裝置的優(yōu)點在于，可以使用單個致動器311來使流體350位移，因此，在使用中， 可以對所有的元件309進行一致的調節(jié)。然而，根據(jù)本發(fā)明的方面，由于磁鐵307直接地連 接在通道330的周圍，由磁鐵307所產生的磁場的作用基本上都作用在通道中減小的體積 的MR流體上，因此，在使用中，形成了有效的“塞”，保持了 MR流體350a體積，以及保持了接 合元件309的位置，而不需要使用強的較大的磁鐵。從前述內容可以注意到，MR流體保持在封閉的腔中是很重要的。在這種情況下， 通常，銷的形式的致動器311將包括諸如位于由塊302所形成的套筒中的0形環(huán)密封310 的合適的密封件，以確保MR流體保持在裝置300內。如之前所述，可以注意到，通常提供前 板314以獲得與接合元件309的側部的接合，用于將接合元件309軸向地向構件303引導 和呈現(xiàn)?？墒褂煤蟀逡韵薅ò琈R流體的儲存器，該MR流體可位移通過通道330，進入腔 的接合部，以在使用中保持各接合元件309的定位。圖7和圖8示出了本發(fā)明的方面的第四實施例，其可視為圖5和圖6所示的第三 實施例的變型。不在圖7和圖8所示的實施例中使用后表面橫向柱塞運動，而是使用后表面軸向運動。在這種情況下，如前所述，兩個裝置400a，400b以相對關系設置，構件403保 持在接合元件409之間。在操作方面，如之前所述，裝置400典型地位于基底402之上，基 底402可包括裝置440，用于裝置400a，400b的相對位移，因此，在元件409之間增加了定位 壓力。在使用中，如之前所述，圖7和圖8所示的第四實施例在各裝置400中限定了包括 MR流體450的腔。MR流體450b存在于腔的儲存部，而在通道430的另一側，充滿MR流體 450a的各腔內的接合部與接合元件409連接，并在使用中造成接合元件409位移。在這種 情況下，通常是帽411形式的致動器在箭頭B的方向上位移，以提高或降低各個接合部中的 MR流體450的體積。流體450被強制通過通道430，以造成相應元件409的位移。這些元 件409然后將接合構件403的表面部。然后，磁鐵407作用在通道430內減小體積的MR流 體上，以便保持腔的接合部內的MR流體450a的體積，從而保持元件409的位置。如之前所 述，致動器411可以通過與殼體450的其它部分的接合而保持其位置，該致動器411限定了 到限定在殼體450內的腔的孔。通常，還提供排氣孔413以確保位于殼體450內的MR流體 在腔內不含氣泡，以降低污染問題，從而總體上增強裝置400能夠獲得夾持力的可靠性。如 之前所述，前板414將作為元件409的引導件。通常，之前所述的磁鐵407將被支撐在滑塊406上，滑塊406可以移進或移出殼體 450，以便位于滑塊406之上的磁鐵407接合在通道430周圍，以便在獲得元件409的定位 之后限制MR流體的運動。如之前參照圖2所述，磁鐵407將以合適的南北定向定位在滑塊 上，以限定通道403中的磁場，以在MR流體中產生必要的“凝固”，以有效地阻止在通道430 中的流動，從而保持MR流體450a在按照本發(fā)明的方面所限定的腔的接合部中的體積。如以上所述，實際上可以提供MR流體的儲存器，永磁鐵作用在該儲存器的不同部 分，以便提供流變效應。在這種情況下，磁鐵將僅作用在MR流體在通道內的部分，以阻止在 通道內的交換，從而保持接合元件的位置。如以上所述，根據(jù)本發(fā)明的方面的磁鐵對于各通道中的MR流體的減小的體積有 特定的效果。MR流體的體積越小，通常允許使用強度越小的永磁鐵來操作。永磁鐵是滑入 位置的。在這種情況下，通道的特定形狀對于作用在MR流體上的效果的有效性是很重要 的。作用在MR流體上的磁效果的有效性可以通過其抗屈強度來衡量，該抗屈強度衡 量施加磁場所形成的結構的強度。在給定的裝置中，抗屈強度依賴于MR流體的材料含量、 磁場強度和通道的設計。對于如圖9所示的給定的設計，最大抗屈強度來自磁極相互作用 力和有效流體體積區(qū)域中的摩擦力。圖9在圖3至6中給出了通道形狀的變型。圖9a示出了所施加的磁場將作用于其周圍的簡單的正?？?。在這種情況下，構造 效應不會影響所產生的磁場，但材料的體積相比腔的其余部分將減少，從而與整個腔相比， 通道內的抗屈強度密度將增加。圖9b示出了錐形，將意識到，依賴于錐形的方向，可以產生磁場的定向和存在所 要求的更大的抗屈強度。類似地，對于圖9c，圖9d和圖9e，橫截面形狀的改變包括如圖9c 所示的彎曲狀，圖9d所示的階梯狀和圖9e所示的螺紋孔狀，能夠改變它們的抗屈強度，因 此改變磁場調節(jié)MR流體流過通道的有效性，因此在腔的接合部內的MR流體的作用下保持接合元件的位置。在這種情況下，獲得MR流體的抗屈強度的增加。實際上，如圖9所示，有 效流體體積在通道中改變了。將懂得，通過提供如上所述的通道和裝置，通常，多個構件可以以相對的配置被支 撐。構件在三個維度上可以不同。在這種情況下，簡單的相對排的接合元件可能是不足夠 的。因此，如上相對于之前的實施例所述，通常，接合元件表現(xiàn)為沿列和行延伸的矩陣形式， 以便提供與構件的豎直以及水平的接合點。在這種情況下，MR流體可以之前描述的多種方 式存在，主要是從后部的儲存段水平地通過通道到達接合元件，其中，腔的接合部保持一定 體積的MR流體用于呈現(xiàn)接合元件。如圖10和圖11所示的另一個可選方案顯示了在磁性元 件之間的豎直列的MR流體。在這種情況下，磁性元件將作用在豎直列的MR流體上，因此， 該豎直列將是根據(jù)本發(fā)明的方面的通道。圖10和圖11所示的接合組件1000包括多個位于腔殼體1006內的磁性元件1007。 MR流體1050位于組件1000內，具體地說是位于裝置1000a，IOOOb中，通過輸入端口 1011 中的孔1013到達裝置1000a, 1000b。MR流體1050沿著磁性元件1007之間的列向上延伸， 進入接合元件1009后面的腔部。接合元件1009通過儀器板1014而朝向構件1003。接合元件1009通過儀器板1014，其帶有密封件1010，通常以0形圈的形式提供， 以確保MR流體保持在組件1000a，1000b的接合腔部中。在各組件1000a，1000b中的MR流體的直立的或列部分1050a與磁性元件1007相 關聯(lián)，以便有效地阻塞裝置1000a，IOOOb內的MR流體并保持其體積。磁性元件是彼此間 相關聯(lián)的較小的永磁鐵，以便產生根據(jù)本發(fā)明的方面的對MR流體的作用。如之前所述，通 常，在需要時，磁性元件1007滑入位置中。在這種情況下，構件1003可以位于相對的裝置 1000a，IOOOb之間，其中，MR流體通過入口 1113，并且一旦定位，則構件1003使塞保持定位， 以防止MR流體進一步流入或流出。然后，磁性元件1007將位于合適的位置以便有效地阻 止MR流體流過直立的列部分1050a，從而保持與接合元件1009接合的MR流體的體積，以便 將元件1009保持在通常是與被保持的構件1003抵靠的位置上。在如上相對于圖10和圖11所述的第五實施例中，將懂得，提供了單個的MR流體 輸入端口，在磁性元件1007之間限定了通道，從而可以獲得元件1007和MR流體之間更緊 密的接觸。另外，在磁性元件1007之間提供的間隙有效地限定了根據(jù)本發(fā)明的方面的通 道，并且在這種情況下，這些通道可以被形成為更薄，但與磁性元件1007相關聯(lián)的更大深 度，從而在使用中可以對MR流體有更大的作用。本發(fā)明的方面尤其涉及使用相對較小的永磁鐵，以便形成用于接合構件的有效接 合裝置。在各裝置內形成為矩陣形式的接合元件的初始定位是通過MR流體的加壓實現(xiàn)的。 使用磁鐵在各通道中的減小的體積上形成磁場，從而獲得阻塞效應。阻塞效應保持了各通 道和相應的銷的后部之間的接合部內的MR流體的定位和體積，這些銷限定了根據(jù)本發(fā)明 的方面的接合元件。由于阻塞了通道，將懂得，MR流體對接合元件的限制確保了在使用中 保持位置。如到現(xiàn)在為止所述，各接合元件在長度和端形狀方面基本上是相同尺寸和配置。 然而，將懂得，取決于所期望的構件的形狀，在特定的組件中可以使用不同尺寸或形狀或其 它方面不同的接合元件。然而，這將與提供幾乎不需要修改就可以廣泛地使用的廣義上的 模塊化接合裝置的目標相違背。將懂得，如上所述，各腔，具體而言是所限定的腔的各接合部基本上是如所述的相同體積。在一些情況下，在裝置的不同部分提供不同的體積可能是 有利的。例如，外接合部或更末梢的接合部在由接合元件所接合的流體體積方面可以具有 更大或更小的尺寸。將懂得，如果腔的接合部與其它接合部相比體積更大，則通?？赡塬@得 接合元件更強力或不那么有力的移動，反之亦然。通常，如所示，從腔的儲存部到腔的接合部的通道基本上是直的。然而，可以使用 彎曲的或不同的橫截面的通道。另外，通道可以從一端到另一端逐漸變窄，以便集中磁場效 應，以便在使用中在通道中形成阻塞。通常，根據(jù)本發(fā)明的方面的接合元件將是固體的并且是剛性的。如上所述，根據(jù)本發(fā)明的方面，除了通過使用磁場作用在通道中的MR流體上獲得 位置的保持之外，接合元件可包括輔助機械鎖定件。在使用MR流體流進行初始定位和利用 磁場阻塞通道之后使用輔助鎖定件。如以上所述和所示，在使用中，根據(jù)本發(fā)明的方面的接合裝置可尤其被使用以便 提供對構件的夾持或類似虎鉗的保持。或者，構件可以簡單地呈現(xiàn)和支撐在根據(jù)本發(fā)明的 方面的接合元件上，其中，構件的重量小于重力保持位置。在這種情況下，接合元件的端部 將在構件的整個表面上接合構件的各部分，因此，在使用中降低變形的可能性。初始，構件 可以是豎直狀態(tài)，接合元件接合其表面，然后，整個組件轉到水平狀態(tài)，使得構件支承在各 個接合元件的端部。根據(jù)本發(fā)明的方面，使用的接合元件的數(shù)量將取決于操作要求和產生足夠穩(wěn)固的 接合的能力。元件在空間和力學方面都是緊密關聯(lián)的，以限定各個接合部，這些接合部具有 足夠體積來限定接合元件位置。這種位置可以通過磁場對通過通道的MR流體流的阻塞來 保持。顯然，更多的接合元件意味著更多的接觸點，使構件被保持以及被支撐。還將懂得， 在這種裝置中，通道可以更窄，從而需要更弱的磁力和磁場來在需要時有效地阻塞通過通 道的MR流體流。如以上原理所示，根據(jù)本發(fā)明的方面，通過限制磁鐵元件所作用的通道的體積和 尺寸，可以獲得更有效的操作。另外，為了改善性能，將懂得，可以調整孔的尺寸和大小以及 通道的形狀。如以上參照圖9及其它所示，取決于要求，通道可以是不同的幾何結構并且可 以從一端到另一端逐漸變窄。顯然，根據(jù)本發(fā)明的方面，將MR流體引入裝置和組件是很重要的。重要的是，MR流 體基本不含可壓縮的氣泡，諸如空氣或其它氣孔，在這種情況下，必須認真對待裝置(特別 是通道)的排氣，以避免在該通道中保持氣泡。將認識到，氣泡是可壓縮的，因此會降低由 磁場根據(jù)本發(fā)明的方面所產生的阻塞作用的強度。除了通道的形狀之外，裝置的其它部分 也可以配置為控制MR流體流和磁場作用。這些部分包括保持MR流體的腔。還將懂得，必 須認真對待填充順序，以利用氣泡的重力和浮力，以確保氣泡不會保持在MR流體中。還將懂得，如所示，構件可以是多種形狀和尺寸。在這種情況下，根據(jù)本發(fā)明的方 面，組件和裝置可以被設計為它們能夠以模塊的方式組合，以形成更大的接合裝置和組件， 以在需要時用于不同尺寸的構件。以上所述的本發(fā)明的實施例特別適合于這種模塊性。如以上所述，通過限制磁場所作用的MR流體的體積，本發(fā)明的方面能夠獲得對可 重構的接合裝置的更好的控制。在這種情況下，可以更為方便地使用更小的永磁鐵。然而， 在這種情況下的一個因素是MR流體的響應特性應該保持不變或至少保持在可接受的水平以上。將懂得，對于之前的裝置，使用了相對較大的電磁場，MR流體的退化將會更好地被適 應。根據(jù)本發(fā)明的方面，對于封閉的腔和MR流體的體積，必須更為注意MR流體以保持其流 變能力。MR流體可保持在囊或吸塑中，以防止空氣或水污染。囊或吸塑可以充滿整個腔或 承座在通道中，其它的流體或流體組合填充腔的剩余部分。另外，根據(jù)本發(fā)明的第二方面，描述了一種MR流體，其更適合于如以上相對于接 合裝置所描述的本發(fā)明的方面。將懂得，MR流體通常是通過流體基體中分散的羰基鐵顆粒 來獲得其磁流變功能。這些羰基鐵顆粒必須保持懸浮，從而盡可能長時間地維持基本均質 的性質。如果顆粒從懸浮沉降為沉降物，則顯然，MR流體的作用將減弱。如果這種沉降發(fā) 生在通道內，則與之前的裝置相比，物理顆粒建立起的阻塞將也會導致限制操作性能。根據(jù)本發(fā)明的第二方面，提供的MR流體是通過聚合物基體(烴混合物)的合成而 獲得的。通常，利用磁攪拌過程將密度為1050Kg/cm3左右范圍的聚苯乙烯分散在適當體積 的三氯甲烷中。類似地，在磁攪拌作用下，特定體積的月桂酸分散在適當量的三氯甲烷中。 兩種溶液然后適當?shù)財嚢璧揭黄穑钡骄郾揭蚁┖驮鹿鹚嵬耆厝芙庠谌燃淄橹?。一?這種溶解發(fā)生，兩種溶液都被轉移到單個的燒杯中，進行連續(xù)的磁攪拌過程。氫氧化鈉然后 溶解在水中，在連續(xù)的磁攪拌的作用下，一滴一滴地分散或以其它適合的漸進過程分散。通 常，在一段時間(例如，兩分鐘)之后，磁攪拌被機械攪拌器所代替，混合物被以2000rpm進 行適當攪拌，以便形成適當?shù)幕w。最后，在連續(xù)的機械攪拌下，具有在1至10000厘泊范 圍(典型地為75厘泊)的粘度和0. 1至5g/cm3范圍的密度(優(yōu)選0. 6至0. 9g/cm3左右的 密度)的所需量的烴油添加到基體中，以完成適當?shù)幕w/烴油混合物的合成。一旦形成 基體混合物，則混合物通常被加熱到60°C左右一段時間(典型地是48小時左右)，以便蒸 發(fā)掉三氯甲烷。通過以上過程，獲得適當?shù)幕w，其可用于獲得特定的應用中所需的MR流體。通 常，通過在基體中分散已知尺寸和密度的羰基鐵或其它可磁誘導顆粒來產生MR流體。典型 地，根據(jù)本發(fā)明的方面，這些羰基鐵顆粒具有大約1至1000 μ m (例如3 μ m)的尺寸，和1至 lOg/cm3范圍內(典型地是7. 9g/cm3左右)的密度。通過適當?shù)臄嚢瑁軌颢@得均質的混 合物。典型地，該攪拌將發(fā)生于2000rpm，進行大約5分鐘。一旦制備好，MR流體可以用于 如上所述的接合裝置。盡管是有益的，但通常不需要對于根據(jù)本發(fā)明的方面的接合裝置使用定制的MR 流體。以多種方式合成的磁流變流體可以用于接合裝置中。相反，將懂得，提供定制的MR 流體可允許在使用中更為一致的操作，獲得更大的穩(wěn)定性。除了所描述的接合裝置之外，以 上所述的MR流體還可以用于多種應用中。例如，由于MR流體在使用中的非常慢的沉降速 率和因此而產生的低的退化率，MR流體可用于減振器。將懂得，MR流體可以應用于多種情 況下，包括振動吸收器和減振設備，以及離合器，制動器，致動器和人工關節(jié)。將懂得，在這 種情況下，MR設備通常在更快的響應，改善的性能和設計的簡單以及典型地降低成本方面 具有優(yōu)勢。在根據(jù)本發(fā)明的方面的接合裝置中應用的磁流變流體可以基于分散在適當?shù)牧?體載體基體中的鐵磁性或順磁性顆粒。合適的可磁誘導顆粒包括鐵，鐵合金，鈷，鎳，釩，氧 化鐵，鈷和鈷合金，鎳和鎳合金，羰基鐵，碳化鐵，氮化鐵以及任何其它合適的材料。將懂得，MR流體中所使用的顆粒的尺寸以及它們在總體的MR流體分散液中的體積分數(shù)對磁流變流體的性質有很大影響。顆粒的尺寸應該選擇成使得顆粒受到所施加的磁 場作用時，顆粒表現(xiàn)出多磁疇特性?？偟膩碚f，可以使用直徑大于0.1 μ并且小于或等于 1000 μ的顆粒。然而，優(yōu)選直徑大于10 μ但小于100 μ的顆粒。典型的MR流體包括體積 分數(shù)為5%至50%的磁顆粒。重要的是，由載體流體所限定的用于MR流體的基體是合適的?？偟膩碚f，使用有 機流體，尤其是非極性有機流體。大多數(shù)常用的載體流體是合適的，其包括但不限于，硅油， 礦物油，石蠟油，烴油，水和硅共聚物。粘度是MR流體中的油的最重要的性質之一。在這種 情況下，粘度大于1厘泊并小于100000厘泊的流體可以被使用，然而，通常，粘度大于250 厘泊并小于1000厘泊的流體是優(yōu)選的。為了擴展適用性，通常，若干種添加劑或穩(wěn)定劑被添加到MR流體中。在使用中，這 些添加劑將提供對基體懸浮物中的相對稠密的磁性顆粒的沉降的抵抗，添加劑還可帶來改 善的耐久性和抗腐蝕性。根據(jù)本發(fā)明的方面的MR流體可以使用大多數(shù)常見的添加劑，包括 分散劑，緩蝕劑，抗氧化劑，羧酸皂和觸變劑。本發(fā)明的方面提供了用于多種產品類型的模塊化的裝置和通過對于帶有不同的 構件的不同接合裝置降低設計、工程、制造和購買要求而帶來的潛在的優(yōu)勢。另外，可以對 將要接合的特定構件而調節(jié)夾持力。本發(fā)明的方面通過夾持基底的移動來提高對構件的夾 持力的能力。本領域技術人員將懂得本發(fā)明的方面的變型和修改。因此，盡管示例性地描述了 永磁鐵，但將懂得，在一些情況下，可以使用小的電磁鐵。
權利要求
1.一種用于構件的接合裝置，所述裝置包括保持一定體積的磁流變流體的腔并具有可 位移的接合元件，一部分MR可位移通過所述腔中的通道以移動所述接合元件，所述通道包 括所述腔的變窄部分并具有繞所述通道相關聯(lián)的磁鐵，以便作用在所述通道內的MR流體 上，以將所述腔內的MR流體的位移保持在所述接合部件和所述通道之間。
2.如權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述裝置包括多個接合元件。
3.如權利要求1或2所述的裝置，其特征在于，各接合元件具有其自身的腔。
4.如權利要求1，2或3所述的裝置，其特征在于，各腔允許MR流體在所述通道內的不 同的位移。
5.如以上權利要求中的任一項所述的裝置，其特征在于，各腔和/或各接合元件或部 件具有不同的尺寸。
6.如以上權利要求中的任一項所述的裝置，其特征在于，各腔被柱塞封閉，以便在使用 中提供MR流體的強制位移。
7.如以上權利要求中的任一項所述的裝置，其特征在于，所述通道包括腔的接合端和 腔的儲存端之間的收縮。
8.如以上權利要求中的任一項所述的裝置，其特征在于，所述磁鐵是永磁鐵。
9.如以上權利要求中的任一項所述的裝置，其特征在于，所述裝置包括限定所述腔的 殼體，具有出口以容納所述接合部件。
10.如權利要求9所述的裝置，其特征在于，所述出口具有有效的長度，以引導所述接 合部件移動超過所述腔。
11.如以上權利要求中的任一項所述的裝置，其特征在于，所述接合元件或部件具有帶 有形狀的端部。
12.如權利要求11所述的裝置，其特征在于，所述帶有形狀的端部可以與長部件成一 體，或者由可分離的元件形成。
13.如以上權利要求中的任一項所述的裝置，其特征在于，所述接合元件抵抗復位偏置 元件而懸在MR流體之上。
14.如權利要求13所述的裝置，其特征在于，所述復位偏置元件由機械彈簧提供。
15.如以上權利要求中的任一項所述的裝置，其特征在于，所述裝置包括傳感器來確定 所述長部件的移動，以及器件來記錄所述長部件的位置。
16.如權利要求15所述的裝置，其特征在于，所述各長部件的記錄的位置用于提供使 用所述裝置所呈現(xiàn)的構件的部分輪廓記錄。
17.如以上權利要求中的任一項所述的裝置，其特征在于，所述長元件的端部由膜覆蓋
18.—種參考附圖所述的用于構件的接合裝置。
19.一種組件，包括多個如上述權利要求中任一項所述的裝置。
20.如權利要求19所述的組件，其特征在于，所述裝置彼此相對，以便在使用中在所述 裝置之間支撐和/或保持構件。
21.如權利要求19或20所述的設備，其特征在于，所述裝置位于基底上。
22.如權利要求21所述的設備，其特征在于，所述基底可位移，以允許各裝置相對于彼 此移動，以便在使用中進一步支撐和/或保持構件。
23.一種磁流變(MR)流體，包括最初在三氯甲烷中與月桂酸組合的聚苯乙烯，NaOH水 溶液，以及烴油，該組合被加熱以蒸發(fā)三氯甲烷，以形成基體來接收懸浮的羰基鐵或其它可 磁誘導顆粒。
24.如權利要求21所述的流體，其特征在于，聚苯乙烯的密度大致為1050kg/m3。
25.如權利要求23或M所述的流體，其特征在于，烴油的粘度的范圍是1到10000厘 泊，并優(yōu)選為75厘泊左右，密度為0. 1到5g/cm3，并典型地優(yōu)選為0. 6到0. 9g/cm3的范圍。
26.如權利要求23至25中任一項所述的流體，其特征在于，羰基鐵或其它可磁誘導顆 粒具有1到1000 μ m范圍的尺寸，優(yōu)選為3 μ m，密度為從1到lOg/cm3的范圍，優(yōu)選為7. 9g/ cm3左右。
27.如權利要求23至沈中任一項所述的流體，其特征在于，MR流體具有的成分包括 0. 到10% (重量)的聚苯乙烯，0. 到10% (重量)的月桂酸，0.05%到5% (重量) 的氫氧化鈉，5%到95% (重量)的烴油，以及20%到90% (重量)的羰基鐵及其它可磁誘 導顆粒。
28.如權利要求23至27中任一項所述的流體，其特征在于，羰基鐵或其它可磁誘導顆 粒懸浮地保持在MR流體中。
29.一種參考附圖所述的磁流變流體。
30.一種制造磁流變流體的方法，包括最初在三氯甲烷中將聚苯乙烯和月桂酸組合， 之后添加氫氧化鈉水溶液，同時持續(xù)攪拌，將三氯甲烷和水懸浮物中的攪拌的聚苯乙烯，月 桂酸和氫氧化鈉組合與烴油組合，加熱該組合物以蒸發(fā)三氯甲烷，并將得到的基體與羰基 鐵或其它磁可誘導顆?；旌?。
31.如權利要求30所述的方法，其特征在于，所述方法包括添加0.1%到10%(重量) 左右的聚苯乙烯，0. 到10% (重量)的月桂酸，0.05%到5% (重量)的氫氧化鈉水溶 液，5%到95% (重量)的烴油，以及20%到90% (重量)的羰基鐵或其它可磁誘導顆粒。
32.—種參考附圖所述的制造磁流變流體的方法。
全文摘要
以能夠重構的接合裝置理想地進行構件的位置保持和夾持。磁流變(MR)流體已經(jīng)用于可重構接合裝置，但通常要求強力的電磁鐵來致動MR流體。通過提供在腔的儲存部(31)和腔的接合部(32)之間帶有通道(30)形式的收縮的封閉腔，可以使用更小的永磁鐵(7)作用在通道中更小的體積的MR流體上。在這種情況下，通過柱塞或銷(11)的形式的強制位移來提供接合元件(9)的初始定位，然后，通過定位通過和繞通道(30)的磁場以產生有效阻塞保持MR流體體積來保持接合元件位置，從而呈現(xiàn)接合元件(9)。為了獲得這種性能，具有適當?shù)男阅芎湍途眯缘腗R流體是必要的。在這種情況下，根據(jù)本發(fā)明的其它方面，還描述了特定的磁流變流體。
文檔編號B25B1/24GK102083590SQ200980120927
公開日2011年6月1日 申請日期2009年4月2日 優(yōu)先權日2008年4月3日
發(fā)明者A·法米, K·沃克, N·金迪, V·S·坎查拉, Y·王 申請人:諾丁漢大學