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印刷電路基板制造用剝離膜及印刷電路基板制造用剝離膜的制造方法_2

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范圍內(nèi),則即使 下述平滑化層12的膜厚比較薄,也能夠較確實(shí)地的填埋基材11的第1面111的凹凸,能夠 使平滑化層12的與基材11相反的面121更加平滑。其結(jié)果是,能夠進(jìn)一步確實(shí)地防止基 材11的第1面111的凹凸對(duì)在平滑化層12上形成的剝離劑層13的外表面131的影響。
[0052] 此外,第1面111的算術(shù)平均粗糙度Ra2和其最大突起高度Rp2在上述范圍內(nèi)的基 材11比較廉價(jià)且容易獲得。
[0053] 與此相反,如果第1面111的算術(shù)平均粗糙度1^2超出所述上限值,則由于由平滑 化層形成用組合物的構(gòu)成材料等充分填埋第1面111的凹凸困難,因此產(chǎn)生需要將剝離劑 層13的膜厚設(shè)置得比較厚的情況。
[0054] 另外,本說(shuō)明書(shū)中的基材11的第1面111的算術(shù)平均粗糙度RajP最大突起高度 Rp2為按照J(rèn)IS B0601-1994,利用彡7卜3社制表面粗糙度測(cè)定儀SV3000S4(觸針式)進(jìn)行 測(cè)定所求得的值。因此,本說(shuō)明書(shū)中,除非另有說(shuō)明,"算術(shù)平均粗糙度和最大突起高度"指 按照如上所述測(cè)定得到的值。
[0055] 此外,優(yōu)選基材11的第2面112的算術(shù)平均粗糙度Ra3S 10~200nm,且其最大 突起高度Rp3S 80~lOOOnm。特別地,更優(yōu)選第2面112的算術(shù)平均粗糙度Ra 3為15~ lOOnm,進(jìn)一步優(yōu)選第2面112的算術(shù)平均粗糙度Ra3S 20~50nm。此外,更優(yōu)選第2面112 的最大突起高度Rp3S 90~800nm,進(jìn)一步優(yōu)選第2面112的最大突起高度Rp 3為100~ 600nm〇
[0056] 如果第2面112的算術(shù)平均粗糙度Ra3和其最大突起高度Rp 3在上述范圍內(nèi),則在 將剝離膜1卷繞成卷狀時(shí),能夠適當(dāng)?shù)胤乐咕砝@偏差(卷吞壚札)等產(chǎn)生。此外,當(dāng)將剝離 膜1卷繞成卷狀保管時(shí),能夠防止發(fā)生粘連。具體而言,可以根據(jù)需要,以剝離劑層13在內(nèi) 側(cè)的方式,將剝離膜1在紙制、塑料制或金屬制等的卷芯材料上卷繞成卷狀保管。這時(shí),如 果第2面112的算術(shù)平均粗糙度Ra 3和其最大突起高度Rp 3在上述范圍內(nèi),則當(dāng)將剝離膜1 卷繞成卷狀時(shí),能夠良好地排除空氣,有效抑制卷繞偏差。因此,當(dāng)卷繞剝離膜1時(shí),無(wú)需提 高卷繞張力,能夠抑制由卷繞張力引起的卷芯部的變形。此外,如果卷狀剝離膜1中第2面 112的算術(shù)平均粗糙度Ra3和其最大突起高度Rp 3在上述范圍內(nèi),則能夠更加有效地防止由 于剝離劑層13與基材11的第2面112緊密貼合而產(chǎn)生的粘連的發(fā)生。因此,可以容易地 將卷狀剝離膜1卷開(kāi)。
[0057] 與此相反,如果第2面112的算術(shù)平均粗糙度Ra3未達(dá)到所述下限值,則當(dāng)卷繞成 卷狀時(shí),恐怕剝離膜1的表里(基材11的第2面112與剝離劑層13的外表面131)變得易 于發(fā)生粘連。此外,基材11的平均膜厚沒(méi)有特別地限定,但優(yōu)選10~300 μ m,更優(yōu)選15~ 200 μ m。由此,能夠使得剝離膜1的柔軟性適度,并且能夠得到對(duì)于撕裂或斷裂等的耐性特 別優(yōu)異的基材11。
[0058] 〈平滑化層12 >
[0059] 平滑化層12具有降低基材11的第1面111的凹凸對(duì)剝離劑層13的外表面131 的影響的功能。
[0060] 如圖1所示,平滑化層12設(shè)置在基材11的第1面111上。
[0061] 通過(guò)在基材11的第1面111上涂布平滑化層形成用組合物得到涂布層,向該涂布 層照射活化能射線并使其固化從而形成平滑化層12。
[0062] 平滑化層形成用組合物含有通過(guò)照射活化能射線而固化的活化能射線固化型化 合物。
[0063] 另外,照射活化能射線之前的平滑化層形成用組合物以室溫下未固化的狀態(tài)或半 固化的狀態(tài)存在。
[0064] 此外,所述平滑化層形成用組合物當(dāng)涂布于基材11的第1面111上時(shí)具有適當(dāng)?shù)?流動(dòng)性。因此,如果使用所述平滑化層形成用組合物,則能夠容易地填埋基材11的第1面 111的凹凸,能夠確實(shí)地保持該填埋狀態(tài)。其結(jié)果是,能夠防止基材11的凹凸對(duì)平滑化層 12的與基材11相反的面121 (以下也稱為"第3面121")一側(cè)的影響,能夠使平滑化層12 的第3面121平滑。因此,能夠使在平滑化層12的第3面121上形成的剝離劑層13的外 表面131更加平滑。
[0065] 此外,作為活化能射線固化型化合物,例如可以舉出,通過(guò)照射紫外線而固化的紫 外線固化型化合物,通過(guò)照射紅外線而固化的紅外線固化型化合物,通過(guò)照射X射線而固 化的X射線固化型化合物,通過(guò)照射電子束而固化的電子束固化型化合物,以及通過(guò)照射 可見(jiàn)光而固化的可見(jiàn)光固化型化合物等。其中,特別優(yōu)選紫外線固化型化合物。紫外線固 化型化合物具有適當(dāng)?shù)牧鲃?dòng)性。因此,能夠通過(guò)在基材11的第1面111上涂布平滑化層形 成用組合物而形成平滑面的狀態(tài)。因此,即使比較薄地形成平滑化層12,也能夠確實(shí)地填 埋基材11的第1面111的凹凸。其結(jié)果是,能夠較容易且確實(shí)地使平滑化層12的第3面 121平滑。
[0066] 作為能夠通過(guò)照射紫外線或電子束等的活化能射線而使其固化的活化能射線固 化型化合物,可以使用分子內(nèi)具有2個(gè)以上聚合性不飽和基團(tuán)的物質(zhì)。例如,可以舉出氨基 甲酸酯丙烯酸酯類化合物、多官能丙烯酸酯類化合物、聚酯丙烯酸酯類化合物、環(huán)氧丙烯酸 酯類化合物、多元醇丙烯酸酯類化合物等。其中,優(yōu)選氨基甲酸酯丙烯酸酯類化合物。
[0067] 氨基甲酸酯丙烯酸酯類化合物,例如,能夠通過(guò)用(甲基)丙烯酸將聚醚多元醇或 聚酯多元醇與聚異氰酸酯反應(yīng)得到的聚氨酯低聚物酯化而得到。具體地,可以舉出,苯基 縮水甘油基醚丙烯酸酯六亞甲基二異氰酸酯氨基甲酸酯預(yù)聚物、季戊四醇三丙烯酸酯六亞 甲基二異氰酸酯氨基甲酸酯預(yù)聚物、季戊四醇三丙烯酸酯甲苯二異氰酸酯氨基甲酸酯預(yù)聚 物、季戊四醇三丙烯酸酯異佛爾酮二異氰酸酯氨基甲酸酯預(yù)聚物、二季戊四醇五丙烯酸酯 六亞甲基二異氰酸酯聚氨酯預(yù)聚物等。
[0068] 多官能丙烯酸酯類化合物,例如可以舉出,1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、 1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙 烯酸酯、新戊二醇己二酸酯(甲基)丙烯酸酯、二環(huán)戊基二(甲基)丙烯酸酯、烯丙基化環(huán) 己基二(甲基)丙烯酸酯、異氰脲酸酯二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯 酸酯,二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三(丙烯酰氧基乙 基)異氰脲酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯。
[0069] 聚酯丙烯酸酯類化合物,例如,能夠通過(guò)用(甲基)丙烯酸將多元羧酸與多元醇縮 合得到的兩末端具有羥基的聚酯低聚物的羥基酯化而得到,或者通過(guò)用(甲基)丙烯酸將 多元羧酸與環(huán)氧烷加成得到的低聚物末端的羥基酯化而得到。
[0070] 環(huán)氧丙烯酸酯類化合物,例如,能夠通過(guò)比較低分子量的雙酚型環(huán)氧樹(shù)脂或酚醛 型環(huán)氧樹(shù)脂的環(huán)氧環(huán)與(甲基)丙烯酸反應(yīng)酯化而得到。
[0071] 多元醇丙烯酸酯類化合物,例如,能夠通過(guò)用(甲基)丙烯酸將聚醚多元醇的羥基 酯化而得到。
[0072] 此外,活化能射線固化型化合物的質(zhì)量平均分子量?jī)?yōu)選為950以下,更優(yōu)選質(zhì)量 平均分子量為300~700。由此,能夠使在涂布于基材11的第1面111并照射活化能射線 之前的平滑化層形成用組合物的粘度適當(dāng)。由此,平滑化層形成用組合物具有更加適當(dāng)?shù)?流動(dòng)性。通過(guò)使用這樣的平滑化層形成用組合物在基材11的第1面111 一側(cè)形成平滑化 層12,能夠更確實(shí)地填埋基材11的第1面111的凹凸。其結(jié)果是,能夠更確實(shí)地防止基材 11的凹凸對(duì)平滑化層12的第3面121的影響,能夠使平滑化層12的第3面121更加平滑。 因此,能夠特別防止基材11的凹凸對(duì)在平滑化層12上形成的剝離劑層13的外表面的影 響,能夠使得剝離劑層13的外表面131更加平滑。
[0073] 特別地,即使基材11的第1面111的表面凹凸比較大,由于通過(guò)如上所述的平滑 化層形成用組合物的作用、效果,能夠適當(dāng)?shù)靥盥竦?面111的凹凸,因此能夠得到剝離劑 層13的外表面131的平滑性特別優(yōu)異的剝離膜1。
[0074] 與此相反,如果活化能射線固化型化合物的質(zhì)量平均分子量未達(dá)到所述下限值, 則具有平滑化層形成用組合物的粘度下降,使平滑化層12固化的時(shí)間變得比較長(zhǎng)的情況。 并且,如果活化能射線固化型化合物的質(zhì)量平均分子量超過(guò)所述上限值,則由于活化能射 線固化型化合物的種類等,使得平滑化層形成用組合物的粘度變得比較高,因此具有為了 調(diào)整粘度而必須添加粘度調(diào)整劑等的情況。
[0075] 此外,除了活化能射線固化型化合物,平滑化層形成用組合物還可以根據(jù)需要含 有溶劑。由此,能夠容易地調(diào)整在涂布于基材11的第1面111時(shí)的平滑化層形成用組合物 的粘度。
[0076] 作為溶劑,例如可以舉出,甲苯或二甲苯等的芳香烴類、乙酸乙酯或乙酸丁酯等的 脂肪酸酯類、甲基乙基酮或甲基異丁基酮等的酮類、甲醇、乙醇和異丙醇等的醇類等的有機(jī) 溶劑等,可以使用其中1種或2種以上組合使用。由此,易于適當(dāng)?shù)卦O(shè)定涂布于基材11的 第1面111并照射活化能射線之前的平滑化層形成用組合物的粘度。
[0077] 另外,除了如上所述的成分,平滑化層形成用組合物還可以含有其它成分。作為該 其它成分可以舉出交聯(lián)劑、光聚合引發(fā)劑、粘度調(diào)整劑、催化劑、染料、分散劑、抗靜電劑、固 化劑等。此外,在含有所述其它成分的情況下,在平滑化層形成用組合物中(按固體成分換 算),所述其它成分的含量?jī)?yōu)選〇. 1~10質(zhì)量%。
[0078] 此外,在含有溶劑的平滑化層形成用組合物中的活化能射線固化型化合物的含量 沒(méi)有特別地限定,但優(yōu)選〇. 5~60質(zhì)量%,更優(yōu)選1~45質(zhì)量%。由此,易于使得平滑化 層形成用組合物的粘度適當(dāng)。
[0079] 此外,在平滑化層形成用組合物中(按固體成分換算)的活化能射線固化型化合 物的含量沒(méi)有特別地限定,但優(yōu)選90質(zhì)量%以上,更優(yōu)選95質(zhì)量%以上。由此,能夠制得 平滑化層形成用組合物的固化性特別優(yōu)異的物質(zhì)。
[0080] 此外,優(yōu)選平滑化層12的第3面121的算術(shù)平均粗糙度Ra4S Snm以下,并且其最 大突起高度Rp4S 50nm以下。特別地,更優(yōu)選第3面121的算數(shù)平均粗糙度Ra 4為6nm以 下。此外,更優(yōu)選第3面121的最大突起高度RpA 40nm以下。
[0081] 如果第3面121的算術(shù)平均粗糙度RajP最大突起高度Rp 4在所述范圍內(nèi),則能夠 更加確實(shí)地防止基材11的表面凹凸對(duì)剝離劑層13的外表面131的影響。
[0082] 與此相反,如果第3面121的算術(shù)平均粗糙度Ra4未達(dá)到所述下限值,則由于平滑 化層12的構(gòu)成材料等,與剝離劑層13的密合性可能下降。另一方面,如果第3面121的算 術(shù)平均粗糙度1^4超出所述上限值,則產(chǎn)生在剝離劑層13與平滑化層12之間需要進(jìn)一步 設(shè)置新的平滑化層的情況。
[0083] -方面,如果第3面121的最大突起高度Rp4未達(dá)到所述下限值,則為了使與剝離 劑層13的密合性增加,產(chǎn)生需要在平滑化層12的第3面121上實(shí)施使得密合性增加的處 理的情況。另一方面,如果第3面121的最大突起高度1^ 4超出所述上限值,則產(chǎn)生需要在 剝離劑層13與平滑化
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